专利名称：定位方法及定位装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及定位技术领域，尤其是涉及一种用于液晶面板制程中的定位方法及定位装置。
背景技术：
在TFT阵列基板的制程中，需要测量TFT阵列基板的信号线的宽度，以保证TFT阵列基板的质量。现有技术中，在测量阵列基板的信号线之前，一般先由激光定位装置对TFT阵列基板进行定位，使测量装置能获取更清楚的图片，提高测量的准确度。目前的激光定位装置在对TFT阵列基板进行定位时，由激光定位装置的激光发射器向TFT阵列上预先确定的待定位点发射光束，发射的光束经待定位点反射后形成反射光束，接收器则接收该反射光束来确定待定位点的高度信息，然后根据定位点的高度信息调整TFT阵列基板的高度，使TFT阵列基板处于最适合测量装置进行测量的高度。然而由于在进行定位时，TFT阵列基板上已形成多个元件，使TFT阵列基板的表面凹凸不平，并且有时TFT阵列基板表面也会存在各种杂质，若待定位点的表面凹凸不平或者有杂质，则会导致照射到待定位点上的光束反射后呈散射状态，使得反射光束投射于接收器范围之外，导致接收器不能接收到待定位点的反射光束，从而导致定位失败。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种定位方法及定位装置，旨在提高定位的成功率。为达以上目的，本发明提出一种定位方法，包括步骤向待定位点和辅助定位点发射光束；接收发射的光束经待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束；判断是否接收到所述待定位点反射回来的反射光束；若是，则根据所述待定位点或辅助定位点反射回来的反射光束确定所述待定位点的高度信息；若否，则根据所述辅助定位点反射回来的反射光束确定所述待定位点的高度信
肩、O优选地，所述根据所述待定位点或辅助定位点反射回来的反射光束确定该待定位点的高度信息包括判断接收到的所述待定位点反射回来的反射光束是否有效；若有效，则根据所述待定位点反射回来的反射光束确定该待定位点的高度信息；若无效，则根据所述辅助定位点反射回来的反射光束确定所述待定位点的高度信
肩、O优选地，所述根据所述辅助定位点反射回来的反射光束确定所述待定位点的高度信息包括根据所述辅助定位点反射回来的有效反射光束确定所述待定位点的高度信息。
优选地，所述根据反射光束确定所述待定位点的高度信息包括记录所述待定位点和辅助定位点的投射位置；根据所述投射位置确定所述待定位点的高度信息。优选地，所述向待定位点和辅助定位点发射光束的步骤之前还包括确定所述待定位点；确定所述辅助定位点，且该辅助定位点以所述待定位点为中心对称设置。本发明同时提出一种定位装置，包括发射器，用于向待定位点和辅助定位点发射光束；接收器，用于接收发射器发射的光束经待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束；判断�？椋卸纤鼋邮掌魇欠窠邮盏剿龃ㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐患扑隳？椋糜诮邮张卸夏？榈呐卸辖峁艚邮盏降呐卸辖峁鞘保蚋荽ㄎ坏慊蚋ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔ⅲ蝗艚邮盏降呐卸辖峁袷保蚋莞ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔�。优选地，所述判断�？榛褂糜谂卸纤鼋邮掌鹘邮盏降乃龃ㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐欠裼行В⒔卸辖峁⑺椭了黾扑隳？椋凰黾扑隳？榻邮盏脚卸辖峁行保蚋荽ㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐范ǜ么ㄎ坏愕母叨刃畔ⅲ患扑隳？榻邮盏脚卸辖峁扌保蚋莞ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔ⅰＳ叛〉兀雠卸夏？榛褂糜谂卸纤鼋邮掌鹘邮盏降母ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐欠裼行В⒔卸辖峁⑺椭了黾扑隳？椋凰黾扑隳？楦莞ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔⑹保蜓≡袼龈ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹挠行Х瓷涔馐范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔�。优选地，所述接收器还用于记录所述待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束在接收器上的投射位置，所述计算�？楦菟鐾渡湮恢萌范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔ⅰＳ叛〉兀龆ㄎ蛔爸没拱ㄈ范？椋萌范？橛糜谌范ùㄎ坏愫透ㄖㄎ坏悖龈ㄖㄎ坏阋运龃ㄎ坏阄行亩猿粕柚�。本发明所提供的一种定位方法及定位装置，通过预先确定待定位点和辅助定位点，当无法接收到待定位点反射回来的反射光束或反射光束无效时，则根据辅助定位点反射回来的反射光束确定待定位点的高度信息，从而提高了定位的成功率。
图1是本发明的定位方法第一实施例的流程图；图2是本发明中待定位点和辅助定位点的分布示意图；图3是本发明中待定位点和辅助定位点的另一分布示意图；图4是本发明中辅助定位点反射回来的反射光线投射于定位器的示意图；图5是本发明的定位方法第二实施例的流程图；图6是本发明的定位装置一实施例的结构示意图。本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施例方式应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。参见图1，提出本发明的定位方法第一实施例，所述定位方法用于在测量阵列基板时对待测量点进行定位，该定位方法包括步骤S101、向待定位点和辅助定位点发射光束。以阵列基板为例，在对阵列基板进行量测时，先确定待量测点，在对该待量测点量测之前，需首先对该量测点定位。定位时，则该待量测点即为需要定位的待定位点，再于该待定位点周围确定若干辅助定位点。作为优�。ㄖㄎ坏憧梢砸源ㄎ坏阄行姆植加诟么ㄎ坏阒芪В詈檬且源ㄎ坏阄行亩猿品植加诖ㄎ坏阒芪В示匦位蛟残蔚榷猿萍负翁迮挪迹ㄎ坏阍蛭负沃行模缤�2所示，位于矩形几何中心的是待定位点0，对称分布于该待定位点0周围的为辅助定位点A、B、C、D、E、F、G、H。辅助定位点和待定位点也可以呈直线排布，且辅助定位点对称分布于待定位点两侧，如图3所示，位于直线中点的为待定位点0，对称分别于该待定位点0两侧的为辅助定位点A、B、C、D0辅助定位点越多，则定位成功率越高、定位越准确。确定了待定位点和辅助定位点之后，则向预先确定的待定位点和辅助定位点发射光束。步骤S102、接收发射的光束经待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束。本步骤S102中，光束照射到待定位点和辅助定位点上后在待定位点和辅助定位点发生反射，形成反射光束，接收待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束，并记录反射光束投射于接收器上的投射位置。步骤S103、判断是否接收到待定位点反射回来的反射光束。阵列基板的表面凹凸不平，并且有时阵列基板表面也会存在各种杂质，若待定位点或辅助定位点的表面凹凸不平或者有杂质，则会导致照射到待定位点或辅助定位点上的光束反射后呈散射状态，使得反射光束投射于接收器的接收范围之外，导致接收器不能接收到待定位点或辅助定位点反射回来的反射光束，若在步骤S102中记录的投射位置中没有待定位点反射回来的反射光束的投射位置，则表示未接收到待定位点反射回来的反射光束。判断是否接收到待定位点反射回来的反射光束，若是，则执行步骤S104 ;若否，则执行步骤S105。步骤S104、根据待定位点反射回来的反射光束确定待定位点的高度信息。如果接收到了待定位点反射回来的反射光束的投射位置，则可以根据该待定位点反射回来的反射光束的投射位置来直接确定该待定位点的高度。例如，当待定位点反射回来的反射光束投射于接收器时向上偏离接收器中心I个单位，则直接确定待定位点的高度为1，后续对待定位点进行量测时，将阵列基板向下移动I个单位即可；当反射光束投射于接收器时向下偏离接收器中心3个单位，则直接确定待定位点的高度为-3，后续对待定位点进行量测时，将阵列基板向上移动3个单位即可；当反射光束投射于接收器时刚好位于接收器中心，则直接确定待定位点的高度为0，后续可直接对待定位点进行量测。当然，即使接收到了待定位点反射回来的反射光束的投射位置，也可以通过辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置间接计算出待定位点的高度；或者先通过待定位点反射回来的反射光束的投射位置直接确定待定位点的高度，再通过辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置来间接确定待定位点的高度，对比两个高度值的大小差异，以此来验证定位方法定位的准确性，从而作为后续量测时三西格玛变差的参考。对于通过辅助定位点反射回来的反射光束来间接确定待定位点的高度的方法，将在下述步骤中详细说明。步骤S105、根据辅助定位点反射回来的反射光束确定待定位点的高度信息。如果待定位点因表面凹凸不平或者有杂质而使得接收器不能接收到该待定位点的反射光束，此时则根据辅助定位点反射回来的反射光束投射于接收器上的位置来确定待定位点的高度信息。例如，如图4所示，显示了辅助定位点反射回来的反射光束投射于接收器的示意图，其中坐标原点即为接收器的中心。接收器接收到对称分布于待定位点0两侧的两个辅助定位点A和B反射回来的反射光束，当A的反射光束投射于接收器的位置A丨向上偏离接收器中心4个单位，B的反射光束投射于接收器的位置B丨刚好位于接收器中心，由于辅助定位点A和B对称地设置在待定位点0的两侧，因此可以确定位于辅助定位点A和B中间的待定位点0如果正常反射，则其反射回来的反射光束投射于接收器的投影点0 '(图中该点以虚线表示)应该位于A '和B '之间，即待定位点0的高度应为(4+0)/2=2 ;或者，当A的反射光束投射于接收器时向上偏离3个单位，B的反射光束投射于接收器时向下偏离I个单位，则可以确定待定位点的高度为(3-1)/2=1。当然，也会出现一个或多个辅助定位点的表面凹凸不平或者有杂质的情况，导致接收器也无法接收到该辅助定位点反射回来的反射光束，因此选择的辅助定位点越多，定位成功的几率越高。同时可以通过多对辅助定位点反射回来的反射光束来分别确定待定位点的高度，当得出的数据有差异时，可对其求平均值，如此得到的高度更精确，从而可提高定位的准确率。据此，本实施例通过预先确定待定位点和辅助定位点，当无法接收到待定位点反射回来的反射光束时，则根据辅助定位点反射回来的反射光束确定待定位点的高度信息，从而提闻了定位的成功率。参见图5所示的本发明的定位方法第二实施例，本实施例的定位方法包括以下步骤步骤S201、向待定位点和辅助定位点发射光束。以阵列基板为例，在对阵列基板进行量测时，先确定待量测点，在对该待量测点量测之前，需首先对该量测点定位。定位时，则该待量测点即为需要定位的待定位点，再于该待定位点周围确定若干辅助定位点。作为优�。ㄖㄎ坏憧梢砸源ㄎ坏阄行姆植加诟么ㄎ坏阒芪В詈檬且源ㄎ坏阄行亩猿品植加诖ㄎ坏阒芪В示匦位蛟残蔚榷猿萍负翁迮挪迹ㄎ坏阍蛭负沃行模缤�2所示，位于矩形几何中心的是待定位点0，对称分布于该待定位点0周围的为辅助定位点A、B、C、D、E、F、G、H。辅助定位点和待定位点也可以呈直线排布，且辅助定位点对称分布于待定位点两侧，如图3所示，位于直线中点的为待定位点0，对称分别于该待定位点0两侧的为辅助定位点A、B、C、D0辅助定位点越多，则定位成功率越高、定位越准确。确定了待定位点和辅助定位点之后，则使用定位装置待定位点和辅助定位点发射光束。
步骤S202、接收发射的光束经待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束。本步骤S202中，光束照射到待定位点和辅助定位点上后在待定位点和辅助定位点发生反射，形成反射光束，接收待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束，并记录反射光束投射于接收器上的投射位置。步骤S203、判断是否接收到待定位点反射回来的反射光束。阵列基板的表面凹凸不平，并且有时阵列基板表面也会存在各种杂质，若待定位点或辅助定位点的表面凹凸不平或者有杂质，则会导致照射到待定位点或辅助定位点上的光束反射后呈散射状态，使得反射光束投射于接收器的接收范围之外，导致接收器不能接收到待定位点或辅助定位点反射回来的反射光束，若在步骤S202中记录的位置中没有待定位点反射回来的反射光束的位置，则表示未接收到待定位点反射回来的反射光束。判断是否接收到待定位点反射回来的反射光束，若是，则执行步骤S204;若否，则执行步骤S205。步骤S204、判断待定位点反射回来的反射光束是否有效。在本步骤中，设置一有效位置范围。接收发射光束经过待定位点及辅助定位点形成的反射光束投射在接收器上的位置，并判断接收到的位置是否在有效位置范围内，当待定位点反射回来的反射光束的投射位置在该有效接收范围内时，则判定该反射光束有效，根据该有效的反射光束的投射位置确定的待定位点高度信息会更加精确；当待定位点反射回来的反射光束的投射位置在该有效接收范围以外时，则判定该反射光束无效，根据该无效的反射光束确定的待定位高度信息精确性较差。因此，为了提高定位的精确性，收到待定位点反射回来的反射光束的投射位置后，还进一步判断该反射光束是否有效。若无效，则执行步骤S205 ;若有效，则执行步骤S206。步骤S205、根据辅助定位点反射回来的反射光束确定待定位点的高度信息。如果待定位点因表面凹凸不平或者有杂质而使得接收器不能接收到该待定位点的反射光束，或者即使接收到待定位点反射回来的反射光束但判定该反射光束无效，此时则根据辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置来确定待定位点的高度信息。例如，如图4所示，显示了辅助定位点反射回来的反射光束投射于接收器的示意图，其中坐标原点即为接收器的中心。接收器接收到对称分布于待定位点0两侧的两个辅助定位点A和B反射回来的反射光束，当A的反射光束投射于接收器的位置A丨向上偏离接收器中心4个单位，B的反射光束投射于接收器的位置B丨刚好位于接收器中心，由于辅助定位点A和B对称地设置在待定位点0的两侧，因此可以确定位于辅助定位点A和B中间的待定位点0如果正常反射，则其反射回来的反射光束投射于接收器的投影点0 '(图中该点以虚线表示)应该位于A '和B '之间，即待定位点0的高度应为(4+0)/2=2 ;或者，当A的反射光束投射于接收器时向上偏离3个单位，B的反射光束投射于接收器时向下偏离I个单位，则可以确定待定位点的高度为(3-1)/2=1。当然，也会出现一个或多个辅助定位点的表面凹凸不平或者有杂质的情况，导致接收器也无法接收到该辅助定位点反射回来的反射光束，因此选择的辅助定位点越多，定位成功的几率越高。同时可以通过多对辅助定位点反射回来的反射光束来分别确定待定位点的高度，当得出的数据有差异时，可对其求平均值，如此得到的高度更精确，从而可提高定位的准确率。
此外，对于步骤S205，为了保证定位的准确性，在选择辅助定位点反射回来的反射光束时，同样选择那些投射于接收器有效位置范围内的有效反射光束，根据该有效反射光束投射于接收器的位置来确定待定位点的高度信息。步骤S206、根据待定位点反射回来的反射光束确定待定位点的高度。如果接收到了待定位点反射回来的有效反射光束，即待定位点反射回来的有效反射光束投射于接收器的有效位置范围内，则可以根据该待定位点反射回来的反射光束的投射位置来直接确定该待定位点的高度。例如，当待定位点反射回来的反射光束投射于接收器时向上偏离接收器中心I个单位，则直接确定待定位点的高度为1，后续对待定位点进行量测时，将阵列基板向下移动I个单位即可；当反射光束投射于接收器时向下偏离接收器中心3个单位，则直接确定待定位点的高度为-3，后续对待定位点进行量测时，将阵列基板向上移动3个单位即可；当反射光束投射于接收器时刚好位于接收器中心，则直接确定待定位点的高度为0，后续可直接对待定位点进行量测。当然，即使接收到了待定位点反射回来的反射光束的投射位置，也可以通过辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置间接计算出待定位点的高度；或者先通过待定位点反射回来的反射光束直接确定待定位点的高度，再通过辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置来间接确定待定位点的高度，对比两个高度值的大小差异，以此来验证定位装置定位的准确性，从而作为后续量测时三西格玛变差的参考。据此，本实施例通过对反射光束的投射位置有效性进行判断，选择投射于有效位置范围内的反射光束来确定待定位点的高度信息，从而提高了定位的精确性。参见图6，提出本发明的定位装置的优选实施例，该定位装置用于在测量阵列基板时对待测量点进行定位。所述定位装置100包括发射器110、接收器120、确定�？�130、判断�？�140及计算�？�150。确定�？�130用于在阵列基板上确定需要定位的待定位点，再根据待定位点确定若干辅助定位点。辅助定位点以待定位点为中心分布于待定位点周围。作为优�。ㄖㄎ坏憧梢砸源ㄎ坏阄行亩猿品植加诟么ㄎ坏阒芪В示匦位蛟残蔚榷猿萍负翁迮挪迹ㄎ坏阍蛭负沃行模缤�2所示，位于矩形几何中心的是待定位点0，对称分布于该待定位点0周围的为辅助定位点A、B、C、D、E、F、G、H。辅助定位点和待定位点也可以呈直线排布，且辅助定位点对称分布于待定位点两侧，如图3所示，位于直线中点的为待定位点0，对称分别于该待定位点0两侧的为辅助定位点A、B、C、D0辅助定位点越多，则定位成功率越高、定位越准确。当然，上述确定待定位点和辅助定位点的过程也可以由人工确定，只是本实施例由定位装置确定的准确性和速度更快。发射器110用于分别向预先确定的待定位点和辅助定位点发射光束，发射器110向待定位点发射光束的同时，也向以所述待定位点为中心分布于该待定位点周围的辅助定位点发射光束。接收器120用于接收发射器110发射的光束经待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束，并根据接收到的反射光束记录该反射光束在接收器120上的投射位置，然后将投射位置传送至判断模块140。判断�？�140用于接收反射光束的投射位置，然后判断所接收到的反射光束的投射位置中是否有待定位点反射回来的反射光束的投射位置，若是，则将待定位点反射回来的反射光束的投射位置和辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置传送至计算�？�150，计算�？�150则根据待定位点反射回来的反射光束的投射位置或辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置来确定待定位点的高度信息；若否，则将辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置传送至计算�？�150，计算�？�150则根据辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置来确定待定位点的高度信息。例如，当发射的光束经待定位点反射回来的反射光束投射于接收器120时向上偏离接收器120中心I个单位，则直接确定待定位点的高度为I ;当反射光束投射于接收器120时向下偏离接收器120中心3个单位，则直接确定待定位点的高度为-3 ;当反射光束投射于接收器120时刚好位于接收器120中心，则直接确定待定位点的高度为O。再如，如图4所示，显示了辅助定位点反射回来的反射光束投射于接收器的示意图，其中坐标原点即为接收器的中心。接收器120接收到对称分布于待定位点0两侧的两个辅助定位点A和B反射回来的反射光束，当A的反射光束投射于接收器120的投影点A向上偏离接收器120中心4个单位，B的反射光束投射于接收器120的投影点B丨刚好位于接收器120中心，鉴于阵列基板的厚度呈线性变化(即阵列基板的厚度逐渐增加会逐渐减小)，因此可以确定位于辅助定位点A和B中间的待定位点0如果正常反射，则其反射回来的反射光束投射于接收器的投影点0 '(图中该点以虚线表示)应该位于A'和B'之间，即待定位点0的高度应为(4+0)/2=2。当A的反射光束投射于接收器120时向上偏离3个单位，B的反射光束投射于接收器120时向下偏离I个单位，则可以确定待定位点的高度为(3-1)/2=1。据此，本实施例的定位装置100，通过发射器110向待定位点和辅助定位点发射光束，接收器120接收待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束，即使待定位点的反射光束因散射而导致接收器120没有接收到待定位点反射回来的反射光束，也可以通过辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置来确定待定位点的高度信息，因此提高了定位的成功率和效率。进一步地，判断�？�140还设有一有效位置范围，该判断�？�140还用于判断待定位点反射回来的反射光束的投射位置是否在有效位置范围内，当反射光束的投射位置在该有效位置范围内时，根据该反射光束的投射位置来确定的待定位点高度信息就比较精确；反之，当反射光束的投射位置在该有效位置范围外时，根据该反射光束的投射位置来确定的待定位点的高度信息的精确性就较差。为了提高定位的精确性，本实施例的判断模块140还用于根据检测接收到的待定位点反射回来的反射光束的投射位置是否投射于有效位置范围内，来判断该反射光束是否有效。若判断�？�140判断待定位点反射回来的反射光束投射于接收器120的投射位置在有效位置范围内，则判定该反射光束有效，并将该判断结果发送至计算�？�150，计算模块150则根据该有效的反射光束确定待定位点的高度信息。若判断�？�140判断待定位点反射回来的反射光束投射于接收器120的投射位置在有效位置范围外时，则判定该反射光束无效，并将该判断结果发送至计算�？�150，计算�？�150则根据辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置确定待定位点的高度信息。同时，为了保证定位的准确性，判断模块140还用于判断接收器接收到的辅助定位点反射回来的反射光束的投射位置是否在有效位置范围内，并将判断结果发送至计算�？�150，计算模块150在根据辅助定位点反射回来的反射光束确定所述待定位点的高度信息时，同样选择辅助定位点反射回来的有效反射光速来确定待定位点的高度信息，即选择那些投射于有效位置范围内的反射光束的投射位置，来确定待定位点的高度信息。例如，接收器120接收到对称分布于待定位点周围的两对辅助定位点，分别是C和D以及E和F，其中C的反射光束投射于接收器120时向上偏离接收器中心3个单位、D的反射光束投射于接收器120时向上偏离接收器中心I个单位、E的反射光束投射于接收器120时向下偏离接收器中心I个单位、F的反射光束投射于接收器120时向上偏离接收器中心10个单位。C、D、E的反射光束均投射于接收器120的有效接收范围内，F的反射光束则投射于接收器120的有效接收范围外，因此选择C和D的反射光束来确定待定位点的高度，从而待定位点的高度为(3+1)/2=2。当然，也会出现一个或多个辅助定位点的表面凹凸不平或者有杂质的情况，导致接收器120也无法接收到该辅助定位点反射回来的反射光束，因此选择的辅助定位点越多，定位成功的几率越高。同时可以通过多对辅助定位点反射回来的反射光束来分别确定待定位点的高度，当得出的数据有差异时，可对其求平均值，如此得到的高度更精确，提高了定位的准确率。本实施例中，判断�？�140通过对反射光束的投射位置的有效性进行判断，从而计算�？�150选择投射于有效位置范围内的反射光束来确定待定位点的高度信息，从而提高了定位的精确性。应当理解的是，以上仅为本发明的优选实施例，不能因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
权利要求
1.一种定位方法，其特征在于，包括步骤 向待定位点和辅助定位点发射光束； 接收发射的光束经待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束； 判断是否接收到所述待定位点反射回来的反射光束； 若是，则根据所述待定位点或辅助定位点反射回来的反射光束确定所述待定位点的高度信息； 若否，则根据所述辅助定位点反射回来的反射光束确定所述待定位点的高度信息。
2.根据权利要求1所述的定位方法，其特征在于，所述根据所述待定位点或辅助定位点反射回来的反射光束确定该待定位点的高度信息包括 判断接收到的所述待定位点反射回来的反射光束是否有效； 若有效，则根据所述待定位点反射回来的反射光束确定该待定位点的高度信息； 若无效，则根据所述辅助定位点反射回来的反射光束确定所述待定位点的高度信息。
3.根据权利要求2所述的定位方法，其特征在于，所述根据所述辅助定位点反射回来的反射光束确定所述待定位点的高度信息包括 根据所述辅助定位点反射回来的有效反射光束确定所述待定位点的高度信息。
4.根据权利要求1所述的定位方法，其特征在于，所述根据反射光束确定所述待定位点的高度信息包括 记录所述待定位点和辅助定位点的投射位置； 根据所述投射位置确定所述待定位点的高度信息。
5.根据权利要求1-4任一项所述的定位方法，其特征在于，所述向待定位点和辅助定位点发射光束的步骤之前还包括 确定所述待定位点； 确定所述辅助定位点，且该辅助定位点以所述待定位点为中心对称设置。
6.一种定位装置，其特征在于，包括 发射器，用于向待定位点和辅助定位点发射光束； 接收器，用于接收发射器发射的光束经待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束； 判断模块，判断所述接收器是否接收到所述待定位点反射回来的反射光束； 计算�？椋糜诮邮张卸夏？榈呐卸辖峁艚邮盏降呐卸辖峁鞘保蚋荽ㄎ坏慊蚋ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔ⅲ蝗艚邮盏降呐卸辖峁袷保蚋莞ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔�。
7.根据权利要求6所述的定位装置，其特征在于，所述判断�？榛褂糜� 判断所述接收器接收到的所述待定位点反射回来的反射光束是否有效，并将判断结果发送至所述计算�？椋� 所述计算模块接收到判断结果为有效时，则根据待定位点反射回来的反射光束确定该待定位点的高度信息；计算�？榻邮盏脚卸辖峁扌保蚋莞ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔�。
8.根据权利要求7所述的定位装置，其特征在于，所述判断�？榛褂糜谂卸纤鼋邮掌鹘邮盏降母ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐欠裼行В⒔卸辖峁⑺椭了黾扑隳？椋凰黾扑隳？楦莞ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔⑹保蜓≡袼龈ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹挠行Х瓷涔馐范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔�。
9.根据权利要求6所述的定位装置，其特征在于，所述接收器还用于记录所述待定位点和辅助定位点反射回来的反射光束在接收器上的投射位置，所述计算�？楦菟鐾渡湮恢萌范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔�。
10.根据权利要求6-9任一项所述的定位装置，其特征在于，所述定位装置还包括确定模块，该确定�？橛糜谌范ùㄎ坏愫透ㄖㄎ坏悖龈ㄖㄎ坏阋运龃ㄎ坏阄行亩猿粕柚�。
全文摘要
本发明公开了一种定位方法及定位装置，所述定位装置包括发射器、接收器、判断�？榧凹扑隳？椤７⑸淦飨虼ㄎ坏愫透ㄖㄎ坏惴⑸涔馐儆山邮掌鹘邮辗⑸涞墓馐ㄎ坏愫透ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐卸夏？槿缓笈卸辖邮掌魇欠窠邮盏酱ㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐詈笥杉扑隳？楦菖卸辖峁约按ㄎ坏愫透ㄖㄎ坏惴瓷浠乩吹姆瓷涔馐范ㄋ龃ㄎ坏愕母叨刃畔�。从而当无法接收到待定位点反射回来的反射光束时，则根据辅助定位点反射回来的反射光束确定待定位点的高度信息，提高了定位的成功几率。
文档编号G01S17/06GK103064085SQ201210559208
公开日2013年4月24日 申请日期2012年12月20日 优先权日2012年12月20日
发明者郑文达, 吴础任 申请人:深圳市华星光电技术有限公司
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