专利名称：图形基板的缺陷修正方法、修正装置和图形基板制造方法
技术领域：
本发明涉及修正图形基板的缺陷的缺陷修正方法、缺陷修正装置和图形基板的制造方法。
背景技术：
在液晶显示器用滤色片的制造工序中，为了提高成品率而修正滤色片基板中的缺陷。关于该缺陷修正方法，有通过在针的尖端蘸上抗蚀剂并滴到缺陷部分上来进行修正的方法。但是，在该方法中，由于滴下量随抗蚀剂的粘度而变化，因此难以控制滴下量和修正精度，难以稳定地进行修正。并且，需要干燥工序，因此修正时间长，生产率低。
另外，作为其它的缺陷修正方法，有膜转印法。在该方法中，使具有着色层的膜紧贴在滤色片基板的无着色层的白缺陷部分，并从膜转印着色层进行缺陷的修正(例如，专利文献1)。
用图14说明该方法的问题点。图14是表示滤色片基板结构的剖面放大图。图14示出了滤色片基板的一部分结构。滤色片用的基板6的黑矩阵71(以下称BM)通常设置成矩阵状。并且，在BM之间设置有红色、绿色、蓝色的着色层70。由于该着色层70的一部分叠加在BM71之上，因此成为有凹凸的结构。例如，在树脂黑矩阵结构的滤色片中，BM和着色层分别为1μm左右，因此表面的凹凸约为1μm。因此，有时膜部分地附着在着色层70的凸部上，不能使膜正确地紧贴在有凹部的缺陷部分。有时不能使膜完全紧贴在着色层的白缺陷部分上，难以稳定地对着色层进行热转印来修正缺陷。另外，在现有的转印方法中，为使膜转印到基板上，采用具有与基板侧的着色层不同的材质的多层结构。因此，像素由与基板侧的着色层不同的材质来形成，有可能对显示装置的质量产生影响。
另外，还公开有使用2种材料的图形的修正方法(专利文献2)。在这种方法中，以水溶性材料或者油溶性材料的一种作为保护膜来覆盖基板。然后，除去保护膜，使缺陷部分露出来。以使用了另一种材料的修正用材料填补了露出的部分之后，除去保护膜，完成修正。在该方法中，由于使用了2种材料，因此有可能使工序变得复杂了。并且，有可能不能完全除去在基板表面上附着的材料。
另外，还公开有修正缺陷的其它方法(专利文献3)。在该缺陷修正方法中，除去与1个像素相当的颜色材料，在缺陷像素上覆盖具有与1个像素对应的孔的掩膜。然后，用分配器涂敷颜色材料，用刮刀使颜色材料附着在缺陷像素上。在该方法中，可以用刮刀除去多余的颜色材料。
在上述的缺陷修正方法中，由于用于使掩膜位置吻合的时间变长，因此生产率低。并且，由于在刮刀上使用了海绵，因此有可能不能使缺陷部分附着的颜色材料恒定。此时，基板表面附着的颜色材料的厚度不均。而且，有时树脂进入到掩膜和基板之间，在缺陷部分以外也附着了溶液。因此，在该缺陷修正方法中，有不能稳定地修正缺陷的问题。
在像上述那样涂敷溶液修正缺陷的情况下，最好用粘度高的溶液。即，在使用粘度低的溶液的情况下，溶液会扩展到涂敷区域的周围，附着到缺陷部分以外。在缺陷部分以外涂敷了溶液的情况下，该部分有可能成为新的缺陷，不能稳定地进行缺陷的修正。另外，如果使用粘度高的溶液，则溶液有可能进入不到缺陷部分，附着不到基板上。这样，有修正部位从基板上剥落的情况。并且，有缺陷部分涂敷的溶液量产生不均的可能。这在纵横比高的修正孔上表现明显。因此，在现有的缺陷修正方法中，在使用粘度高的溶液的情况下，例如，对于小缺陷，有溶液不能充分进入，修正部位剥落的可能。据此，在现有的缺陷修正方法中，不能使用粘度高的溶液，不能稳定地修正缺陷。
修正用的溶液一般使用在溶剂中溶入了含有着色材料的树脂的溶液。另外，在缺陷部分涂敷了溶液后，进行干燥使溶剂蒸发。据此，在基板上只留下含有着色材料的树脂。在使用了粘度低的溶剂的情况下，能一次附着的树脂的厚度变薄。在一次不能附着足够的树脂的情况下，必须反复进行涂敷工序和干燥工序。因此，生产率低，同时由于反复进行涂敷工序和干燥工序，因而修正部位的厚度偏差大。在现有的缺陷修正方法中，有不能稳定地修正缺陷的问题。
日本特开平11-230861号公报。
日本特开平2-262603号公报[专利文献3]日本特开昭64-31186号公报发明内容这样，在现有的缺陷修正方法中，有不能稳定地修正图形基板的缺陷这样的问题。
本发明的缺陷修正装置，是除去形成了图形的基板上的缺陷的缺陷修正装置，包括发出脉冲激光的脉冲激光光源(例如，本发明实施例中的短脉冲激光光源1)、以及与上述基板相对设置的膜(例如，本发明实施例中的膜5)，通过对上述膜照射来自上述脉冲激光光源的脉冲激光，用激光烧蚀大致同时地除去上述膜的一部分和缺陷。由此，能以简单的结构除去图形基板上的缺陷。
在上述的缺陷检查装置中，也可以通过照射脉冲激光使上述膜变�。⒂眉す馍帐创笾峦钡爻ド鲜瞿さ囊徊糠趾腿毕�。
在上述缺陷修正装置中，还包括将上述膜变更为具有转印到上述基板上的转印层(例如，本发明实施例中的着色层51)的膜的转换部件(例如，本发明实施例中的膜卷轴转动部件14等)，对具有上述转印层的膜照射上述脉冲激光，并将上述转印层转印到上述基板。由此，能以简单的结构稳定地修正白缺陷和黑缺陷。
在上述的缺陷修正装置中，也可以把上述转印层转印到除去了上述缺陷的部位上。由此，能快速地进行缺陷修正。
本发明的缺陷修正装置是在上述缺陷修正装置中还包括使与修正上述基板的图形相对应的修正液附着到基板上的喷嘴，并使上述修正液从除去了上述膜的部分附着到基板上来修正缺陷的装置。据此，能正确地修正图形。
本发明的缺陷修正装置是在上述缺陷检查装置中还包括在除去上述膜部位的位置具有可移动的转印层的膜，并使上述转印层从除去了上述膜的部分转印到上述基板上来修正缺陷的装置。
本发明的缺陷修正装置，是把图形转印到形成了图形的基板的缺陷部分上修正缺陷的缺陷修正装置，包括在与上述基板相对的面上具有转印到该基板的转印层、并接近上述基板的膜，以及发出照射与上述缺陷部分相对应的膜的脉冲激光的脉冲激光光源，并对具有上述转印层的膜照射来自上述脉冲激光光源的脉冲激光，把转印层转印到上述基板的缺陷部分。由此，能在缺陷部分正确地形成图形，从而能进行稳定的修正。
上述缺陷修正装置的优选实施例是上述基板为具有遮光膜和在上述遮光膜之上形成的抗蚀剂图形的光掩模用基板，修正上述抗蚀剂图形的缺陷的例子。由此，能修正上述光掩模用基板的图形。
本发明的缺陷修正装置，是修正形成了图形的基板的缺陷的缺陷修正装置，包括与上述基板相对设置的膜，发出照射上述膜并在上述膜上设置开口部的脉冲激光的脉冲激光光源，以及能移动到上述开口部的位置的、使与修正上述基板的图形相对应的修正液附着到基板上的喷嘴；使上述修正液从除去了上述膜的部分附着到基板上进行缺陷修正。由此，能高精度地附着图形，从而能正确地进行图形修正。
本发明的缺陷修正装置，是修正形成了图形的基板的缺陷的缺陷修正装置，包括与上述基板相对设置的膜，发出照射上述膜并在上述膜上设置开口部的脉冲激光的脉冲激光光源，以及能移动到与上述开口部相对应的位置的、具有转印层的膜(例如，本发明实施例中的膜18)；经由上述开口部使上述转印层转印到上述基板进行缺陷修正。由此，能以简单的结构正确地修正缺陷。
上述缺陷修正装置的一个优选例子，还包括能移动到与上述开口部相对应的位置的加热块(例如，本发明实施例中的加热块20)，用上述加热块使具有上述转印层的膜压到上述基板上转印转印层。由此，能以简单的结构使转印层密合性良好地进行转印。
在上述缺陷修正装置中，上述加热块也可以具有与上述开口部相对应的凸部，用上述凸部使上述基板和具有上述转印层的膜压在一起，据此，能提高密合性。
在上述缺陷修正装置中，也可以还包括对设置了上述开口部的膜进行固定的固定部件。由此，能防止开口部的错位。
在上述缺陷修正装置中，最好具有上述转印层的膜还具有吸收上述脉冲激光的吸收层(例如，本发明实施例中的膨胀层23)，向上述吸收层照射脉冲激光，把上述转印层转印到上述基板。由此，能高效地转印转印层。
在上述缺陷修正装置中，最好在上述吸收层和上述转印层之间具有在把上述转印层转印到上述基板后，把上述吸收层从上述转印层上分开的分离层。由此，可以防止吸收层附着在基板上，从而能正确地修正缺陷。
本发明的缺陷修正装置的特征是在上述缺陷修正装置中，照射上述脉冲激光，除去已除去了上述膜的部分的周围部分的上述修正液。由此，能正确地修正图形。
在本发明缺陷修正装置中，最好还包括向上述膜或者具有上述转印层的膜喷射气体的喷射部件，用上述喷射部件使上述膜或者具有上述转印层的膜接近上述基板。由此，能使膜与基板高精度地接近。
在上述缺陷修正装置中，最好还包括使来自上述脉冲激光光源的脉冲激光成形的光束成形机构(例如，本发明实施例中的光束成形机构2)，使由上述光束成形机构形成的脉冲激光照射到上述膜或者具有上述转印层的膜。由此，能高精度地修正缺陷。
在上述缺陷修正装置中，最好还包括与来自上述脉冲激光光源的脉冲激光大致在同一轴上、向上述基板照射光的观察用光源，以及检测照射上述基板的、来自上述观察用光源的光的检测部件。由此，能正确地向缺陷检测部位照射光。
也可以是，具有上述转印层的膜还具有使上述观察用光源的光透过的透明层(例如，本发明实施例中的透明层55)，还具有输送具有上述转印层的膜的膜卷轴(例如，本发明实施例的膜卷轴8)，使得照射上述光的位置从上述透明层变更为上述转印层。由此，能以简单的结构防止缺陷检测时和缺陷修正时的位置错位。
在上述缺陷修正装置中，还可以包括选择来自上述观察用光源的光的波长的波长可变滤光片，用从上述波长可变滤光片射出的光加热上述转印层。由此，能提高基板和转印层的密合性。
本发明的缺陷修正方法，是除去形成了图形的基板上的缺陷并修正缺陷的缺陷修正方法，包括检测基板上的缺陷的步骤、对与上述基板相对设置的膜照射脉冲激光并用激光烧蚀大致同时地除去上述膜的一部分和上述缺陷的步骤。
在上述缺陷修正方法中，还可以包括通过照射脉冲激光使上述膜变薄的步骤，对上述膜变薄的部分照射脉冲激光，用激光烧蚀大致同时地除去上述膜的一部分和上述缺陷。
在上述缺陷修正方法中，最好还包括把上述膜变更为具有转印到上述基板的转印层的膜的步骤、以及对具有上述转印层的膜照射脉冲激光并将转印层转印到上述基板的步骤。由此，能修正任意的图形。
本发明的缺陷修正方法是在上述缺陷修正方法中，还包括使与修正的图形相对应的修正液从除去了上述膜的部分附着到上述基板的步骤、以及从上述基板去掉上述膜的步骤的方法。由此，能修正任意的图形。
本发明的缺陷修正方法是将图形转印到形成了图形的基板的缺陷部分上来修正缺陷的缺陷修正方法，包括检测基板上的缺陷的步骤、使在与上述基板相对的面上具有转印到该基板的转印层的膜接近的步骤、以及对上述膜照射脉冲激光从而将上述转印层转印到上述基板的缺陷部分的步骤。由此，能稳定地进行缺陷的修正。
本发明的缺陷修正方法是修正形成了图形的基板的缺陷的缺陷修正方法，包括检测基板上的缺陷的步骤、使膜接近上述基板的步骤、对上述膜照射脉冲激光设置开口部的步骤、经由上述开口部使依照修正的图形的修正液附着到上述基板的缺陷部分的步骤、以及从上述基板去掉上述膜的步骤。由此，能使图形正确地附着到缺陷部分。
本发明的缺陷修正方法是修正形成了图形的基板的缺陷的缺陷修正方法，包括检测基板上的缺陷的步骤、使膜与上述基板相对的步骤、对上述膜照射脉冲激光设置开口部的步骤、在上述开口部的位置设置具有转印层的膜的步骤、以及经由上述开口部把转印层转印到基板的步骤。由此，能防止转印层转印到开口部以外的部分上，从而能以简单的结构正确地修正缺陷。
在上述缺陷修正方法中，最好还包括除去上述开口部的周围的上述膜，并设置用于除去在上述基板和具有上述转印层的膜之间的空气的空气除去部的步骤，在上述开口部和上述空气除去部的位置上，设置具有上述转印层的膜。由此，能提高转印层的密合性。
上述缺陷修正方法的优选实施例特征是对上述膜或者具有上述转印层的膜喷射气体，使其接近上述基板。由此，能形成正确的图形。
本发明的图形基板制造方法，包括在基板上形成图形的步骤、检测形成了图形的基板上的缺陷的步骤、以及对接近上述基板的膜照射脉冲激光并用激光烧蚀大致同时地除去上述膜的一部分和上述缺陷的步骤。由此，能制造无缺陷的图形基板。
在上述图形基板制造方法中，也可以包括将上述膜变更为具有转印到上述基板的转印层的膜的步骤、以及向具有上述转印层的膜照射脉冲激光并将上述转印层转印到上述基板的步骤。由此，能正确地制造具有图形的图形基板。
本发明的图形基板制造方法是在上述图形基板制造方法中，还包括把与修正的图形相对应的修正液从除去了上述膜的部分附着到上述基板的步骤、以及从上述基板去掉上述膜的步骤的方法。由此，能在缺陷部分形成任意的图形。
本发明的图形基板的制造方法，是把图形转印到形成了图形的基板的缺陷部分形成图形的图形基板制造方法，包括检测形成了图形的基板上的缺陷的步骤、使在与上述基板相对的面上具有转印到该基板的转印层的膜接近的步骤、以及对上述膜照射脉冲激光把上述转印层转印到上述基板的缺陷部分的步骤。由此，能稳定地转印图形。
本发明的图形基板制造方法，是制造形成了图形的基板的图形基板制造方法，包括在基板上形成图形的步骤、检测基板上的缺陷的步骤、使膜与上述基板相对的步骤、对上述膜照射脉冲激光设置开口部的步骤、在上述开口部的位置设置具有转印层的膜的步骤、经由上述开口部把上述转印层转印到上述基板的步骤、以及从上述基板去掉上述膜的步骤。
本发明的图形基板制造方法，是修正形成了图形的基板的缺陷的图形基板制造方法，包括在基板上形成图形的步骤、检测基板上的缺陷的步骤、使膜接近上述基板的步骤、对上述膜照射脉冲激光设置开口部的步骤，经由上述开口部使依照修正的图形的修正液附着到上述基板的缺陷部分的步骤、以及从上述基板去掉上述膜的步骤。由此，能在基板上形成正确的图形。
在上述图形基板制造方法中，最好还包括除去上述开口部的周围的上述膜、并设置用于除去在上述基板和具有上述转印层的膜之间的空气的空气除去部的步骤，在上述开口部和上述空气除去部的位置设置具有上述转印层的膜。由此，能提高转印层的密合性。
上述图形制造方法的优选实施例的特征在于对上述膜或者具有上述转印层的膜喷射气体，使其接近上述基板。
本发明的缺陷修正装置是修正形成了图形的基板(例如，本发明实施方式中的基板6)的缺陷的缺陷修正装置，包括与上述基板相对设置的膜(例如，本发明实施方式中的膜5)；发出照射上述膜、在上述膜上设置开口部的激光的激光光源(例如，本发明实施方式中的脉冲激光光源1)；经由上述开口部把缺陷修正用的溶液涂敷到上述基板的缺陷部分的涂敷部件(例如，本发明实施方式中的按压部30)；以及通过对上述基板进行按压，把经由上述开口部涂敷到上述基板上的溶液压入缺陷部分的按压部件(例如，本发明实施方式中的按压部30)。据此，能稳定地修正缺陷。特别是即使在使用了粘度高的溶液的情况下，也能稳定地使溶液附着到基板上。并且，由于能容易地使开口部和缺陷进行位置对准，因此能高效地修正缺陷。
本发明的缺陷修正装置是上述的缺陷修正装置，其特征在于还包括设置成能在与上述基板大致平行的方向上移动、除去在上述开口部之上设置的上述溶液的除去部件(例如，本发明实施方式9中的刮板31)，使上述除去部件移动，使得其横穿上述开口部，调整在上述开口部之上设置的溶液的高度。由此，能容易地控制溶液的涂敷量，从而能稳定地修正缺陷。
本发明的缺陷修正装置是上述的缺陷修正装置，其特征在于上述除去部件具有能把上述膜按压到上述基板上的刮板，刮出并除去在上述开口部之上设置的上述溶液。由此，能容易地控制溶液的涂敷量，从而能稳定地修正缺陷。
本发明的缺陷修正装置是上述的缺陷修正装置，其特征在于使上述按压部件向上述开口部的外侧移动，在用上述按压部件把上述膜按压到上述基板上的状态下，由上述除去部件除去在上述开口部之上设置的上述溶液。据此，膜的开口部不会偏离缺陷位置，从而能进行稳定的修正缺陷。
本发明的缺陷修正装置是上述的缺陷修正装置，其特征在于上述除去部件包括在上述按压部件的底面设置的凹陷(本发明实施方式10中的凹陷34)，在把上述按压部件按压到上述基板上的状态下，使其在与上述基板大致平行的方向上移动，用上述凹陷除去在上述开口部之上设置的上述溶液。
本发明的缺陷修正装置是上述的缺陷修正装置，其特征在于上述按压部件具有设置成能够转动使得其横穿上述开口部地进行移动的辊子，(本发明实施方式11中的辊子32)，通过使上述辊子转动，除去在上述开口部之上设置的上述溶液，调整在上述开口部之上设置的上述溶液的高度。由此，能以简单的结构稳定地修正缺陷。
本发明的缺陷修正装置是上述的缺陷修正装置，其特征在于还包括在上述辊子和上述膜之间设置的保护膜(例如，本发明实施方式12中的保护膜33)，经由上述保护膜，除去在上述开口部之上设置的上述溶液。由此，能提供能防止溶液附着在辊子上，从而能容易且稳定地修正缺陷的缺陷修正装置。
本发明的缺陷修正装置是上述的缺陷修正装置，其特征在于上述激光光源是脉冲激光光源，通过照射来自上述脉冲激光光源的脉冲激光，经由上述膜的开口部除去上述基板的缺陷，在除去了上述缺陷的部分涂敷上述溶液。由此，能稳定地修正与缺陷同时除去的图形。
另外，在上述缺陷修正装置中，涂敷部件、按压部件和除去部件不必分别由不同的构件构成，也可以由相同的构件构成。
本发明的缺陷修正方法是修正形成了图形的基板的缺陷的缺陷修正方法，包括检测上述基板上的缺陷的步骤；使膜与上述基板相对的步骤；对上述膜照射脉冲激光、设置与上述缺陷对应的开口部的步骤；经由上述开口部在上述基板的缺陷部分涂敷缺陷修正用的溶液的步骤；把经由上述开口部在上述基板上所涂敷的上述溶液压入缺陷部分的步骤；以及从上述基板去掉上述膜的步骤。由此，能稳定地修正缺陷。特别是在使用了粘度高的溶液的情况下，能使溶液稳定地附着在基板上。并且，由于能容易地使开口部和缺陷进行位置对准，因此能高效地修正缺陷。
本发明的缺陷修正方法是上述的缺陷修正方法，在涂敷上述溶液的步骤之后，还包括除去在上述开口部之上设置的上述溶液，调整上述溶液的高度的步骤。由此，能容易地控制溶液的涂敷量，从而能稳定地修正缺陷。
本发明的缺陷修正方法是上述的缺陷修正方法，其特征在于在除去上述溶液的步骤中，在使上述膜紧贴在基板上的状态下，刮出在上述开口部之上设置的上述溶液，并除去上述溶液。由此，开口部不会偏离缺陷位置，从而能稳定地修正缺陷。
本发明的图形基板制造方法，包括在基板上形成图形的步骤；检测上述基板上的图形的缺陷的步骤；使膜与上述基板相对的步骤；对上述膜照射脉冲激光，设置与上述缺陷对应的开口部的步骤；经由上述开口部把缺陷修正用的溶液涂敷到上述基板的缺陷部分的步骤；把经由上述开口部在上述基板上所涂敷的上述溶液压入缺陷部分的步骤；以及从上述基板去掉上述膜的步骤。由此，能稳定地修正缺陷。特别是即使在使用了粘度高的溶液的情况下，也能稳定地使溶液附着到基板上。并且，由于在缺陷部分设置开口部，因此能高生产率地制造图形基板。
本发明的图形基板制造方法是上述的图形基板制造方法，在涂敷上述溶液的步骤之后，还包括除去在上述开口部之上设置的上述溶液，调整上述溶液的高度的步骤。由此，能容易地控制溶液的涂敷量，从而能稳定地修正缺陷。
本发明实施方式的图形基板制造方法是上述的图形基板制造方法，其特征在于在除去上述溶液的步骤中，在使上述膜紧贴在基板上的状态下，刮出在上述开口部之上设置的上述溶液，并除去上述溶液。由此，开口部不会偏离缺陷位置，从而能稳定地修正缺陷。
另外，在上述的缺陷修正方法和图形基板制造方法中，除非指定，否则各个步骤也可以不按上述的顺序进行处理。
本发明可以提供以简单的结构能稳定地进行缺陷的修正的缺陷修正方法、缺陷修正装置和图形基板制造方法。
图1表示本发明实施例1的缺陷修正装置的结构。
图2是表示本发明实施例1的缺陷修正装置的膜的结构的俯视图。
图3A～图3C是表示本发明实施例1的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图4是表示本发明实施例1的缺陷修正装置的膜的结构的俯视图。
图5A～图5B是表示本发明实施例1的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图6是表示本发明实施例2的缺陷修正装置的膜的结构的俯视图。
图7表示本发明实施例3的缺陷修正装置的结构。
图8A～图8B是表示本发明实施例3的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图9A～图9C是表示本发明实施例4的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图10D～图10F是表示本发明实施例4的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图11A～图11C是表示本发明实施例4的缺陷修正装置的其它缺陷部分的结构的剖面放大图。
图12A～图12C是表示本发明实施例4的缺陷修正装置的其它缺陷部分的结构的剖面放大图。
图13A～图13D是表示本发明实施例5的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图14是表示滤色片基板结构的剖面放大图。
图15表示本发明实施例6的缺陷修正装置的结构。
图16是表示具有本发明实施例6的缺陷修正装置中的开口部和转印层的膜的结构的俯视图。
图17是表示具有本发明实施例6的转印层的膜的结构的剖面图。
图18A～图18B是表示本发明实施例6的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图19是表示本发明实施例6的缺陷修正装置中的加热块的结构的剖面图。
图20是表示本发明实施例7的缺陷修正装置的膜的开口部和空气除去部的结构的俯视图。
图21是表示本发明实施例7的缺陷修正装置中的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图22是表示本发明实施例7的缺陷修正装置的膜的开口部和空气除去部的其它结构的俯视图。
图23是表示本发明实施例7的缺陷修正装置的膜的开口部和空气除去部的其它结构的俯视图。
图24表示本发明实施例8的缺陷修正装置的结构。
图25A～图25C是表示本发明实施例8的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图26表示本发明实施例9的缺陷修正装置的结构。
图27A～图27B是表示本发明实施例9的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图28表示本发明实施例9的缺陷修正装置的结构。
图29A～图29B是表示本发明实施例9的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图30A～图30B是表示本发明实施例9的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图31A～图31B是表示本发明实施例9的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图32是表示本发明实施例10的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图33表示本发明实施例11的缺陷修正装置的结构。
图34是表示本发明实施例11的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
图35表示本发明实施例12的缺陷修正装置的结构。
图36是表示本发明实施例12的缺陷修正装置的缺陷部分的结构的剖面放大图。
具体实施例方式
以下参照
本发明的实施例。以下的说明表示本发明的优选实施例，本发明的范围并不限于以下的实施例。在以下的说明中，赋予相同符号的部分实质上表示同样的内容。
用图1说明本实施例的图形基板的缺陷修正装置。图1表示缺陷修正装置的结构。1是短脉冲激光光源，2是光束成形机构，3是半透明反射镜，4是物镜，5是膜，6是基板，7是载物台，8是膜卷轴，9是照明光源，10是滤光片，11是半透明反射镜，12是CCD照相机，13是气体喷射部件，14是膜卷轴转动部件。
在本实施例中，作为修正缺陷的对象的基板6，是用于液晶显示装置的液晶板的滤色片基板。该滤色片用基板6通常在透明的玻璃基板之上设置有着色层和黑矩阵。将该基板6水平放置在载物台7之上，并判定滤色片基板的各个像素是否有缺陷。照射激光，修正缺陷部位的像素。载物台7是具有XY驱动机构(图中未示出)的XY载物台，可以将基板6移动到任意的位置。本实施例的缺陷修正装置，具有用于检测基板6的缺陷的缺陷检测机构和用于修正检测出的缺陷的缺陷修正机构。具体地讲，通过缺陷检测机构确定缺陷的位置之后，通过缺陷修正机构对基板6的缺陷部分照射激光来修正缺陷。并且，图示的缺陷检测机构和缺陷修正机构的光学系统等的结构只是一个例子，也可以具有其它的滤色片、透镜、反射镜等光学部件。
首先，说明缺陷检测机构。使用照明光源9作为观察用光源进行检测。照明光源9发出用于对基板6的表面进行照明的白色光。由照明光源9发出的观察用光透过滤色片10而入射到半透明反射镜11。滤光片10是波长可变滤光片，可以只对预定的波长进行遮光。在此，滤光片10修正波长，使之与膜5的透射率相匹配，检测的光也可以是白色光。入射到半透明反射镜11的光向基板6的方向反射。该光被半透明反射镜3反射并入射到物镜4。在物镜4和基板6之间与基板6相对地设置有由厚约10μm的聚酰亚胺构成的膜5。并且，由物镜4聚焦的光透过膜5入射到基板6的表面，对基板的一部分进行照明。由基板6反射的光透过膜5、物镜4、半透明反射镜3和半透明反射镜11并入射到CCD照相机12。CCD照相机12基于由基板6表面反射的反射光来检测图像。CCD照相机12连接到个人计算机(PC)等信息处理装置，基于检测出的图像判定基板6是否有缺陷。例如，可以使用与检测出的基准模板相比较的模板比对方式(Die-to-Die)。检测出的图像与基准模板不同时，判定为缺陷部分。在该缺陷检测机构中，能区分检测不透明的黑缺陷和透明的白缺陷。另外，PC与载物台7的XY驱动机构相连，根据缺陷检测时载物台7的位置指定检测部位，并检测基板上的缺陷像素的坐标。当然，缺陷检测机构并不限于图示的结构，也可以使用具有与此不同结构的缺陷检测机构。对于该缺陷检测机构，可以使用与现有的缺陷检测装置同样的结构。通过使载物台7移动，改变基板6和来自照明光源9的光的相对位置，进行整个基板6的缺陷检测。
由上述缺陷检测机构检测出的缺陷，由缺陷修正机构进行修正。以下，对缺陷修正机构进行说明。短脉冲激光光源1是Q开关YAG激光，能发射出小于或等于10nsec的短脉冲光。由短脉冲激光光源1发射出的短脉冲激光入射到光束成形机构2。光束成形机构2具有孔、缝隙或者透镜等，能使短脉冲光的光点形成为适当形状的射束点。例如，使基板上的短脉冲光的射束点形成与滤色片的像素大致相同的矩形形状，或者也可以形成与缺陷形状大致相同的形状。半透明反射镜3将短脉冲光反射到基板6的方向上。在此，分别配置光学部件，使得由短脉冲光源1和来自照明光源9的光同轴。半透明反射镜3反射的短脉冲光照射到膜5上。
膜5被卷到与膜卷轴转动部件14连接的2个膜卷轴8上。膜卷轴转动部件14具有电机等，能使膜卷轴8分别转动。通过使2个膜卷轴8转动，膜5连续地在Y方向上进行输送。在缺陷修正之前，驱动膜卷轴转动部件14使1个膜卷轴8转动，使得膜5保持弯曲。在此，使膜5弯曲到不与基板6接触的程度。气体喷射部件13具有气罐、气管、离子发生器以及过滤器等，可以从膜5之上喷射离子化了的空气。例如，在物镜4之下设有基板侧的底面开放的圆筒。该圆筒成锥形，基板侧细。在侧面连接气管以使气体流入该圆筒内。并且，通过使气体流入，使圆筒内的气压增高，向膜侧喷射气体。在修正缺陷时，喷射气体，使膜5向基板侧靠近，并使膜5接近基板6。通过使膜5接近基板6，在缺陷部分，在基板6和膜5之间设置微小的间隙。此时，也可以使基板6的缺陷部分以外的突出部分和膜5接触。该膜5和基板6的距离通过气体喷射部件13的喷射量等来调整，或者也可以通过膜卷轴转动部件14来调整膜5的弯曲和张力。另外，也可以设置使载物台7在Z向移动的机构来调整间隙。由于用气体喷射部件13使膜5和基板6接近，因此没必要使膜5紧贴在基板上。由此，能进行稳定的修正，还能降低施加给基板6的图形的影响。
该膜5能够根据修正的缺陷的种类而变更为不同的膜，如图2所示。缺陷修正装置的膜，由黑缺陷修正用的膜5a以及膜卷轴8a和白缺陷修正用的膜5b以及膜卷轴8b构成。膜5a和膜5b根据修正对象的缺陷而使用不同的膜。膜卷轴8装在线性导轨等卷轴移动部件(未图示)上，并设置成能在X方向上滑动。使膜卷轴8a和膜卷轴8b在X方向上移动，向与修正的对象的缺陷相对应的膜5照射短脉冲光。即，修正黑缺陷时，使膜5a移动到由短脉冲激光光源1发出的短脉冲光的激光光点15的位置。另一方面，修正白缺陷时，使膜5b移动到由短脉冲激光光源1发出的短脉冲光的激光光点15的位置。由于由该短脉冲激光光源1和照明光源9发出的光被调整到同一光轴上，因此膜5上的激光光点15和观察用的光大致位于同一位置。在移动膜卷轴8时以及输送膜5时，使膜卷轴8转动，给膜5施加适当的张力，并在基板6和膜5之间设置间隙。并且，进行膜的移动和输送，而不喷射气体。另一方面，修正缺陷时，使膜5弯曲，并通过气体喷射部件13喷射气体而使膜5接近基板表面。
用图3A～图3C对该膜5a和基板6的结构进行说明。图3A～图3C是表示修正部位的结构的放大剖面图。图3A表示正在照射短脉冲光的膜和基板的结构。图3B表示修正后的基板的结构。61是红色(R)着色层，62是绿色(G)着色层，63是蓝色(B)着色层，64是黑矩阵(BM)，这些都设置在基板6上。首先，对滤色片基板的一般的制造方法进行说明。在滤色片用的基板6上，用溅射蒸镀等在透明玻璃基板等上形成作为遮光膜的铬膜，并通过曝光、显影工序形成图形。据此，铬膜成为形成为矩阵状的BM64。之后，涂敷分散了与着色层的颜色相对应的颜料的感光树脂，并通过曝光、显影工序形成图形。通过反复进行该工序，按顺序在BM64之间设置R着色层61、G着色层62和B着色层63。之后，形成保护膜和像素电极。在此，如图3A所示，假设在R着色层61上附着有异物65。附着有这样的异物65的像素，由缺陷检测机构作为未透光的黑缺陷被检测出来。该膜5a与基板6大致接触。
对附着有该异物65的像素照射来自短脉冲激光光源1的小于或等于10nsec的短脉冲光。由物镜4聚焦的短脉冲光，入射到通过气体喷射部件与基板6接近的膜5a。调整该短脉冲光的功率，使得用激光烧蚀对膜5a进行部分地开口。在本实施例中，由于使用了聚酰亚胺膜，因此如果使用YAG短脉冲激光光源1的3次谐波355nm或者4次谐波266nm，则因吸收短脉冲光而能容易地在膜5a上设置开口部。另外，聚酰亚胺膜在可见光区域内没有吸收并且略微透明，因此容易观察，可以用照明光源9检测缺陷。而且，膜5a并不限于聚酰亚胺，也可以使用通过光的照射，经化学分解、热分解、升华或者刻蚀等进行开口的材料。激光由光束成形机构2成形，使得变成缺陷的形状或者像素的形状，因此膜5a的开口部的形状能形成与缺陷形状或者R像素的形状大致相同的形状。用激光烧蚀可以大致同时地除去异物65和膜的一部分。除去的异物65a穿过膜5a的开口部脱离基板，如图3B所示。另外，修正部分周围被膜覆盖，因此异物65附着在修正部周围而不会产生新的缺陷。这样，用激光烧蚀能大致同时地除去膜和缺陷。另外，除去的异物65为1片，但是有时也成为多个碎屑而落在膜之上。也可以调整短脉冲激光光源1的功率，以便地在膜5a上慢慢开孔，还可以进行调整，使得同时进行膜的开孔和异物的除去。在膜5a上徐徐地开孔时，如图3C所示，使膜5a处于变薄了的状态，然后进一步对膜5a变薄了的部位照射短脉冲激光来除去异物。另外，开口部的尺寸小时，也可以边输送膜边设置开口部。由于使用远紫外线会使膜5a化学分解，因此在异物除去后在基板表面残留膜残渣时，可以照射远紫外线来除去膜的残渣。
另外，异物65透明时，即使对异物照射短脉冲光，由于没有光的吸收，因此也不会产生激光烧蚀。与此相反，如果用聚酰亚胺等吸收光的膜作为膜5，并在使吸收膜与异物的上部大致接触的状态下照射短脉冲激光，则用激光烧蚀给膜开口的同时，向前方飞出的气体和碎屑使异物短时间压在基板上，通过之后的反弹能脱离基板。
通过上述的处理，着色层61和基板上的异物65同时被除去，因此，黑缺陷变成透光的白缺陷66。为了修正该白缺陷66，如图4所示那样，使膜卷轴8a和膜卷轴8b在X方向上移动，使膜5b移动到激光光点15的位置。然后，对膜5b照射短脉冲光来修正白缺陷66。用图5对该白缺陷的修正方法进行说明。图5A、图5B是表示膜5b和基板6之间的结构的剖面放大图。在膜5b的基板侧的表面覆盖有着色层51。对于膜5b，可以用厚度10～20μm左右的聚乙烯膜作为基膜，使用厚度1μm左右的抗蚀剂作为着色层51的干膜抗蚀剂。膜5b最好使用不吸收短脉冲光的材质，可以使用聚丙烯和PET膜等，而不限于聚乙烯，厚度也不限于上述的厚度。据此，能防止液晶显示装置的质量劣化。当然，膜5b和着色层51的材质和厚度也不限于上述范围。
通过气体喷射部件13喷射离子化的空气，使膜5b接近基板6。据此，膜5b与设置在基板6上的突出部分接触，在与基板的部分着色层(缺陷部分)之间空出微小的间隙。然后，对膜5b照射由光束成形机构形成的形状与缺陷部分大致相同的短脉冲光。调整短脉冲光的输出，使得用激光烧蚀从膜5b上剥离着色层51。从膜5b上剥离的着色层51在膜5b和基板6之间飞行，并落在缺陷部分上。据此，能使红色的着色层51a附着并转印在缺陷部分上。1次转印不能转印足够数量的着色层51a时，也可以使膜卷轴8转动，边在Y方向上输送膜5b边照射短脉冲光。另外，通过从与设置有着色层51的面相反一侧的面，对膜5b照射短脉冲光，能使膜5b与基板6接近。由于膜5和基板6之间的间隙的距离微�。虼俗派�51a和大气中的分子等冲突的次数少。据此，在大气中，用激光烧蚀蒸镀，能进行缺陷修正的处理。另外，由于通过气体喷射部件13使其接近，因此能进行间隙的微妙的调整。因此，能不受基板的表面状态左右而稳定地修正缺陷。
另外，在本实施例中，通过预先调整照明光源9的功率和波长，能加热膜5的着色层51。例如，通过波长可变滤光片从来自照明光源9的光中选择红外线。通过对基板6照射该红外线，可以只对缺陷部分的着色层51进行点加热。据此，能提高落在基板6上时对基板的密合性。另外，通过使来自照明光源9的光为膜5b和着色层51的吸收率低而基板的吸收率高的波长的光，能加热该基板6。这样，在本发明的缺陷修正装置中，能通过调整用于安装CCD照相机的照明光源9的输出和波长来进行加热。
另外，对于1个部位的缺陷修正，不移动光学系统和载物台而只移动膜卷轴8就能修正，因此可以在1个物镜下边观察边进行以上所有的动作。另外，只用1个短脉冲激光光源1就能进行异物的除去和着色，能进行白缺陷和黑缺陷的修正。还可以在修正动作结束后，用CCD照相机12检测是否正确地进行了修正。在图2和图4中，只图示了膜5a和膜5b 2个膜5，但除了R之外，也可以还具有设置了用于修正G、B着色层和BM的缺陷的遮光层的膜5和膜卷轴8。对于G、B着色层和BM部位的缺陷，也可以与R着色层61同样地进行修正。对于G、B着色层，可以使用分散了绿色和蓝色颜料的抗蚀剂。对于BM的修正，可以使用以遮挡可见光的铬等材质为覆层的膜。据此，可以修正R、G、B像素和BM的全部缺陷，能用简单的结构实现可对基板的所有区域进行修正的装置。另外，由于只通过膜卷轴的移动、转动就能对所有的缺陷进行修正，因此具有能在短时间内进行修正，并且位置偏差小等的优点。
在本发明中，由于用激光烧蚀进行修正，因此不象以前那样必须使基板和膜紧贴在一起。因此，不根据基板的表面状态，就能稳定地进行修正。通过调整短脉冲光的功率和照射时间，能容易地控制着色层的附着量。因此，能修正成显示特性与基板图形部分的像素大致相同的像素，并且在着色层上可以使用任意的材质，因此能提高液晶显示装置的质量。另外，在上述说明中，以用于液晶显示装置的滤色片基板进行了说明，但是也可以用于CCD照相机等固体摄像元件用的滤色片基板。当然，也可以用于滤色片基板以外的图形基板。例如，也可以用于PDP和阴极射线管等荧光体的修正。另外，在上述说明中，异物65为变成黑缺陷的不透明材质，但是也可以是由透明材质构成的异物。另外，也可以除去未高精度地设置的着色层等。称这些必须除去的异物等为缺陷。通过除去该缺陷可以修正缺陷。
实施例2本实施例的缺陷修正装置，是在实施例1中说明的缺陷修正装置中改变了膜5的装置。对于实施例1中说明的结构内容，由于是相同的结构，因此省略说明。用图6对用于本实施例中的缺陷修正装置的膜进行说明。图6是表示膜5的结构的平面图。在图6中，51是R着色层，52是G着色层，53是B着色层，54是遮光层，55是透明层。在本实施例中，在1个膜上具有R、G、B着色层和遮光层以及透明层，用1个膜就能修正滤色片基板的R、G、B像素和BM部位的缺陷。另外，R着色层51、G着色层52、B着色层53、遮光层54和透明层55分别形成在膜的不同部分。
膜5具有基膜和在其单面设置的R着色层51、G着色层52、B着色层53以及遮光层54。图6表示膜的一部分结构，在实际中，R着色层51、G着色层52、B着色层53以及遮光层54重复地设置在膜5上，R着色层51、G着色层52、B着色层53以及遮光层54设置成空有间隙，在它们之间，具有只由基膜构成的透明层55。另外，透明层55可以使来自照明光源9的光透过，使得能用CCD照相机12观察缺陷部分，也可以设置除了基膜以外的层。这些基膜、着色层和遮光层55的材质，可以使用与上述实施例同样的材质。把膜5卷到膜卷轴8上后，与上述实施例一样，与基板6相对地配置设置了这些着色层盒遮光层54的面。然后，通过使膜卷轴8转动，能使膜沿箭头方向送出，使激光光点的位置对准透明层55、R着色层51、G着色层52、B着色层53或者遮光层54。
在缺陷检测和异物除去时，使透明层55位于激光光点的位置。透明层55如果是使来自照明光源9的光透过的材质，则该光可用CCD照相机12检测出来。并且，与实施例1一样，进行缺陷检测后，用激光烧蚀给膜5的透明层55开口，除去异物。由此，黑缺陷成为白缺陷。使膜卷轴8转动，使得与缺陷部位相对应的着色层或者遮光层处于激光光点的位置。并且，与上述实施例一样，用激光烧蚀转印着色层或者遮光层54来修正白缺陷。另外，在修复白缺陷时，最好边调整激光的输出，边设置滤光片，使得不使基膜开口。
本发明的缺陷修正装置，并不限于滤色片基板，对于其它的图形基板也可以使用。例如，对于液晶显示装置的薄膜晶体管阵列基板也可使用。此时，在膜上设置由铬膜等金属构成的导电层，通过用短脉冲光转印导电层，能进行布线和电极等图形的修正。由此，也能修复布线的断线。或者也可以在膜上设置绝缘膜，修正布线间的绝缘层缺陷。另外，也能修正光掩模图形。此时，通过转印铬等遮光层，能修正图形。由于这样修正缺陷，因此，通过在膜上设置与修正的部位相对应的材质的转印层(着色层、遮光层、导电层等)，能修正各种图形基板的缺陷。在转印的物质对短脉冲激光透明时，也可以在膜和转印层之间加上光吸收层。或者也可以由吸收短脉冲激光的物质构成膜本身。此时，光吸收层成为用于激光烧蚀蒸镀的推进剂。在该膜上设置了光吸收层的结构适用于蒸镀荧光体的方法。在本实施方式中，如上所述，通过使膜卷轴转动，能使激光光点的位置从透明层55变更到遮光层54或者着色层。据此，在检测出缺陷后，不使光学系统和载物台移动就能对缺陷位置照射短脉冲光。因此，能对缺陷的位置正确地照射短脉冲光，从而能正确地进行修复。
另外，使把被短脉冲激光照射的位置变更到不同层的部件作为膜变更部件。在该膜变更部件中，在使光学系统和载物台固定的状态下，如本实施例所示，设置1个与膜5不同的转印层，除了使设置了该膜5的膜卷轴8转动的膜卷转动部件14之外，如上述实施例1所示还包括使膜卷轴8移动而交换设置了不同层的膜5的膜卷轴移动部件。另外，还包括使光学系统和基板载物台联动，而使激光的照射位置移动到不同层的部件。当然，也可以把这些组合起来使用。
实施例3用图7和图8A～图8B对本实施例的缺陷修正装置和修正方法进行说明。另外，对于与实施例1和实施例2说明的内容相同的内容，省略说明。图7是表示缺陷修正装置结构的图。图8A～图8B是表示基板和膜的结构的剖面放大图。图8A表示对膜照射短脉冲光进行缺陷修正时的结构，图8B表示修正了缺陷的基板的结构。在本实施例中，基板6使用了光掩模用的透明玻璃基板。首先，对光掩模的制造工序进行说明。在基板6之上，通过蒸镀、溅射等形成铬膜68。该铬膜68，在曝光工序中起遮光膜的作用。另外，在铬膜68之上设置有用于使铬膜68形成图形的抗蚀剂67。抗蚀剂67是感光性的树脂等，用旋转涂料器等涂敷在铬膜68之上。通过使用了电子束和激光的描绘装置描绘图形之后，用碱性显影剂形成抗蚀剂图形。由此，成为图8A所示的结构。把抗蚀剂图形作为掩膜来蚀刻露出的铬膜68后，形成遮光图形。然后除去抗蚀剂，完成光掩模。
在本实施例中，对修正在一部分抗蚀剂67上设置的白缺陷66的方法进行说明。在一部分抗蚀剂图形上有针孔等白缺陷的情况下，蚀刻铬膜时会蚀刻白缺陷66之下的铬膜68。因此，在抗蚀剂上有白缺陷时，如果原封不动地进行蚀刻，则抗蚀剂图形的白缺陷部位变成光掩模的白缺陷。对用于为防止该光掩模的白缺陷而修正抗蚀剂图形的白缺陷的方法进行说明。在本实施例中，在载物台7上放置有设置了抗蚀剂显影后的抗蚀剂图形的光掩模用基板6。本实施例的缺陷修正装置，作为缺陷检测机构具有照明光源9和CCD照相机12等。并且，作为缺陷修正机构，还具有短脉冲激光光源1和光束成形机构2等。来自照明光源9的观察用白色光，经由半透明反射镜11入射到物镜4。该光经物镜4聚焦后透过膜5入射到基板6。然后，由CCD照相机检测出由基板6反射的光，与实施例1一样，判断有无缺陷。载物台7是XY载物台，能检测基板6的所有缺陷。
在基板6之上设置有膜5。通过用气体喷射部件13喷射空气，该膜5与基板6的间隙变成10μm左右。由于抗蚀剂67通常由树脂等形成，因此表面成凸凹状，但是通过用气体喷射部件13使膜5和基板6接近，能把膜5和基板间的间隙设定成合适的距离。不会因加压等而对抗蚀剂图形施加影响。据此，能高精度地进行转印。
该膜5卷在可转动的膜卷轴8上，膜5设有透明层和转印层，如实施例2所示。在缺陷检测时，来自照明光源9的光透过部分透明层照射到基板，与实施例1一样，通过在CCD照相机12上检测该光，进行缺陷检测。在缺陷修正时，使膜卷轴8转动，使转印层移动到激光光点的位置。来自短脉冲激光光源1的短脉冲光，由光束成形机构2成形，使得照射形状与缺陷形状相同的点状光，并入射到半透明反射镜3。然后，由半透明反射镜3反射到基板6的方向上，并由物镜4聚焦入射到膜5。由于来自该短脉冲激光光源1的短脉冲激光和来自照明光源的照明光在同一轴上，因此可以向与检测出的缺陷的位置相同的位置照射短脉冲激光，可以正确地修正缺陷。向膜5照射短脉冲激光的方式，如图8A所示。
在此，在膜5的基板一侧的面上设有硅层56。该硅层56，起到用激光照射转印到基板6上的转印层的作用。然后，硅层56被转印到抗蚀剂67的白缺陷66的一部分上，在蚀刻铬膜68时，防止铬膜68暴露在蚀刻液中。铬膜68的蚀刻液使用诸如硝酸铈铵水溶液等酸。这样，最好使用对蚀刻液有耐受性的材质，除硅以外，还可以使用金属、半导体、硅化物或者有机物等。预先把这些物质覆盖在膜5上。并且，即使在干蚀刻时，也最好使用有蚀刻耐受性的材料。
对来自短脉冲激光光源1的短脉冲激光进行聚焦，并照射到已检测出缺陷的部位之上的膜5上。短脉冲激光光源1可以与实施例1一样使用YAG激光。并且，使用YAG激光的3次谐波355nm，照射短脉冲光。用激光烧蚀，从膜55上除去与缺陷的形状相同的部分硅层56，并蒸镀到白缺陷66的区域，再转印到铬膜68上。据此，形成图8B所示的结构，在有白缺陷66的部位上，设置转印有硅层56的修正部分69。在该状态下进行蚀刻，可以防止修正部69之下的铬膜68暴露在蚀刻液中，能留下铬膜68作为遮光膜。即，由于铬膜68的修正部69起到抗蚀剂的作用，因此白缺陷被修正。由此，能正确地形成铬图形。之后，除去抗蚀剂67以及修正部69。通过上述方法，能正确地形成光掩模的图形，可以提高光掩模的生产率。再通过使用该光掩模，能改善半导体装置和液晶显示装置的生产率和成品率。另外，修正图形边缘时，比缺陷部分更广地蒸镀硅层。然后，在蚀刻铬膜68之后，用激光烧蚀除去溢出部分的铬膜，形成图形边缘。
根据上述方法，能防止白缺陷(铬图形的剥落)的发生。现在，为了修正光掩模的白缺陷，需要激光CVD、FIB淀积、点曝光或者剥离等部分成膜技术，但如本实施例所示，通过在缺陷检查装置的一部分中加装缺陷修正机构，能以简单的结构稳定地修正缺陷。另外，由于能对与检测出的缺陷的部位相同的位置正确地照射激光，因此能进行稳定的修复。在本实施例中，也可以与实施例1一样具有波长可变滤光片，能把来自照明光源9的光用做加热。
实施例4用图9A～图9C和图10D～图10F对本实施例的图形基板的缺陷修正方法进行说明。图9A～图9C和图10D～图10F是表示修正缺陷工序中的缺陷部分的结构的剖面放大图。本实施例的缺陷修正装置的结构与实施例1一样。并且，与实施例1同样地检测滤色片基板上的异物或者缺陷，经由膜对该部分照射短脉冲光。据此，用激光烧蚀大致同时除去膜5a一部分和异物。由此，成为图9A所示的结构，在膜5a上设置开口部。
利用液体分配器从其上方向缺陷部分滴着了色的树脂溶液17。滴下的树脂溶液17从膜5a的开口部附着到基板6上，同时扩展并附着在膜5a之上。例如，在缺陷修正装置中，设置能在水平方向上移动的液体分配器的喷嘴，如图9B所示，使喷嘴16移动到膜5a的开口部之上。对比该开口部更大的区域喷出着了色的树脂溶液17。该树脂溶液17已被着了色，使得颜色与缺陷修正滤色片的着色层的颜色大致相同，在此，着成红色。也可以通过调整树脂浓度，使该树脂溶液17具有适当的粘度。另外，作为使树脂溶液17从喷嘴附着到基板的方法，除了滴一滴树脂溶液17的方法之外，也有用喷雾嘴喷射微米级微粒的喷雾方法。然后，使附着在基板6上的树脂溶液17a适当地干燥。在该干燥工序中，通过使用照明光源9的光加热法，可以使树脂溶液17a干燥，如图9C所示，能通过使用照明光源9的光加热，使树脂溶液17a干燥。即，对全部或者一部分树脂溶液17照射来自照明光源9的光来进行干燥。此时，在光轴方向上移动物镜，改变照射光的区域，能调整干燥的范围。或者，也可以通过喷射部件13喷射气体来使树脂溶液17a干燥。通过使树脂溶液17a干燥，溶剂蒸发，附着部位缩�。虼耍詈帽仍ざǖ哪ず窈竦馗阶攀髦芤�17a。
干燥后，可以对开口部的边缘部分照射来自短脉冲激光光源1的短脉冲光，除去树脂溶液17a。即，不对开口部的中心照射短脉冲光，来留下缺陷部分的树脂溶液17a，同时只对开口部的周围附近照射短脉冲光，以便除去边缘部分的树脂溶液17a，如图10D所示。在此，在短脉冲光的光路中设置可动的反射镜和透镜这样的光学部件，该光学部件控制短脉冲光的照射位置。例如，通过改变半透明反射镜3的倾角，能进行激光光点的微妙的位置调整。由光束成形机构2和物镜4进一步减小激光光点，用这样的光学部件使短脉冲激光照射开口部的整个周边。据此，在留下开口部中心的树脂溶液17a的状态下，用激光烧蚀直接除去开口部边缘附近的树脂溶液17a。据此，形成图10E所示的结构。在除去了开口部边缘附近的树脂溶液17a的状态下，使膜卷轴8转动并使膜5a的开口部移动。然后，使载物台7移动，将膜5a从基板6上去掉。据此，树脂变成附着在缺陷部分上的状态，该树脂成为修正层17b从而修正缺陷，如图10F所示。如上所述，由于用激光烧蚀除去开口部边缘附近的树脂溶液17a，因此能快速地除去膜5a，能防止膜5a附着在基板6之上形成缺陷。另外，用激光烧蚀除去的树脂溶液17a再次附着在膜5a之上或者开口部的中心附近，因此不会形成新的缺陷。并且，由于通过照射短脉冲光除去树脂溶液17a，因此能调整树脂溶液17a的附着部分的形状。据此，能正确地修正缺陷。
在本实施例的缺陷修正方法中，对使树脂溶液附着的位置的容许量变大。并且，由于也可以一次喷出比较多的树脂，因此即使修正微小的图形，也能使用大的喷嘴。由此，在喷出微量的情况下所必需的开口比微小的喷嘴更容易管理。由于用光束成形机构2能调整膜5a的开口部的尺寸，因此能以任意的形状对膜照射脉冲激光。由此，能使膜的开口形状与像素形状一致，能容易地修正与像素形状大致相同的区域的矩形区域。通过对树脂溶液17a加热、干燥，在剥离膜5a时，能防止附着在基板的缺陷部分的树脂粘在膜侧并从基板的缺陷部分剥离的现象。另外，为了去掉喷嘴前端部存留的树脂，或者使树脂溶液达到预定的浓度，需要在缺陷部位之外进行空喷，但是如果在修正部位周围的膜上空喷，则能减少从空喷到修正的时间差。并且，通过用CCD照相机观察空喷时的着地点，能校正从喷嘴的喷出到着地为止所产生的位置偏差。这样，通过本实施例的缺陷修正方法，能进行高精度的缺陷修正。
基板上附着了修正液17a之后，或者使树脂溶液干燥后，用刮板等把树脂填入开口部，或者也可以用刮板除去多余的树脂溶液。这样，即使在喷出量过多时，根据树脂溶液中的溶剂比例(干燥后的收缩率)和膜的膜厚，能控制树脂溶液17a附着到基板6的缺陷部分上的附着量。即，能控制最终的修正层17b的膜厚，从而能正确地形成图形。据此，能控制缺陷部分的颜色和透射率。另外，树脂溶液附着到膜上的附着点即使偏离刮板从膜开口部开始的移动开始位置的方向也没关系。此时，通过用刮板把树脂填入开口部，能使树脂溶液17a均匀地附着在基板6的缺陷部分上。
另一方面，刮板的材质由抗树脂溶液的硅和特富龙(注册商标)等材料构成，相反，膜的材质如果由聚酰亚胺等比刮板的润湿性还高的材料构成，则刮完了的树脂将留在膜上。据此，在刮板上可不残留树脂，因此不需要清洁刮板。或者，可以延长清洁周期。另外，由于多余的树脂以附着的状态残留在膜5a上，使用后与膜5a一同卷起，因此不会附着到基板6的缺陷部分之外，从而不会产生新的缺陷。另外，使用后，通过更换膜5a，能回收多余的树脂，因此在装置上不会附着树脂，能容易地进行保养。
另外，从喷嘴16将树脂溶液17a喷到基板上时，树脂溶液17a由于表面张力而成圆形，因此有时树脂溶液17a不能接触到基板6。此时，最好使膜5a的开口部周围变薄。用图11A～图11C对该步骤进行说明。首先，如图11A所示，用激光烧蚀使膜5a开口部附近的部分变薄。通过对膜5a的开口部周围照射来自短脉冲激光光源1的短脉冲激光，形成除去了一部分的如图11A所示的结构。此时，短脉冲激光光源1的输出，比贯通膜5a设置开口部时低。然后，移动激光光点的位置并对开口部的四周照射短脉冲激光。这样，由于使膜5a开口部的周围变�。虼嗽谀�5a厚时，也可以使树脂溶液17a与基板6接触。据此，成为如图11B所示的结构。此时，由于在膜5a上设置有薄的部分和厚的部分，因此出现台阶，在其上会附着树脂溶液17a。然后，如图11C所示，照射来自照明光源9的光，使之干燥。其后的工序，由于与图10D～图10F所示的工序一样，因此省略说明。据此，即使在附着的树脂溶液17a的量多时，也能容易地使之附着。
或者，如图12A～图12C所示，也可以由喷嘴16喷射微粒，使树脂溶液17附着在基板6上。此时，如图12A所示，用激光烧蚀在膜5a上设置开口部。然后，如图12B所示，用喷嘴16从开口部之上对基板6产生微粒。据此，即使在膜5a厚时，也能使树脂溶液17a附着在基板6的缺陷部分上。然后，如图12C所示，照射来自照明光源9的光，使之干燥。之后的工序与如图10D～图10F所示的工序一样，因此省略说明。据此，即使附着所需的树脂溶液17a的量多时，也能容易地附着。
另外，在上述实施例中，使着成红色的树脂溶液17从喷嘴16附着到基板6上，但是也可以是蓝色、绿色或者黑色。据此，也可以修正蓝色着色层、绿色着色层和BM的缺陷。另外，并不限于滤色片用的基板，也可以使着成与修正的图形相对应的颜色的树脂溶液附着到基板上。通过使该树脂溶液干燥，溶液中的水分蒸发，树脂固定在缺陷部分上。当然，也可以是树脂溶液之外的溶液，还可以经由膜5a的开口部使与修正的图形相对应的修正液附着到基板1上。另外，也可以用喷嘴从上方滴下修正液，并使之附着。通过使与修正图形对应地着了色的修正液附着在基板6上，能修正任意颜色的图形。并且，通过调节短脉冲激光的光点来调整开口部的尺寸，能用与检测出的白缺陷相同的尺寸来附着树脂溶液，从而能高精度地修正白缺陷。因此，在修正了滤色片基板等时，不会使显示质量劣化。
实施例5用图13A～图13D对本实施例的图形基板的缺陷修正方法进行说明。图13A～图13D是表示修正缺陷的工序中的缺陷部分结构的剖面放大图。本实施例的缺陷修正装置的结构与实施例1一样。然后，与实施例1一样地检测滤色片基板上的异物或者缺陷，经由膜对该部分照射短脉冲光。据此，用激光烧蚀大致同时地除去膜5a的一部分和异物。由此，形成如图13A所示的结构，并在膜5a上设置开口部。在本实施例中，与上述实施例一样，设置有可在水平方向上移动的液体分配器的喷嘴16。
在该状态下，使喷嘴16在开口部之上移动。据此，形成如图13A所示的结构。在分配器的喷嘴16的前端，同样附着有着成与修正图形相对应的颜色的树脂溶液17。该树脂溶液17从喷嘴16的前端溢出。在本实施例中，喷嘴16设置成可在上下方向上移动。使该喷嘴16向下移动并接近基板6，并使树脂溶液17与膜5a和基板6接触。另外，也可以使基板6的载物台向上移动并使喷嘴16与基板6接近。据此，如图13B所示，经由开口部使树脂溶液17a附着到基板6的缺陷部分。然后，如果使喷嘴6向上移动，或者使载物台向下移动，拉开基板6和喷嘴16之间的距离，则附着在喷嘴16的前端的树脂溶液17a的大半部分将粘在并返回到喷嘴16侧。据此，形成如图13C所示的结构，与实施例4一样，树脂溶液17a附着到缺陷部分上。在本实施例中，即使用大喷嘴滴下时，也能限制树脂溶液17a附着到基板6的附着量。因此，能使微量的树脂溶液附着到基板6上，从而能容易地控制附着的树脂层的厚度。之后，与实施例4一样，用短脉冲激光光源1进行开口部周围的树脂溶液17a的除去以及用照明光源9进行树脂溶液的干燥。然后，使膜5a转动并从基板6上剥离，使载物台7移动并将膜5a从基板6上去掉。据此，如图13D所示，着了色的树脂附着在缺陷部分上，修正设置了修正层17b的着色层的缺陷。通过上述的装置结构和缺陷修正方法，能正确地修正图形基板的白缺陷。另外，通过在图形基板的制造工序中加入修正这些缺陷的工序，能制造出无缺陷的图形基板。
实施例6用图15对本实施例的缺陷修正装置进行说明。图15是表示本实施例的滤色片基板的缺陷检查装置的结构示意图。对于在上述实施例中说明的结构内容，由于是相同的结构，因此省略说明。在本实施例中，与上述实施例一样，用激光烧蚀除去膜上的异物后，通过加热块，从形成的开口部之上热转印设置在不同膜上的着色层。
在本实施例中，除了如图1所示的缺陷检查装置之外，如图15所示，在膜5之上设置有具有着了色的转印层的转印膜18和用于热转印的加热块20。转印膜18安装在膜卷轴19上，通过使该膜卷轴19转动，输送转印膜18。使转印膜18和加热块20进行滑动，能移动到基板缺陷位置之上。例如，也可以把物镜4以及气体喷射部件13和膜卷轴19以及加热块20连接到一个滑动件上(未图示)，使之滑动移动。在除去异物时，把物镜4和气体喷射部件13配置在缺陷位置之上，在转印转印层时，使滑动件移动，能把转印膜18和加热块20配置在缺陷位置之上。当然，也可以通过滑动以外的移动方式使之移动。另外，也可以不移动物镜4和气体喷射部件13，而使转印膜18和加热块20移动到气体喷射部件13之下。
如果将转印膜18移动到缺陷位置之上，则成为图16所示的结构。图16是表示基板6和膜的结构的俯视图。使转印膜18在X方向上移动，并将转印膜18配置在膜5之上。经由设置在缺陷位置的膜5的开口部15，使转印膜18和基板6相对配置，并在开口部15的位置上设置转印膜18的转印层。据此，经由开口部15，能将转印膜18的转印层转印到基板的缺陷部分。
在此，使转印膜18移动到膜15之上后，从气体喷射部件13喷出的气体不喷射到膜5。据此，膜5的开口部15的位置可能会偏离缺陷位置。此时，在使转印膜18移动之前，最好固定基板6和膜5的位置。作为固定膜5和基板6的方法，有在喷射气体过程中将硅胶等放置在膜5之上固定的方法，以及使膜5带电，通过静电力固定在基板6上的方法。
在放置硅胶的方法中，在开口部的两侧放置硅胶。据此，膜5的位置被固定。另外，在通过静电力固定膜5的方法中，例如，在使膜卷轴19转动输送膜5时，因为摩擦使膜5带电。然后，通过带电的膜5的静电力，固定膜5和基板6的位置。在本实施例中，也可以不用气体喷射部件13，而通过上述方法固定膜5和基板6，在膜5上设置开口部15。另外，也可以对开口部15的两侧、未重叠转印膜18的部分喷射气体，固定膜5和基板6。
转印膜18是具有通过热转印而转印的转印层的膜，例如，可以使用富士膜公司制造的TRANSER(注册商标)。用该膜，能提高转印层的密合性。用图17对该转印膜18的结构进行说明。
转印膜18具有在基层18e之上形成的缓冲层18d。在缓冲层18d之上，设有氧遮断层18c，并且，在其上设有用各种颜料着了色的转印层18b。转印层18b，由例如感光性树脂形成。该转印层18b的颜料，根据修正的滤色片的像素着了色。通过将该转印层18b转印到基板6来修正白缺陷。在转印层18b之上，为了保护表面，压合聚丙烯保护膜18a。另外，为了防止因剥离带电等原因而附着灰尘，在基层18e的背面设置了导电性的带电防止层18f。
该基层18e，由例如厚约75μm的PET形成。作为缓冲层18d，可以使用厚约20μm的可溶于弱碱的热塑性树脂。用该缓冲层18d，可以吸收基板缺陷部分的台阶，提高转印层的密合性。使氧遮断层厚1.6μm，转印层18b厚2.0μm，保护膜厚1.2μm。该转印膜18的结构是一个典型例，但并不限于上述结构。例如，也可以不设置保护膜18a、氧遮断层18c或者带电防止层18f。特别是在开口部15配置的转印膜18的部位，很少附着灰尘，因此也可以不设置保护膜18a。另外，转印层18b并不限于感光性树脂层，也可以是与转印图形对应的着色层。
加热块20设置成可上下移动，在使转印膜18的转印层18b附着时，向下移动，把转印膜18压在基板6上。此时的基板6和转印膜18的结构，如图18A～图18B所示。图18A～图18B是表示缺陷修正部分的基板6的结构剖面图。在此，省略了转印膜18的保护膜18a、氧遮断层18c、基层18e以及带电防止层18f，用加热块20按压转印膜18，成为图18A所示的结构。
压上加热块20，变成具有开口部15的膜5夹在基板6和具有转印层的转印膜18之间的状态。因此，转印层18b，经由膜5的开口部15压到基板6的缺陷位置上。由于开口部设置成与用激光烧蚀除去了异物的部位的尺寸相同以及位置相同，因此与需要修正的部位一致。经由膜5转印转印层18b，在开口部，转印层18b附着到基板6上。另一方面，在开口部以外的区域，转印层18b附着到膜5的上面。
这样，经由膜5的开口部转印作为着色层的转印层18b，能防止转印层18b附着到缺陷区域以外的区域。由此，能以简单的结构把转印层18b转印到缺陷部位，从而能正确地修正缺陷。另外，由于其它部位未附着转印层18b，因此在之后的工序中，没有必要除去其它部位的转印层18b，能提高生产率。
另外，在本实施例中，经由热塑性树脂层18d压下转印层18b。热塑性树脂层18d具有弹性，在把转印膜18按压到基板6上时，起到缓冲层的作用。由此，因着色层62、BM64和膜5而产生的基板6上的台阶被吸收，因此能正确地转印转印层18b。由于热塑性树脂层18d厚度为20μm，即使例如，着色层厚2μm、BM厚2μm、膜5厚8μm，也能吸收因它们而产生的台阶，从而能正确地转印。
升高加热块20并离开基板6之后，如果移动转印膜18将转印膜18从基板6上剥离，则成为图18B所示的结构。这样，通过干燥工序，能进行缺陷的修正。此时，在基板6侧附着了氧遮断层18c或者热塑性树脂层18d时，用弱碱水溶液进行簇射喷雾处理来除去氧遮断层18c或者热塑性树脂层18d。或者，用研磨带磨削或用布带擦拭等方法除去氧遮断层18c或者热塑性树脂层18d。这样，作为着色层的转印层18b能被转印到白缺陷位置，进行缺陷修正，如图18B所示。
这样，通过使用转印膜18，能容易地控制作为着色层转印的层的厚度、颜色、透射率等特性。即，通过以期望的特性形成转印膜18的转印层18b，能进行修正，使得修正后的着色层变成与正常的着色层大致相同的状态。据此，能正确地进行缺陷修正。另外，通过用转印膜18转印，能提高转印层的密合性。
上述热转印工序中，为了提高转印速度，也可以对基板6进行预加热，例如，可以通过把基板6放置在加热板上进行预加热，还可以通过照射红外线进行预加热。用红外线时，可以使来自照明光源9的红外线光透过滤光片10，也可以另外设置加热用光源。
另外，在本实施例中，为了提高转印层的密合性，可以使用具有与缺陷图形相对应的凸部的加热块。用图19对该加热块20的结构进行说明。图19是表示加热块结构的剖面图。在加热块20的中央设置有凸部20c。通过沿箭头方向压下加热块20，能将转印膜18压到基板上，转印着色层。
为了加大加热块20的热容量，做成φ5mm的圆柱形状，在转印时，加热到大约130℃。在加热块20的底面上设置有凸部20c。凸部20c，例如是φ500μm、高10μm的圆柱形状。在本实施例中，为了形成这样的微小凸部，用热膨胀系数不同的材质形成加热块20的中心部20b和外周部20a。
例如，用热膨胀系数大的铁等金属做中心部20b，用热膨胀系数小的SiC等陶瓷形成外周部20a。在常温时，形成为该中心部20b和外周部20a是平坦的。然后，如果把加热块20加热到130℃，则由于热膨胀率的不同，中心部20b突出来，形成凸部20c。并且，设计中心部20b的尺寸和热膨胀系数，使得凸部成为所要的形状、大小、高度。由此，即使是微小的凸部，也能以所要的尺寸正确地形成凸部。
由于与基板的缺陷部分相对应地嵌合该凸部20c，因此即使有台阶时，也能提高密合性。另外，为了使凸部的高度恒定，也可以在常温时研磨加热块20的底面，使之平滑。当然，凸部20c的大小、高度，可以使用与修正缺陷的图形、膜的厚度相对应的尺寸。
实施例7在本实施例中，对于实施例6所示的缺陷修正方法，增加了用于提高转印层的密合性的步骤。对于上述实施例中说明过的结构内容，由于结构相同，因此省略说明。在上述实施例中，用激光烧蚀除去要除去的异物等之后，经由矩形开口部15转印了转印层。此时，有可能因转印层和基板6之间残留的空气而降低密合性。用图20对用于除去该空气的步骤进行说明。图20是表示膜5的开口部周围的结构的俯视图。
在本实施例中，用激光烧蚀除去基板上的异物后，在膜5上形成空气除去部21。空气除去部21形成在由激光烧蚀形成的开口部15的周围。异物除去后，通过调整半透明反射镜3的倾斜，对开口部15的四角周围照射激光。此时，通过用比异物除去时的激光功率低的功率照射，除去了一部分膜5的膜5变薄。即，在图20中，斜线表示的空气除去部21比膜5的其它部分薄。通过同样地对开口部15的四角照射激光，成为图20所示的结构。
在此，使空气除去部21的尺寸比开口部15小。例如，可以使开口部的大小是一边为100μm的正方形，使空气除去部21的大小是一边为20μm的正方形。而且，形成为开口部15和空气除去部21的一部分重合。由于以低功率照射激光，因此即使是与开口部15重合的部位，也不会除去基板上的图形。因此，能形成空气除去部21而不影响滤色片的光学特性。通过形成这样的空气开口部，在矩形开口部15的周围形成膜厚变薄的部分。开口部15，由于除去了膜5，因此通过形成空气除去部21，膜从开口部开始成台阶状地变厚。
图21表示形成了该空气除去部21的膜5和基板6的结构。图21是表示膜5和基板6的结构的剖面图，表示用加热块20把转印膜18按压在基板6上的状态。形成空气除去部21之后，使加热块20移动到开口部15之上，并压下加热块20。通常，按压转印膜18后，转印膜18从开口部15的中心开始与基板6接触。因此，存于基板6和转印层18b之间的空气，从开口部15的中心慢慢地向外侧溢出。由于在开口部的周围设置有空气除去部21，因此膜5形成2段，如图21所示。未设空气除去部21时，开口部的边缘和转印层18b接触，空气溢不出去，可能残留空气，但是设置了空气除去部21时，开口部15和转印层18b之间的空气从该成为2段的部分溢出去。据此，可以提高密合性。
在图20中，在开口部15的四角设置了空气除去部21，但是也可以如图22所示，在矩形的开口部15的整个外周设置空气除去部21。即，也可以形成比开口部15大的矩形空气除去部21。或者，也可以如图23所示，形成从正方形15的各边延伸出去的矩形的空气除去部21。由此，形成与开口部15四角的一方的边相连的空气除去部21。当然，空气除去部21的结构并不限于图示的结构。空气除去部21的形状，通过改变光束成形机构2的缝隙宽度等能任意地形成。通过改变光束成形机构2的缝隙宽度，形成开口部15和空气除去部21时，最好使开口部15和空气除去部21成矩形。当然，开口部15和空气除去部21的结构并不限于矩形。
另外，空气除去部21，通过控制激光光源1的功率，能形成任意的厚度。而且，也可以完全除去膜5，而不只是除去膜5的一部分而使之变薄。此时，由于膜5是贯通的，因此最好减小空气除去部21的宽度，使得经由空气除去部21不会转印转印层。上述空气除去部21，并不限于使用了加热块的缺陷修正装置，例如，对于使用了实施例5所示的分配器的缺陷检查装置，也可以使用。即，也可以在用激光烧蚀设置了开口部15之后，形成空气除去部21，然后从其上方用分配器滴下着了色的树脂溶液。由于树脂溶液从开口部的中心开始与基板接触，因此能减少在树脂溶液和基板之间残存的空气。从而能提高修正部位的密合性。另外，本实施例所示的空气除去部，即使是空气以外的气体，也能除去，因此对于空气除去部21，还包括除去空气以外的气体的情况。
实施例8用图24对本实施例的缺陷修正装置进行说明。对于上述实施例中说明的结构内容，由于结构相同，因此省略说明。在本实施例中，与实施例6一样，在膜5之上重叠着具有转印用着色层的转印膜18。并且，从转印膜18之上照射来自激光光源1的激光，转印着色层。
与实施例6一样，用激光烧蚀在膜5上设置开口部来除去缺陷。然后，使膜卷轴19移动，在开口部之上配置转印膜18。由此形成与图16相同的结构。在本实施例中，由于不使用加热块，因此没有必要移动物镜4和气体喷射部件13。但是，在具有开口部的膜5之上配置转印膜18而遮住空气的喷射，开口部的位置错位时，最好固定膜5。为了固定膜5，可以使用与上述实施例同样的部件。
如果在膜5之上配置转印膜18，则成为图25A所示的结构。本实施例使用的转印膜18具有基膜22，并且按照顺序形成有膨胀层23、分离层24和转印层25。并且，配置转印膜18，使得转印层25经由膜5的开口部与基板6的缺陷部分相对。
转印膜18的基膜22，由例如聚乙烯等透过激光的材质形成。膨胀层23是吸收激光的吸收层，最好由沸点低的材质形成。在修正缺陷时，照射脉冲宽度为μsec级的激光，瞬间加热膨胀层23后，气化膨胀。由于在膨胀层23之上设置有基膜22，因此在基膜侧没有气体溢出之处，气化后的膨胀层23流向基板侧。据此，分离层24和转印层25从基膜22上分开，附着到基板6上。然后，如果终止激光照射，则膨胀层23冷却，恢复成固体，成为图25B所示的结构。经由膜5的开口部进行转�。谌毕莶糠忠酝獾牟课唬〔�25附着在膜5之上，因此在基板上，转印层25等只附着在缺陷部分。因此，能不对缺陷部分以外产生影响，正确地修正缺陷。
分离层24，为了分离转印层25和膨胀层23，因此设置在转印层25和膨胀层23之间，例如，由溶于酸或碱等溶液的材质构成。通过使溶液滴到基板6上，溶解附着在基板上的分离层24，能除去附着在基板侧的转印层25之上的分离层24，能使膨胀层23从转印层25上分开。通过用分离层24分离转印层25和膨胀层23，能从基板上除去膨胀层23，从而在基板6之上只残留转印层25。因此，能正确地只转印缺陷修正所必需的转印层25。由此，成为图25C所示的结构。转印层25具有与修正的缺陷的着色层相对应的颜色、透射率、膜厚等特性，因此能正确地修正缺陷。当然，使转印层25和膨胀层23分离的方法并不限于此。
在上述实施例中，用激光光源1转印转印层25，但是也可以还具有与激光光源1不同的光源，照射来自该光源的光来转印转印层。另外，为了提高密合性，例如，也可以照射来自照明光源9的紫外线对基板6进行预加热。另外，不用说，在上述实施例中也可以组合使用。
实施例9用图26说明本实施例中的图形基板的缺陷修正装置。对于上述实施例中说明的结构内容，由于结构相同，因此省略说明。在本实施例中，与上述实施例一样，经由膜对缺陷部分照射脉冲激光，用激光烧蚀除去异物。然后，使缺陷修正用的树脂附着在除去了异物的部分，进行缺陷修正。
用图27A～图27B说明该膜5和基板6的结构。对附着了异物65的像素照射来自短脉冲激光光源1的小于或等于10nsec的短脉冲光。由此，成为图27A所示的结构。由此，与上述实施例一样，成为在膜5上设置有开口部的图27B所示的结构。
通过上述处理，由于在除去基板上的异物65的同时除去着色层61，因此黑缺陷成为透光的白缺陷66。为了修正该白缺陷66，如图28所示，在缺陷位置之上配置按压部30。在按压部30的侧面配置有刮板31。即，刮板31与缺陷位置相邻配置。此时，固定设置了开口部的膜5，使其不能移动。由此，能使缺陷部和膜5的开口部的位置一致。按压部30和刮板31设置成由电机(未图示)等能在上下方向(Z方向)上移动。并且，按压部30和刮板31还设置成由电机(未图示)等能在水平方向(Y方向)上移动。
用图29A、图29B～图31A、图31B说明用按压部30把缺陷修正用的溶液涂敷到白缺陷66上的结构。图29A、图29B～图31A、图31B是表示缺陷修正工序中的缺陷部分周围的结构的侧面剖面图。首先，在按压部30的基板侧的下端设置树脂溶液。按压部30由例如不锈钢等金属或者橡胶等弹性体构成，按压部30做成圆柱状或者棱柱状，例如，下端为平坦面。另外，按压部30的下端也可以是球面等曲面。按压部30的下表面形成得比开口部大很多。通过把该按压部30装在蓄积了树脂溶液17的容器上，在按压部30的前端设置树脂溶液17。对于树脂溶液17，使用粘度高的溶液。然后，把前端设置了树脂溶液17的按压部30移动到缺陷位置。在该缺陷位置，在膜5上设置有与缺陷相对应的开口部。在该按压部30的侧面设置有刮板31。成为在按压部30的下端设置有树脂溶液17的图29A所示的结构。
向下方移动该按压部30，使之与膜5紧贴在一起。由此，成为图29B所示的结构。此时，把按压部30压在基板6上，树脂溶液17进入缺陷部分。由于在基板上配置有具有与缺陷部分相对应的开口部的膜5，树脂溶液17经由开口部附着到基板6上。由此，只在缺陷部分上附着树脂溶液17，在缺陷的周围部分未附着树脂溶液17。这样，能正确地把树脂涂敷到缺陷部分，从而能稳定地修正缺陷。按压部30设置得比缺陷大很多，膜5的整个开口部都被按压部30覆盖。由此，能对整个缺陷部分涂敷树脂溶液17。
按压部30对基板6的按压，根据缺陷的纵横比(修正孔的凹陷的深度和宽度的比)、树脂溶液17的粘度，设置适当的压力。由此，即使是在使用了粘度高的树脂溶液的情况下，也能把树脂溶液17压入纵横比大的缺陷中。另外，由于膜5是10μm的聚酰亚胺膜，因此又薄又软。因此，膜5与由着色层和BM64产生的基板表面的台阶相对应地产生变形。这样，膜5和基板6紧贴在一起，树脂溶液17易于压入缺陷部分。即使是在使用了粘度高的树脂溶液的情况下，树脂溶液17也能填入缺陷部分，从而能容易地使树脂溶液17附着到基板6上。由此，能进行稳定的缺陷修正。
另外，为了把树脂溶液17压入缺陷部分，按压部30最好使用橡胶等弹性体。按压部30使用橡胶等弹性体的情况下，按压部30与基板表面的台阶相对应地产生变形。由此，能使按压部30容易地紧贴在膜5上。另外，由于不必使按压部的端面严格地平行于基板6的表面，因此容易安装。另外，即使是在膜5的上表面，例如在设置开口部时有飞散的灰尘的情况下，也能容易地使按压部30的下端紧贴在膜5的上表面上。通过从柔软的膜5之上把弹性体的按压部30压在基板6上，膜5和有台阶的基板6紧贴在一起。由此，能防止树脂溶液17进入基板6和膜5之间。由此，树脂溶液17只附着在膜5的开口部，从而能防止树脂溶液17附着到缺陷部分以外。这样，即使是在使用了粘度高的树脂溶液17的情况下，也能稳定地修正缺陷。
在把按压部30压在基板上的状态下，向下方移动刮板31。由此，膜5和刮板31的下端紧贴在一起，成为图30A所示的结构。此时，刮板31的前端不在开口部，而配置在开口部的附近。刮板31设置得比开口部的尺寸大很多。即，刮板31移动到开口部之上时，刮板31的两端配置在开口部的外侧。另外，使刮板31在横向滑动，把在开口部之上涂敷的多余的树脂溶液17刮出。即，刮板31在缺陷部分之上通过，使在开口部涂敷的多余的树脂溶液17在膜5之上移动。
此时，在使按压部30压在基板上的状态下，直接使刮板31在横向移动。这样，由于膜5不移动，因此开口部和缺陷位置不产生错位。由此，能正确地把溶液涂敷到缺陷位置。另外，在使按压部30压在基板6上的状态下，直接使按压部30和刮板31在横向移动。刮板31的前端横穿开口部，刮出整个开口部的树脂溶液17。此时，通过改变把刮板31压在基板6上的压力，能调整附着在基板6上的树脂溶液17的高度。即，通过提高刮板31对基板6的按压，能使树脂溶液17的涂敷厚度变�。ü档凸伟�31对基板6的按压，能使树脂溶液17的涂敷厚度变厚。
另外，刮板31也可以固定在按压部30上，与按压部30联动，使其在上下方向和横向上移动。由此，能简化用于使刮板和按压部30移动的电机等的结构。或者，也可以使刮板31和按压部30分别移动，此时，由于能独立地调整刮板31的按压和按压部30的按压，因此能更稳定地修正缺陷。
从开口部之上刮出树脂溶液17后，成为图30B所示的结构。在开口部之上以与膜5大致相同的厚度涂敷树脂溶液17。在用刮板31刮出树脂溶液17时，通过使刮板31的按压和移动速度恒定，能使开口部的树脂溶液17的涂敷高度大致恒定。
然后，向上移动设置了开口部的膜5，将其从基板6之上去掉。由此，成为图31A所示的结构。在本实施例中，由于使用了粘度高的树脂溶液17，因此树脂溶液17不向横向扩展。因此，能防止树脂溶液17附着到缺陷部分的周围。并且，能以距基板表面大致恒定的高度设置树脂溶液17。
使该树脂溶液17干燥，使树脂溶液中的溶剂蒸发。由此，在基板6的表面只留下溶解在溶剂中的树脂38。此时，厚度只减少与溶剂相当的量。由此，成为图31B所示的结构。在本实施例中，由于使用了粘度高的树脂溶液17，因此能降低因溶剂的蒸发而造成的厚度的减少量。这样，能使一次涂敷工序所能附着的树脂38相对于修正的缺陷有足够的高度。因此，不必反复进行涂敷工序和干燥工序，能高生产率稳定地修正缺陷。
在本发明中，通过改变树脂溶液17中的树脂和溶剂的比例能调整修正部位所附着的树脂38的厚度。并且，通过改变膜5的厚度也能调整修正部位所附着的树脂38的厚度。另外，通过改变刮板31的按压也能调整修正部位所附着的树脂38的厚度。由此，能对缺陷附着所要厚度的树脂，从而能稳定地修正缺陷。另外，通过把上述3个条件作为同等条件来进行缺陷修正，能高再现性地修正缺陷。由此能稳定地修正缺陷。
在现有的缺陷修正方法中，溶剂的蒸发等树脂溶液的性质随时间变化，难以供给小于或等于pl(皮升)的稳定的树脂溶液。在滤色片的缺陷修正中，必须在小于或等于pl条件下稳定地供给树脂溶液。根据本修正方法，能将树脂溶液随时间变化的不稳定性控制在最小限度，能进行用于以1μm为单位对树脂的膜厚进行稳定地修正的控制。由此，能进行稳定的缺陷修正。
如上所述，在本发明中，由于用按压部30把树脂溶液17压入缺陷部分，因此能使用粘度高的树脂溶液17。以前使用粘度为30cp左右的树脂溶液17，但是在本发明中，可以使用粘度大于或等于200cp的树脂溶液17。具体地讲，根据上述方法，可以用粘度为300cp的树脂溶液17来修正缺陷。通过使用粘度高的树脂溶液17，能减少因溶剂蒸发而产生的树脂附着量的变化。由此，能高再现性地进行修正，并能稳定地进行缺陷的修正。
在上述方法中，把树脂溶液17涂敷在由金属或弹性体构成的按压部30的前端，通过把该前端压到缺陷部分上，在缺陷部分上涂敷树脂溶液，但是，也可以使用其它的构件进行涂敷。例如，有用分配器把树脂溶液涂敷到缺陷部分的方法，或者用喷嘴喷涂树脂溶液的方法，或者使树脂溶液附着到针的尖端上，进行涂敷的方法。而且，除了滴一滴树脂溶液17的方法之外，还有用喷雾嘴喷射微米级的微粒的方法。另外，如果按压部30使用多孔材料，则能从上面供给树脂溶液17，从上面供给的树脂溶液17经由多个孔到达按压部30的下面。由此，能把树脂溶液17涂敷到缺陷部分中。例如，按压部30可以使用多孔橡胶或多孔陶瓷。用任一种方法把树脂溶液17涂敷到缺陷部分之后，通过用按压部30按压，能把树脂溶液17压入缺陷部分中。
上述刮板31由不锈钢等金属或者橡胶等弹性体构成。由弹性体形成刮板31时，通过提高按压力，能刮出填入膜5的树脂溶液17。由此，所形成的树脂溶液17的高度比膜5的上表面低一些。
刮板31在中间预先进行了弯折，前端部分设置成相对于基板面是倾斜的。即，刮板31从上端到中间设置在垂直方向上并与按压部30的侧面接触，而在中间倾斜设置，越接近下端距按压部30侧面的距离越大。由此，在按压部30和刮板31之间形成间隙。刮出的树脂进入该间隙。另外，由于刮板31是弯曲的，因此容易控制按压，能使刮板31的边缘压到基板上。即，即使在基板6的表面有台阶的情况下，也能容易地使刮板31的边缘紧贴在膜5上。
缺陷修正用的树脂溶液17，可根据修正的缺陷使用着了色的树脂。即，修正R着色层时，树脂着成红色，修正G、B着色层时，分别着成绿色和蓝色。此时，根据所使用的树脂和着色料的材料，调整所附着的树脂38的厚度，使得非缺陷像素和修正后的像素的光学特性相同。因此，能进行稳定的缺陷修正。另外，修正BM时，修正成黑色。
另外，在上述说明中，以液晶显示装置用的滤色片基板进行了说明，但是也可以用于CCD照相机等固体摄像元件用的滤色片基板。当然，也可以用于滤色片基板以外的图形基板。例如，也可以用于PDP和阴极射线管等荧光体的修正。另外，在上述说明中，设异物65为变成黑缺陷的不透明的材质，但是也可以是由透明材质构成的异物。并且，也可以除去未能高精度设置的着色层。称这些必须除去的异物为缺陷。能通过除去该缺陷来修正缺陷。
实施例10本实施例的缺陷修正装置是与实施例9结构相同的装置。另外，按压部30和刮板31的结构不同。对于与上述实施例相同的结构，省略说明。用图32说明本实施例的按压部30的结构。图32是表示缺陷周围部分的结构的侧面剖面图。
与上述实施例一样，对与缺陷部分相对应的位置照射脉冲激光，设置膜的开口部。并且，在缺陷部分的附近配置按压部30。由此，成为图32所示的结构。
按压部30的底面设置成平坦的，在其一部分上形成有凹陷34。在底面设置有例如2个凹陷34。另外，在按压部30的底面设置的凹陷也可以设置成1个或多个。该凹陷34设置在较底面中心更靠近侧面的一侧上。该凹陷34具有与刮出多余的树脂溶液17的刮板同样的功能。首先，与实施例9一样，用底面的平坦部分按压树脂溶液17，使树脂溶液17填入缺陷部分。由此，树脂溶液17进入缺陷部分的里面，并附着在基板6的整个表面上。此时，按压部30的底面相对于作为缺陷的区域设置得足够大，凹陷34配置在缺陷位置的外侧。
另外，在按压部30按压在基板上的状态下，使按压部30在横向移动。按压部30的底面和凹陷34的棱线成为边缘，从缺陷位置之上刮出膜5之上的多余的树脂溶液17。即，按压部30的底面和凹陷34相交的线在横向上移动，与刮板31的前端一样地刮出树脂溶液17。
凹陷34一直形成到按压部30的侧面。即，每个凹陷34从按压部30的一个侧面形成到相对一侧的侧面。刮出的树脂溶液17从按压部30的侧面排出。与实施例9一样，缺陷部分所涂敷的树脂溶液17的上表面变成平坦的。与实施例9一样地进行膜5的除去和溶剂的蒸发。由此，与实施例9一样，构成图31B所示的结构。由于由凹陷34刮出树脂溶液，因此树脂溶液17的高度均匀。由此，能使缺陷部分所附着的树脂38的高度均匀。
在本实施例中，与实施例9一样，能容易地控制缺陷部分所附着的树脂38的量。即，根据膜5的厚度和按压部30的按压，控制树脂溶液17的涂敷量。另外，根据树脂溶液17的树脂和溶剂的比例，控制留在缺陷部分的树脂38的厚度。通过这些调整，能容易地控制树脂38的附着量，从而能进行稳定的缺陷修正。
实施例11
用图33说明本实施例的缺陷修正装置的结构。图33表示缺陷修正装置的结构。在本实施例中，用辊子32代替按压部30和刮板31控制树脂38的厚度。即，辊子32具有与按压部30和刮板31相同的功能。对于与上述的实施例同样的结构，省略说明。
与实施例1一样，对于膜5，对与缺陷部分相对应的位置照射脉冲激光，设置开口部。然后，把树脂溶液17涂敷到开口部的位置。例如，用分配器滴树脂溶液，涂敷在缺陷部分上。或者，也可以用实施例9所示的任一种方法进行涂敷。使辊子32移动到缺陷部分的附近。并且，配置在缺陷附近的辊子32与具有诸如电机等的辊子转动部件35连接。由此，成为图33所示的结构。或者，也可以通过把辊子32压在基板上并使其移动，由膜5和辊子32之间的摩擦力使辊子32转动。如果用辊子转动部件35使辊子32转动，则辊子32在Y方向上移动。另外，辊子32可以设置成用电机(未图示)等使其在上下方向上移动。在Z方向上移动该辊子32，把树脂溶液压入基板6的同时，通过使辊子转动，使其在Y方向上移动，除去在开口部之上设置的树脂溶液。
用图34说明用辊子32进行的树脂溶液17的厚度调整。图34是表示缺陷部分的结构的剖面图。辊子32制成圆筒状的结构，并设置成能转动，使得在开口部之上横穿过去。该辊子32具有与实施例9所示的按压部30和刮板31同样的功能。在涂敷了树脂溶液17的状态下，一边把辊子32按压到基板6上，一边使其沿箭头方向转动。辊子32的转动由辊子转动部件35控制。辊子32移动，使得横穿缺陷部分。辊子32设置得比开口部的尺寸大很多。即，辊子32的两端配置在开口部的外侧。
在把辊子32按压在基板上的状态下，使其转动，除去在开口部之上所涂敷的多余的树脂溶液17。即，膜5和辊子32之间的树脂溶液17在辊子32的行进方向上被挤出。由此，能平坦地涂敷树脂溶液17。并且，由于辊子32压在基板6上，因此在通过开口部时，树脂溶液17进入被压着的缺陷部分。由此，树脂溶液17能填入缺陷部分，并能使其附着在基板6上。
通过用辊子32除去多余的树脂溶液17，能对缺陷部分以均匀的厚度涂敷树脂溶液17。由此，与实施例9一样，在缺陷部分所涂敷的树脂溶液17的上表面是平坦的。与实施例9一样，进行膜5的除去和溶剂的蒸发。由此与实施例9一样成为图31B所示的结构。由于用辊子32除去树脂溶液17，因此树脂溶液17的高度是均匀的。从而能使缺陷部分附着的树脂38的高度均匀。
在本实施例中，与实施例9一样，能容易地控制缺陷部所附着的树脂38的量。即，根据辊子32的转动速度、膜5的厚度和按压部30的按压，能控制树脂溶液17的涂敷量。另外，根据树脂溶液17中树脂和溶剂的比例，也能控制在缺陷部分留下的树脂的厚度。根据这些调整，能容易地控制树脂38的附着量，从而能进行稳定的缺陷修正。
辊子32最好使用对树脂溶液17润湿性低的材质。即，对于辊子32，最好使用树脂溶液17难以附着的材质。对于辊子32，可以使用由，例如特富龙(Teflon)(注册商标)覆盖表面的辊子。由此，树脂溶液17难以附着到辊子32上，从而能容易地进行树脂溶液的高度调整。即，如果修正后树脂溶液17附着到辊子32上，则随着时间推移溶剂蒸发。之后，树脂38残留在辊子32上。如果使用表面残留了树脂38的辊子32进行接下来的缺陷修正，有可能不能使缺陷部分所涂敷的树脂溶液的高度均匀。
在本发明中，通过使用对辊子32润湿性低的材质，能进行稳定的缺陷修正。另外，在树脂38残留在辊子32上时，最好对辊子32进行清洗，除去残留的树脂。
实施例12用图35对本实施例的缺陷修正装置进行说明。图35是表示缺陷修正装置的结构的示意图。本实施例与实施例11一样，用辊子32在基板的缺陷部分涂敷树脂溶液17。另外，在本实施例中，在辊子32和膜5之间设有保护膜33。保护膜33是为了防止树脂溶液17附着到辊子32上而设置的。对于与上述实施例相同的结构，省略说明。
与实施例1一样，对于膜，对与缺陷部分对应的位置照射脉冲激光，设置开口部。然后，在开口部的位置涂敷树脂溶液17。例如，用分配器滴树脂溶液，涂敷到缺陷部分。或者，也可以用实施例9所示的任一种方法，进行涂敷。在缺陷部分的附近配置辊子32。辊子32连接到具有电机等的辊子转动部件35。用辊子转动部件35使辊子32转动，由此辊子32在Y方向上移动。并且，在辊子32和膜5之间移动保护膜33。即，在膜5之上设置保护膜33。在保护膜33之上配置辊子32。
保护膜33与膜5一样卷到膜卷轴19上。膜卷轴19连接到膜转动部件(未图示)，能分别使膜卷轴19转动。通过使2个膜卷轴19转动，连续地在Y方向上输送保护膜33。该保护膜33和膜卷轴19设置为能在与Y方向垂直的水平方向上移动。经激光照射设置了开口部后，能在与缺陷位置相对应的位置配置保护膜33。由此，变成由保护膜33覆盖设置在膜5上的开口部的结构。
此时的缺陷部周围的结构如图36所示。图36是表示缺陷部周围的结构的剖面图。在膜5的开口部涂敷有树脂溶液17。并且在其上配置有保护膜33。另外，在保护膜33之上配置辊子32。辊子32配置在开口部附近。
与实施例11一样，在把辊子32按压到基板6上的状态下，使其转动。由此，保护膜33和膜5紧贴在一起。并且，在膜5和保护膜33之间的树脂溶液17沿辊子32的行进方向挤出。由此，能除去开口部之上所涂敷的多余的树脂溶液17。由于把辊子32压到了基板6上，因此树脂溶液17进入压着的缺陷部分。由此，树脂溶液17填入到缺陷部分，并能使其附着到基板6上。
通过用辊子32除去多余的树脂溶液17，能以恒定的厚度对缺陷部分涂敷树脂溶液17。由此，与实施例9一样，缺陷部分所涂敷的树脂溶液17的上表面是平坦的。与实施例9一样成为图31B所示的结构。由于用辊子32除去了树脂溶液17，因此树脂溶液17的高度是均匀的。由此能使缺陷部分附着的树脂38的高度均匀。
在本实施例中，与实施例9一样，能容易地控制缺陷部分所附着的树脂38的量。即，根据辊子32的转动速度、膜5的厚度和按压部30的按压，能控制树脂溶液17的涂敷量。另外，根据树脂溶液17中树脂和溶剂的比例，也能控制在缺陷部分留下的树脂的厚度。根据这些调整，能容易地控制树脂38的附着量，从而能进行稳定的缺陷修正。
保护膜33由与树脂溶液17润湿性低的材质形成。即，对于保护膜33，最好使用树脂溶液17难以附着的材质。对于保护膜33可以使用由，例如特富龙(注册商标)覆盖表面的膜。由于保护膜配置在辊子32和树脂溶液17之间，因此树脂溶液17不与辊子32接触。因此，能完全防止树脂溶液17附着到辊子32上。由此，可以省去用于去除辊子32上附着的树脂溶液17的清洗工序。能比实施例11更容易地进行保养。
另外，由于保护膜33由膜卷轴19输送，因此能使用保护膜33未附着树脂溶液17的部分。即，使用一次后，输送附着了树脂溶液17的部分，从而能总是使用保护膜33的新的部分。由此，在与缺陷部分相对的位置，配置因未使用而未附着树脂溶液17的保护膜33。因此，能使在缺陷部分所涂敷的树脂溶液17的高度均匀，从而能进行稳定的缺陷修正。
权利要求
1.一种缺陷修正装置，除去形成了图形的基板上的缺陷，其特征在于，包括发出脉冲激光的脉冲激光光源，以及与上述基板相对设置的膜，通过对上述膜照射来自上述脉冲激光光源的脉冲激光，用激光烧蚀大致同时地除去上述膜的一部分和上述缺陷。
2.根据权利要求1所述的缺陷修正装置，其特征在于通过照射上述脉冲激光使上述膜变�。眉す馍帐创笾峦钡爻ド鲜瞿さ囊徊糠趾蜕鲜鋈毕荨�
3.根据权利要求1或2所述的缺陷修正装置，其特征在于还包括把上述膜变更为具有转印到上述基板的转印层的膜的膜变更部件；对具有上述转印层的膜照射脉冲激光，把上述转印层转印到上述基板上。
4.根据权利要求3所述的缺陷修正装置，其特征在于把上述转印层转印到除去了上述缺陷的部分上。
5.根据权利要求1或2所述的缺陷修正装置，其特征在于还包括使依照上述基板上的修正图形的修正液附着到上述基板上的喷嘴；使上述修正液从除去了上述膜的部分附着到上述基板上来进行缺陷修正。
6.根据权利要求1或2所述的缺陷修正装置，其特征在于还包括能移动到除去了上述膜的部位的位置上且具有转印层的膜，从除去了上述膜的部分使上述转印层转印到上述基板上来进行缺陷修正。
7.一种缺陷修正装置，把图形转印到形成了图形的基板的缺陷部分上来进行缺陷修正，其特征在于，包括在与上述基板相对的面上具有转印到上述基板的转印层且接近上述基板的膜，以及发出照射具有上述转印层的膜的脉冲激光的脉冲激光光源，对具有上述转印层的膜照射来自上述脉冲激光光源的脉冲激光，把转印层转印到上述基板的缺陷部分上。
8.根据权利要求7所述的缺陷修正装置，其特征在于上述基板是具有遮光膜和在上述遮光膜之上形成的抗蚀剂图形的光掩模用基板，上述缺陷修正装置修正上述抗蚀剂图形的缺陷。
9.一种缺陷修正装置，修正形成了图形的基板的缺陷，其特征在于，包括与上述基板相对设置的膜，发出照射上述膜、在上述膜上设置开口部的脉冲激光的脉冲激光光源，以及能移动到上述开口部的位置上且使依照上述基板上的修正图形的修正液附着到上述基板上的喷嘴，从除去了上述膜的部分使上述修正液附着到上述基板上来进行缺陷修正。
10.一种缺陷修正装置，修正形成了图形的基板的缺陷，其特征在于，包括与上述基板相对设置的膜，发出照射上述膜、在上述膜上设置开口部的脉冲激光的脉冲激光光源，以及能移动到与上述开口部相对应的位置上且具有转印层的膜，经由上述开口部使上述转印层转印到上述基板上来进行缺陷修正。
11.根据权利要求10所述的缺陷修正装置，其特征在于还包括能移动到与上述开口部相对应的位置上的加热块，用上述加热块把具有上述转印层的膜压到上述基板上来转印转印层。
12.根据权利要求11所述的缺陷修正装置，其特征在于上述加热块还具有与上述开口部相对应的凸部，用上述凸部把上述基板和具有上述转印层的膜压在一起。
13.根据权利要求9～12中任一项所述的缺陷修正装置，其特征在于还包括对设置了上述开口部的膜进行固定的固定部件。
14.根据权利要求3、4、7、8或10中任一项所述的缺陷修正装置，其特征在于具有上述转印层的膜还包括吸收上述脉冲激光的吸收层，对上述吸收层照射脉冲激光，把上述转印层转印到上述基板上。
15.根据权利要求14所述的缺陷修正装置，其特征在于在上述吸收层和上述转印层之间，具有在把上述转印层转印到上述基板上之后使上述吸收层从上述转印层分离的分离层。
16.根据权利要求5或9所述的缺陷修正装置，其特征在于照射上述脉冲激光，除去在除去了上述膜的部分或者上述开口部的周围部分的上述修正液。
17.根据权利要求1～16中任一项所述的缺陷修正装置，其特征在于还包括对上述膜或者具有上述转印层的膜喷射气体的喷射部件，用上述喷射部件使上述膜或者具有上述转印层的膜接近上述基板。
18.根据权利要求1～17中任一项所述的缺陷修正装置，其特征在于还包括使来自上述脉冲激光光源的脉冲激光成形的光束成形机构，对上述膜或者具有上述转印层的膜照射由上述光束成形机构成形的脉冲激光。
19.根据权利要求1～18中任一项所述的缺陷修正装置，其特征在于，还包括在与来自上述脉冲激光光源的脉冲激光大致相同的轴上，对上述基板照射光的观察用光源，检测照射在上述基板上的来自上述观察用光源的光的检测部件。
20.根据权利要求19所述的缺陷修正装置，其特征在于具有上述转印层的膜还具有使来自上述观察用光源的光透过的透明层，还包括输送具有上述转印层的膜的膜卷轴，其使得照射上述光的位置从上述透明层变更为上述转印层。
21.根据权利要求19或20所述的缺陷修正装置，其特征在于还包括选择来自上述观察用光源的光的波长的波长可变滤光片，由从上述波长可变滤光片射出的光对上述基板或者上述转印层进行加热。
22.一种缺陷修正方法，除去形成了图形的基板上的缺陷，其特征在于，包括检测基板上的缺陷的步骤，以及对与上述基板相对设置的膜照射脉冲激光，用激光烧蚀大致同时地除去上述膜的一部分和缺陷的步骤。
23.根据权利要求22所述的缺陷修正方法，其特征在于还包括通过照射上述脉冲激光使上述膜变薄的步骤；对上述膜变薄的部分照射脉冲激光，用激光烧蚀大致同时地除去上述膜的一部分和上述缺陷。
24.根据权利要求22或23所述的缺陷修正方法，其特征在于，还包括把上述膜变更为具有转印到上述基板上的转印层的膜的步骤，以及对具有上述转印层的膜照射脉冲激光，把上述转印层转印到上述基板上的步骤。
25.根据权利要求22或23所述的缺陷修正方法，其特征在于，还包括使依照要修正的图形的修正液从除去了上述膜的部分附着到上述基板上的步骤，以及从上述基板去掉上述膜的步骤。
26.一种缺陷修正方法，把图形转印到形成了图形的基板的缺陷部分上来进行缺陷修正，其特征在于，包括检测上述基板上的缺陷的步骤，使在与上述基板相对的面上具有转印到上述基板上的转印层的膜接近上述基板的步骤，以及对上述膜照射脉冲激光，把上述转印层转印到上述基板上的步骤。
27.一种缺陷修正方法，修正形成了图形的基板的缺陷，其特征在于，包括检测基板上的缺陷的步骤，使膜与上述基板相对的步骤，对上述膜照射脉冲激光、设置开口部的步骤，经由上述开口部使依照要修正的图形的修正液附着到上述基板的缺陷部分上的步骤，以及从上述基板去掉上述膜的步骤。
28.一种缺陷修正方法，修正形成了图形的基板的缺陷，其特征在于，包括检测基板上的缺陷的步骤，使膜与上述基板相对的步骤，对上述膜照射脉冲激光、设置开口部的步骤，在上述开口部的位置上设置具有转印层的膜的步骤，以及经由上述开口部把上述转印层转印到基板上的步骤。
29.根据权利要求27或28所述的缺陷修正方法，其特征在于还包括除去上述开口部的周围的上述膜，并设置用于除去上述基板和具有上述转印层的膜之间的空气的空气除去部的步骤，在上述开口部和上述空气除去部的位置上设置具有上述转印层的膜。
30.根据权利要求22～29中任一项所述的缺陷修正方法，其特征在于向上述膜或者具有上述转印层的膜喷射气体，使其接近上述基板。
31.一种图形基板制造方法，其特征在于，包括在基板上形成图形的步骤，检测上述基板上的缺陷的步骤，以及对与上述基板相对设置的膜照射脉冲激光，用激光烧蚀大致同时地除去上述膜的一部分和上述缺陷的步骤。
32.根据权利要求31所述的图形基板制造方法，其特征在于，还包括把上述膜变更为具有转印到上述基板上的转印层的膜的步骤，以及向具有上述转印层的膜照射脉冲激光，把上述转印层转印到上述基板上的步骤。
33.根据权利要求31所述的图形基板制造方法，其特征在于，还包括使依照要修正的图形的修正液从除去了上述膜的部分附着到上述基板上的步骤，以及从上述基板去掉上述膜的步骤。
34.一种图形基板制造方法，把图形转印到形成了图形的基板的缺陷部分上来形成图形，其特征在于，包括在基板上形成图形的步骤，检测形成了图形的基板上的缺陷的步骤，使在与上述基板相对的面上具有转印到上述基板上的转印层的膜接近上述基板的步骤，以及向上述膜照射脉冲激光，把上述转印层转印到上述基板的缺陷部分上的步骤。
35.一种图形基板制造方法，制造形成了图形的基板，其特征在于，包括在基板上形成图形的步骤，检测基板上的缺陷的步骤，使膜与上述基板相对的步骤，向上述膜照射激光、设置开口部的步骤，经由上述开口部使依照要修正的图形的修正液附着到上述基板的缺陷部分上的步骤，以及从上述基板去掉上述膜的步骤。
36.一种图形基板制造方法，制造形成了图形的基板，其特征在于，包括在基板上形成图形的步骤，检测基板上的缺陷的步骤，使膜与上述基板相对的步骤，向上述膜照射激光、设置开口部的步骤，在上述开口部的位置设置上具有转印层的膜的步骤，经由开口部把上述转印层转印到上述基板上的步骤，以及从上述基板去掉上述膜的步骤。
37.根据权利要求35或36所述的图形基板制造方法，其特征在于还包括除去上述开口部的周围的上述膜，设置空气除去部的步骤，在上述开口部和上述空气除去部的位置上设置具有转印层的膜。
38.根据权利要求31～37中任一项所述的图形基板制造方法，其特征在于向上述膜或者具有上述转印层的膜喷射气体，使其接近上述基板。
39.一种缺陷修正装置，修正形成了图形的基板的缺陷，其特征在于，包括与上述基板相对设置的膜；发出照射上述膜、在上述膜上设置开口部的激光的激光光源；经由上述开口部把缺陷修正用的溶液涂敷到上述基板的缺陷部分上的涂敷部件；以及通过对上述基板进行按压，使经由上述开口部涂敷到上述基板上的溶液压入缺陷部分中的按压部件。
40.根据权利要求39所述的缺陷修正装置，其特征在于还包括设置得能在与上述基板大致平行的方向上移动、除去在上述开口部之上所设置的上述溶液的除去部件，移动上述除去部件使其横穿上述开口部，调整在上述开口部之上所设置的溶液的高度。
41.根据权利要求40所述的缺陷修正装置，其特征在于上述除去部件具有能使上述膜按压到上述基板上的刮板，刮出并除去在上述开口部之上所设置的上述溶液。
42.根据权利要求40或41所述的缺陷修正装置，其特征在于使上述按压部件向上述开口部的外侧移动，在用上述按压部件把上述膜按压到上述基板上的状态下，由上述除去部件除去在上述开口部之上所设置的上述溶液。
43.根据权利要求40所述的缺陷修正装置，其特征在于上述除去部件由在上述按压部件的底面上设置的凹陷构成，在把上述按压部件按压到上述基板上的状态下，使其在与上述基板大致平行的方向上移动，由上述凹陷除去在上述开口部之上所设置的上述溶液。
44.根据权利要求39所述的缺陷修正装置，其特征在于上述按压部件具有设置得可横穿上述开口部来移动地进行转动的辊子，通过使上述辊子转动，除去在上述开口部之上所设置的上述溶液，调整在上述开口部之上所设置的上述溶液的高度。
45.根据权利要求44所述的缺陷修正装置，其特征在于还包括在上述辊子和上述膜之间设置的保护膜，经由上述保护膜除去在上述开口部之上所设置的上述溶液。
46.根据权利要求39～45中任一项所述的缺陷修正装置，其特征在于激光光源是脉冲激光光源，通过照射来自上述脉冲激光光源的脉冲激光，经由上述膜的开口部除去上述基板的缺陷，并在除去了上述缺陷的部分上涂敷上述溶液。
47.一种缺陷修正方法，修正形成了图形的基板的缺陷，其特征在于，包括检测上述基板上的缺陷的步骤；使膜与上述基板相对的步骤；对上述膜照射脉冲激光，设置与上述缺陷相对应的开口部的步骤；经由上述开口部在上述基板的缺陷部分上涂敷缺陷修正用的溶液的步骤；把经由上述开口部涂敷在上述基板上的上述溶液压入上述缺陷部分中的步骤；以及从上述基板去掉上述膜的步骤。
48.根据权利要求47所述的缺陷修正方法，其特征在于在涂敷上述溶液的步骤之后，还包括除去在上述开口部之上所设置的上述溶液、调整上述溶液的高度的步骤。
49.根据权利要求48所述的缺陷修正方法，其特征在于在除去上述溶液的步骤中，在使上述膜紧贴在上述基板上的状态下，刮出在上述开口部之上所设置的上述溶液，并除去上述溶液。
50.一种图形基板制造方法，其特征在于，包括在基板上形成图形的步骤；检测上述基板上的图形的缺陷的步骤；使膜与上述基板相对的步骤；对上述膜照射脉冲激光、设置与上述缺陷相对应的开口部的步骤；经由上述开口部在上述基板的缺陷部分上涂敷缺陷修正用的溶液的步骤；把经由上述开口部涂敷在上述基板上的上述溶液压入上述缺陷部分中的步骤；以及从上述基板去掉上述膜的步骤。
51.根据权利要求50所述的图形基板制造方法，其特征在于在涂敷上述溶液的步骤之后，还包括除去在上述开口部之上所设置的上述溶液、调整上述溶液的高度的步骤。
52.根据权利要求51所述的图形基板制造方法，其特征在于在除去上述溶液的步骤中，在使上述膜紧贴在上述基板上的状态下，刮出在上述开口部之上所设置的上述溶液，并除去上述溶液。
全文摘要
本发明公开了一种图形基板的缺陷修正方法、缺陷修正装置和图形基板制造方法，能稳定地修正缺陷。本发明的缺陷修正装置是修正形成了图形的基板上的缺陷的缺陷修正装置，包括放置基板(6)的载物台(7)、短脉冲激光光源(1)、使来自短脉冲激光光源(1)的短脉冲激光成形的光束成形机构(2)、以及用于使膜(5)接近基板(6)的气体喷射部件(13)。通过对膜(5)照射激光，同时除去膜(5)和缺陷，并且，移动膜卷轴(8)，使具有着色层(51)的膜(5)接近基板(6)，并把图形转印到基板。
文档编号G01M11/00GK1584534SQ20041005829
公开日2005年2月23日 申请日期2004年8月20日 优先权日2003年8月20日
发明者楠濑治彦, 田岛敦, 粟村直树, 畑濑晃, 石川拓自, 小川洁 申请人:雷射科技股份有限公司
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