专利名称：静态光散射纳米颗粒粒度测量装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种粒度分析仪器，具体地说是一种静态光散射纳米颗粒粒度测
量装置。
背景技术：
目前，静态光散射激光粒度仪的粒度测量范围在100纳米以上。为了测量更小纳米颗粒，人们通常采用结构复杂的多光束技术或者动态光散射原理的仪器。
发明内容本实用新型的技术任务是针对现有技术的不足，提供一种光路结构，可以有效测量纳米和亚微米颗粒粒度的静态光散射纳米颗粒粒度测量装置。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是静态光散射纳米颗粒粒度测量装置，包括激光器、流动样品池、柱面透镜、条形阵列光电探测器，流动样品池为四面透光的空心矩形立方体，激光器位于流动样品池的窄透光面一侧，柱面透镜附着在流动样品池的宽透光面上，条形阵列光电探测器位于柱面透镜的焦平面上，且柱面透镜和条形阵列光电探测器组成的探测系统的光轴与激光束互相垂直，在同一个子午平面内。上述静态光散射纳米颗粒粒度测量装置，其激光器发出的激光束为平行光束，其形状呈圆柱形或片状。上述静态光散射纳米颗粒粒度测量装置，其流动样品池的空心部分厚度为3-10毫米。本实用新型的静态光散射纳米颗粒粒度测量装置与现有技术相比，所产生的有益效果是(1)结构简单，体积小、动态测试，方便实用；(2)可测试纳米级和亚微米级粒度的流动颗粒；(3)操作简便，与普通静态激光粒度仪相同；(4)可用于纳米生产在线粒度监测。
附图1为本实用新型的结构示意图。图中，1、激光器，2、流动样品池，3、柱面透镜，4、条形阵列光电探测器。
具体实施方式
以下结合附图1对本实用新型的静态光散射纳米颗粒粒度测量装置作以下详细地说明。如附图1所示，本实用新型的静态光散射纳米颗粒粒度测量装置，其结构包括激光器1、流动样品池2、柱面透镜3、条形阵列光电探测器4，流动样品池2为四面透光的空心矩形立方体，玻璃制品，空心部分厚度为3-10毫米。激光器1位于流动样品池2的窄透光面一侧，柱面透镜3附着在流动样品池2的宽透光面上，条形阵列光电探测器4位于柱面透镜3的焦平面上，且柱面透镜3和条形阵列光电探测器4组成的探测系统的光轴与激光束互相垂直，在同一个子午平面内。上述激光器1发出的激光束为平行光束，其形状可以为圆柱形也可以为片状。本实用新型采用一种四面透光的流动样品池2，其长度大于宽度。柱面透镜3附着在流动样品池2上，流动样品池2允许含颗粒液体通过，激光器1发出的激光束从流动样品池2窄透光面入射，颗粒的散射光从宽透光面射出。附着在流动样品池2宽透光面上的柱面透镜3将散射光会聚在焦平面上，形成45度-135度的散射光谱，条形阵列光电探测器4 将散射光谱信号转换为电信号，即可分析纳米颗粒的粒度。本实用新型的特点是专门探测颗粒的前侧向和后侧向散射光的能量分布，因此适用于静态光散射纳米颗粒粒度分析。测试散射光范围45度至135度。可测量的粒度范围为10纳米至5000纳米。其测试一次小于2分钟。本实用新型的静态光散射纳米颗粒粒度测量装置其加工制作简单方便，按说明书附图所示加工制作即可。
权利要求1.静态光散射纳米颗粒粒度测量装置，包括激光器(1)、流动样品池O)、柱面透镜 (3)、条形阵列光电探测器G)，其特征在于，流动样品池O)为四面透光的空心矩形立方体，激光器⑴位于流动样品池⑵的窄透光面一侧，柱面透镜⑶附着在流动样品池⑵ 的宽透光面上，条形阵列光电探测器(4)位于柱面透镜(3)的焦平面上，且柱面透镜(3) 和条形阵列光电探测器(4)组成的探测系统的光轴与激光束互相垂直，在同一个子午平面内。
2.根据权利要求1所述的静态光散射纳米颗粒粒度测量装置，其特征在于，激光器(1) 发出的激光束为平行光束，其形状呈圆柱形或片状。
3.根据权利要求1所述的静态光散射纳米颗粒粒度测量装置，其特征在于，流动样品池O)的空心部分厚度为3-10毫米。
专利摘要本实用新型提供一种静态光散射纳米颗粒粒度测量装置，属于粒度分析仪器领域，其结构包括激光器、流动样品池、柱面透镜、条形阵列光电探测器，流动样品池为四面透光的空心矩形立方体，激光器位于流动样品池的窄透光面一侧，柱面透镜附着在流动样品池的宽透光面上，条形阵列光电探测器位于柱面透镜的焦平面上，且柱面透镜和条形阵列光电探测器组成的探测系统的光轴与激光束互相垂直，在同一个子午平面内。本实用新型的特点是专门探测颗粒的前侧向和后侧向散射光的能量分布，因此适用于静态光散射纳米颗粒粒度分析。测试散射光范围45度至135度。可测量的粒度范围为10纳米至5000纳米。
文档编号G01N15/02GK202281738SQ20112026765
公开日2012年6月20日 申请日期2011年7月26日 优先权日2011年7月26日
发明者于代君, 任中京 申请人:济南微纳颗粒仪器股份有限公司
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