专利名称：一种激光检测装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及真空等离子体设备技术领域，具体涉及一种应用于真空等离子体设备的激光检测装置。
背景技术：
在淀积和溅射等等离子体工艺中，所用的载片台需要转动，使薄膜的厚度均勻一致。通常在腔室内底部加上一个磁性开关或接近开关，当载片台到达预定位置时，产生一个到位信号，使载片台固定在指定位置，取放芯片。传统的方法，测量和定位精度差、拆装维护不方便，在等离子工艺条件下，易产生反应物污染。
发明内容
本发明的目的在于提供一种激光检测装置，在淀积和溅射等等离子体工艺中，实现高精度、快速检测和定位。为了达到上述目的，本发明采用的技术方案为
一种激光检测装置，包括激光器筒体和设置在所述激光器筒体下方的激光器，所述激光器筒体下端设有透光玻璃；所述激光检测装置设置在真空室下部。上述方案中，所述激光器筒体为圆柱筒状。上述方案中，所述激光器筒体通过激光器支架与所述激光器连接。上述方案中，所述激光器与真空室载片台的距离为5 5000mm。上述方案中，所述透光玻璃厚度为1 20mm，直径为1 200mm。上述方案中，所述透光玻璃的材料为石英或聚碳酸酯。上述方案中，所述激光器筒体和激光器支架的材质为金属材料，所述金属材料为铝合金或不锈钢。上述方案中，所述激光器检测移动物体精度的速度为0. 01 10mm/S，所述激光器检测固定物体的检测精度0. 001 10mm。与现有技术方案相比，本发明采用的技术方案产生的有益效果如下
本发明设置在真空室外部，实现动态检测载片台位置和移动速度，在等离子体工艺中可以保持真空腔室对真空度的要求；保持激光器结构和信号采集不会受等离子电磁场的干扰；等离子体启辉条件下，不会污染激光检测装置，同时便于操作和维护。
图1为本发明实施例提供的进气结构的示意图。
具体实施例方式下面结合附图和实施例对本发明技术方案进行详细描述。如图1所示，本发明实施例提供一种激光检测装置，安装在真空室2的下部，包括圆柱筒状的激光器筒体3和设置在激光器筒体3下方的激光器8。激光器筒体3通过激光
3器支架4与激光器8连接，激光器8包括发射器6和接收器7 ；激光器筒体3下端设有透光玻璃5，透光玻璃的材料为石英或聚碳酸酯，透光玻璃厚度为1 20mm，直径为1 200mm。 激光器8与真空室载片台1的距离为5 5000mm。激光器筒体3和激光器支架4的材质为铝合金或不锈钢等金属材料。激光器8检测移动物体精度的速度为0. 01 lOmm/s，激光器 8检测固定物体的检测精度0. OOl 10mm。本发明在工作时，发射器6发射光通过透光玻璃5，到达载片台1上的被检测物体， 激光被反射由接收器7接受，获得信号，接入计算机实现检测和控制。当载片台1在预定位置停止，然后取放芯片，为工艺实验做好准备。激光器8检测距离在1 5000mm范围，检测精度由激光器8和安装支架4的精度、以及测量的距离决定，为0. Ol 10mm。激光器支架 4安装时，确保激光检测的位置在筒体的中间部分，可保证测量的清晰度和精度，以及测量的重复性。本发明可以在真空腔室外部安装，激光器支架的安装距离可以调整，实现动态检测载片台位置和移动速度。本发明还可以保持真空腔室对真空度的要求，保持激光器结构和信号采集不会受等离子电磁场的干扰，在等离子体启辉条件下，不会污染激光检测装置。以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种激光检测装置，其特征在于包括激光器筒体和设置在所述激光器筒体下方的激光器，所述激光器筒体下端设有透光玻璃；所述激光检测装置设置在真空室下部。
2.如权利要求1所述的激光检测装置，其特征在于所述激光器筒体为圆柱筒状。
3.如权利要求1所述的激光检测装置，其特征在于所述激光器筒体通过激光器支架与所述激光器连接。
4.如权利要求1所述的激光检测装置，其特征在于所述激光器与真空室载片台的距离为5 5000mm。
5.如权利要求1所述的激光检测装置，其特征在于所述透光玻璃厚度为1 20mm，直径为1 200mm。
6.如权利要求1所述的激光检测装置，其特征在于所述透光玻璃的材料为石英或聚碳酸酯。
7.如权利要求1所述的激光检测装置，其特征在于所述激光器筒体和激光器支架的材质为金属材料，所述金属材料为铝合金或不锈钢。
8.如权利要求1所述的激光检测装置，其特征在于所述激光器检测移动物体精度的速度为0. 01 lOmm/s，所述激光器检测固定物体的检测精度0. 001 10mm。
全文摘要
本发明涉及真空等离子体设备技术领域，具体涉及一种应用于真空等离子体设备的激光检测装置。所述激光检测装置，包括激光器筒体和设置在所述激光器筒体下方的激光器，所述激光器筒体下端设有透光玻璃；所述激光检测装置设置在真空室下部。本发明设置在真空室外部，实现动态检测载片台位置和移动速度，在等离子体工艺中可以保持真空腔室对真空度的要求；保持激光器结构和信号采集不会受等离子电磁场的干扰；等离子体启辉条件下，不会污染激光检测装置，同时便于操作和维护。
文档编号G01P3/36GK102506712SQ20111034536
公开日2012年6月20日 申请日期2011年11月4日 优先权日2011年11月4日
发明者刘训春, 夏洋, 席峰, 张庆钊, 李勇滔, 李楠, 王佳 申请人:中国科学院微电子研究所
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