专利名称：具有遮挡检测的带电粒子显微术的制作方法
具有遮挡检测的带电粒子显微术本发明涉及一种使用带电粒子显微镜检查样本的方法，该方法包括以下步骤-将样本安装到样本保持器上；-使用粒子光学镜筒将至少一束微粒辐射定向到样本上，从而产生使得发射的辐射从样本中发出的相互作用；-使用第一检测器配置C1检测发射的辐射的第一 部分并且基于此产生第一图像I1O本发明也涉及一种其中执行这样的方法的带电粒子显微镜。如贯穿本文使用的，相继出现的术语应当解释如下-术语“带电粒子”指的是电子或离子(通常为正离子，诸如例如镓离子或氦离子)。-术语“显微镜”指的是这样的设备，该设备用来创建通常太小而不能用人肉眼在令人满意的细节下看见的物体、特征或部件的放大的图像。除了具有成像功能之外，这样的设备也可以具有加工功能；例如，它可以用来通过从样本中移除材料(“研磨”或“消融”)或者向样本添加材料(“沉积”)而局部地修改样本。所述成像功能和加工功能可以由相同类型的带电粒子提供，或者可以由不同类型的带电粒子提供；例如，聚焦离子束(FIB)显微镜可以采用(聚焦的)离子束以用于加工目的并且采用电子束以用于成像目的(所谓的“双束”显微镜或者“FIB-SEM”)，或者它可以利用相对高能的离子束执行加工并且利用相对低能的离子束执行成像。基于这种解释，诸如以下之类的工具应当被认为落入本发明的范围内电子显微镜，FIB设备，EBID和IBID设备(EBID =电子束诱导沉积；IBID =离子束诱导沉积)，等等。-术语“粒子光学镜筒”指的是可以用来操纵带电粒子束从而用来向其提供例如特定聚焦或偏转和/或减轻其中的一种或多种像差的静电和/或磁透镜集合。-术语“检测器”应当宽泛地解释为涵盖用来记录从样本中发出的(一种或多种类型的)发射的辐射的任何检测装置。这样的检测器可以是单体的，或者它可以性质上是复合的并且包括多个子检测器(例如像在样本工作台周围空间分布检测器单元的情况中那样)或者像素化检测器。-术语“检测器配置”预期指的是在六个自由度(例如X、y、z、Rx、Ry、Rz——最后三个旋转自由度常规上也称为滚转、俯仰和偏航)下(子)检测器相对于样本的特定几何位置/取向。因此，这样的检测器配置可以通过改变样本相对于所述(子)检测器的相对位置/取向而改变。-术语“图像”应当宽泛地解释为不仅涵盖图像的常规概念，而且涵盖诸如例如光谱图或图之类的概念。基本上，本文中的图像是可以使用从采用的检测器输出的数据构造的并且再现作为样本上的位置的函数的样本相关空间变量(诸如强度、对比度、密度变化、原子量、着色浓度、电子产额(yield)/X射线产额等等)的值的(部分)样本的图。在下文中，通常将在电子显微镜的特定背景下通过实例阐述本发明。然而，这样的简化仅仅意在清楚/说明的目的，并且不应当被解释为限制性的。
电子显微术是一种用于对微观物体成像的公知技术。电子显微镜的基本类属(genus)经历了到许多公知设备种类的演化，所述设备种类诸如透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)以及扫描透射电子显微镜(STEM)，并且电子显微镜的基本类属也经历了到各种子种类的演化，诸如所谓的“双束”工具(例如FIB-SEM)，其附加地采用“加工”离子束，从而允许诸如例如离子束研磨或者离子束诱导沉积之类的支持性活动。在传统的电子显微镜中，成像束在给定成像会话期间“接通”达延长的时间段；然而，电子显微镜也是可用的，其中成像基于电子的相对短的“闪现”或“爆发”而发生，这种方法在例如试图对运动的样本或者辐射敏感样品成像时具有潜在的益处。当微粒辐射束(诸如电子束或离子束)撞击到样本上时，它通常以这样的方式与样本相互作用，该方式使得不同类型的发射的辐射从样本中发出 。这样的发射的辐射可以例如包括二次电子(SE)、后向散射电子(BE)、可见/红外/紫外光(荧光和阴极发光)和X射线。关于这些不同的辐射类型，可以注意以下方面-检测电子相对容易且廉价，例如使用与光电倍增管(PMT)或硅光电倍增器(SiPM——有时也称为多像素光子计数器)结合的闪烁物或者使用诸如下面在图2中所示的之类的固态检测器。-可见/红外/紫外光的检测也相对直接，并且可以例如使用PMT或SiPM(在没有闪烁物的情况下)或者光电二极管单元来执行。-X射线检测器倾向于相对昂贵且缓慢，并且通常提供相对有限的视场。然而，存在这样的带电粒子显微术应用，其中从样本发射的X射线的检测和分析可能是非常希望的。例如，这样的X射线的分析给出关于样本中的受激原子/分子的X射线带的信息，因而允许样本组成的元素/成分分析。这在其中两种或更多种材料共存于样本中的许多材料研究中可能是有用的。带电粒子显微术的特定应用是在矿物学的领域(以及地质、采矿和石油勘探的关联领域)中，其中希望的是搜集关于样本的物理结构(颗粒尺寸、颗粒形状、颗粒取向、孔隙度、冲击断裂的存在等等)以及样本的化学成分(存在的元素/同位素以及它们本身以什么分子配置表明)的信息。然而，矿物样本的一个问题在于，它们通常倾向于表现出大量的表面起伏/粗糙度/形貌。这可能导致显著的遮挡(遮蔽)效应，由此样本上的特定区域R与给定检测器D之间的给定视线被样本上的形貌特征阻挡，因而妨碍D对从R发出的发射的辐射的检测。人们可能试图通过将样本嵌入到树脂块中并且然后执行抛光操作以便暴露样本的(一定程度上)平滑的面来减轻这个问题，但是这种方法倾向于繁琐且费时(以及因而相对昂贵)，并且可能有害地影响所讨论的样本的状态。这些问题并不限于矿物样本类似的问题对于非矿物样本也可能发生，所述非矿物样本诸如例如特定生物样品(例如骨或牙齿釉质、或者甲壳类动物的壳)和材料科学样本(例如包含可疑断裂的金属、涂层、合成物)。遮挡效应可能在其中检测器D为相对小的固定单体检测器(例如在X射线检测中情况通常如此)的配置中具有最严重的效应，因为这样的配置提供有限的用于规避被遮挡视线的选项。然而，即使在其中D为这样的检测器的分布式阵列A中的子检测器(例如像在分段固态电子检测器或者SiPM “云”的情况中那样)的情景(scenario)中，遮挡效应仍然可能不利地影响A中的检测器的子集的有用性。
本发明的一个目的是解决这个问题。更特别地，本发明的一个目的是提供一种使用带电粒子显微镜检查样本的方法，由此可以减轻样本形貌/起伏的特定效应。特别地，本发明的一个目的是提供这样的方法，由此可以标识和量化形貌关联的视线遮挡问题。本发明的另一目的是，这样的方法应当允许基于从具有表面起伏/粗糙度的样本发出的X射线更加令人满意地分析所述样本。这些和其他目的在如开篇段落中所说明的方法中实现，该方法以下列步骤为特征
-使用至少第二检测器配置C2检测发射的辐射的第二部分并且基于此产生第二图像12，由此C2与C1不同，因而汇编检测器配置集合Sd = {C1；CJ以及相应图像集合S1 =
U1,12I ；-使用计算机处理设备自动地比较S1的不同成员，并且利用相对于Sd的至少一个成员的被遮挡视线在样本上数学标识至少一个遮挡区域。在最终导致本发明的特定研究中，本发明人对具有大量表面形貌的矿物样本执行基于X射线的(成分/元素)分析。尽管那时不对从样本中发出的非X射线发射的辐射特别感兴趣，但是他们获得以下认识这样的辐射然而可能在分析特定样本形貌造成的X射线的遮挡方面有用。由于这样的非X射线辐射通常使用与检测X射线中使用的配置不同的检测器配置进行检测，这提供了一种允许研究/比较样本与采用的检测器之间的不同视线的检测视角变化。在此基础上，本发明人开发了一种数学框架，借助于该数学框架可以自动地处理沿着不同视线的检测结果并且从中提炼表面遮挡信息。推广该方法，他们认识到他们只需要不同的检测器配置一不一定是不同的检测器类型或辐射类型一以便应用新开发的技术。在这样的不同检测器配置中，Sd的成员可以例如以下列方式中的(至少)一种彼此不同-每种采用相对于样本保持器处于不同的固定位置的不同检测器。这是例如SiPM “云”或者图2的分段固态检测器的情况下的情形(但是它典型地也是人们使用不同种类的检测(例如X射线检测和电子检测)时的情况，因为这种情况下的检测器通�？占渖喜恢睾�)。-每种采用相同的检测器，但是相对于样本移动到不同的相对位置/取向。这样的情形可以例如通过相对于单个小面积检测器倾斜/旋转样本保持器和/或通过将这样的检测器安装到允许检测器本身移动到相对于样本保持器的不同姿态(stance)的结构上而实现。这些情景中的第一个具有以下显著的优点它以同时而不是顺序的方式累积SJA成员，因为若干检测器配置在样本的辐照会话期间并发地“活动”。因此，样本招致相对少的辐射损伤，并且整个数据集合相对快地增加。这可能在辐射非常敏感的样本的情况下或者在时间可用性是个问题的情况下具有显著的益处。为了在给定测试图像It中自动地推断被遮挡区域的存在，依照本发明的方法将It与另一幅图像I’ τ(二者都在S1中)进行比较，由此这两幅图像It和I’ τ(至少部分地)属于样本S的相同部分，并且如果必要的话，首先相互平移/缩放/旋转(即达到相互“配准”)以便允许一个与另一个精确地对准/叠加到另一个上。此后，本发明利用以下事实，即It中的被遮挡区域将经由以下至少一个揭示本身
■ It与I’ τ之间的相关性减小的区域；■ It中相对于I’ τ的强度减小的区域。这种方法可以应用于S1中的任何图像配对1:和I’ τ，由此应当明确指出的是经由附加检测器配置下的附加测量，Sd和S1的基数(即成员数)可以扩展到(显著)大于2的值。针对关于图像配准的更多信息，参见下面实施例2中的第5节，虽然技术人员将熟悉该主题。在先前段落中阐述的技术的改进和/或补充中，本发明的一个实施例采用以下方法-S1的多个成员数学融合成复合参考图像If ；-再次从S1中选择测试图像It；-这次，通过将1:与融合参考图像If进行比较并且(类似于上面所解释的)标识 It中的其中观察到以下至少一个的区域来标识遮挡区域■ It与If之间的减小的相关性；■ It中相对于If的减小的强度。这种方法具有若干优点。例如-除了在S1的各个单独的成员中标识遮挡区域之外，人们也汇编其中消除了这样的遮挡区域(至少到一定程度)的复合图像IF。这是因为在一幅图像中被遮挡的区域在另一幅图像中可能未被遮挡，据此融合不同图像的过程有效地在融合结果中“擦除”了这样的遮挡区域。因此，工具用户增加其中消除了或者至少减轻了遮挡的最终图像。-每次将S1的给定成员与相同参考图像(If)进行比较通常更加容易/更加高效。存在各种数学技术，借助于这些数学技术可以执行先前段落中提及的融合。例如，人们可以采用诸如非线性直接融合或者贝叶斯融合之类的方法。针对关于该主题的更多信息，参见下面的实施例2。应当指出的是，本发明提供的遮挡标识性质上可以是定性的和定量的。这是因为-一方面，当执行It与If和I ’ τ中的至少一个之间的比较时仅仅存在前述相关性和/或强度的减小就允许定性地确定遮挡的存在。-另一方面，也可以计算这样的遮挡的程度。例如■人们可以比较观察的相关程度并且将其表示为完美/总相关性的百分数。■人们可以将观察的强度与参考强度(例如在If的整个区域上取的平均强度)进行比较并且然后将前者表示为后者的分数。如果希望的话，可以为工具用户图形地显示这些结果(例如在诸如IXD屏幕之类的显示设备上)。例如，在给定图像中，可以以给定颜色描绘或者使用箭头指出或者使用给定符号或轮廓形状表示遮挡区域。另一方面，可以使用例如颜色程度/浓淡或者通过在子窗口中描绘遮挡程度的(程式化)曲线图等等而描绘这样的遮挡的幅度。一旦采用本发明技术来标识S1中的特定图像中的一个或多个遮挡区域，那么可以以不同的方式使用该信息。例如，对于样本上的给定区域R而言，计算机处理设备可以自动地执行以下动作中的至少一个(i)指示集合Sd的遭受关于R的最大遮挡的成员；
(ii)指示集合Sd的遭受关于R的最少遮挡的成员；(iii)推断不是Sd的现有成员并且被预测给出关于R的比Sd的任何现有成员更低的遮挡的新检测器配置C’。关于这点，可以注意以下方面-关于(i)和(ii)，工具用户可以选择(在可能的程度上并且对于所讨论的特定样本而言)避免在相对大的程度上遭受样本表面遮挡的检测器配置并且改为选择在较小的程度上遭受这样的遮挡的检测器配置。-关于(iii)，计算机处理设备可以使用累积的数据SinS1和If以便构造所讨论的样本的一般化区域处的检测器配置与(参数化)遮挡预测模型的关系，并且可以近似地计算(尤其是例如使用外插/内插)将在减小的程度上遭受关于样本上的特定区域的遮挡效应的检测器配置(成本函数方法)。如果希望的话，工具用户然后可以人工地试验建议的检 测器配置，或者计算机处理设备可以自动地制定为实现建议的配置所需的调节(例如通过调节样本保持器的几何位置/体态和/或移动给定检测器和/或选择分布式检测器布置中的特定子检测器)。人们应当记住的是，可能存在其中工具用户例如因为对于样本的累加辐射损伤的风险/效应和/或因为对于可用时间/资源的约束等而不能奢侈地使用(许多)另外的不同检测器配置来执行样本的全面检查的情形。在这样的实例下，人们可以只需忍受已经累积的一批有限的测量中存在的遮挡效应。在该情况下，关于使用给定检测器配置获得的图像，工具用户可以简单地注意遮挡标志区域的位置并且牢记这样的区域中的数据解释可能不是最优可靠的。在这个方面，使用上面提及的融合图像IF通常将在累积数据的解释/使用方面引起最少的障碍。在本发明的另一方面中，使用上面阐述的方法获得的遮挡信息可以用来计算样本表面的(至少部分的)形貌。这点可以如下阐明。-理论上，基于单一检测器配置下捕获的单幅图像，人们可以在(相对严格的)约束下使用(假定的)遮挡区域作为造成所述遮挡的表面形貌的(非常)有限的推理的基础。这可以使用诸如例如从阴影获知形状(Shape From Shadows)之类的已知技术来实现。针对该相当深奥的方法的更多信息，人们可以参见以下出版物■ S. Savarese, H. Rushmeier, F. Bernardini and P. Perona, Shadow Carving,Proc. of the International Conference on Computer Vision (ICCV), Vancouver,Canada,2001。■ J-Y Bouguet and P.Perona,3D Photography Using Shadows in Dual-SpaceGeometry,International Journal of Computer Vision (IJCV), Vol. 35(2),pp. 129-149,1999。■ S.Savarese, Shape Reconstruction from Shadows and Reflections,Caltech,2005。-相对照而言，本发明提供了多个检测器配置下捕获的多幅图像，并且允许使用诸如例如光度立体(或者其变型)之类的技术实现与标识的(一个或多个)遮挡区域关联(即视为至少部分地为其原因)的样本形貌的精确得多的计算。这样的数学形貌重建的实例存在于下面的实施例中。
如上面已经阐述的，存在同时检测从样本中发出的不同辐射类型的优点，因为人们因而倾向于对样本造成更少的辐射诱导损伤并且更加快速地增加数据集合。也存在其他潜在的益处例如，来自辐照的样本的电子(BE和/或SE)通量通常倾向于相当强烈，因而给出相对良好的信噪比，而X射线特别适用于例如样本的成分分析。因此，本发明的一个有益实施例的特征在于，Sd的至少两个不同的成员用来相应地检测至少两种不同类型的发射的辐射[例如，在一种情况下为X射线(或者例如荧光)，并且在另一种情况下为电子(或者例如(二次)离子)]。基于扫描的显微镜(诸如SEM和STEM)通常以使用各种各样的检测器同时检测不同类型的发射的辐射为特征。本发明在样本的X射线研究的背景下是特别有意义的(出于上面已经阐明的各种原因)。关于这点，应当指出的是，各种不同类型的这类X射线研究适用于本发明中的应用。例如，能量分散分光术(EDS)和波长分散分光术(WDS)是流行的分析技术，由此-在EDS中，进入的高能带电粒子将内层电子撞出目标中的原子,从而创建电子空穴；原子中的外层电子然后去激励并且填充空穴，从而将其能量过剩释放为X射线光子。这 样发射的X射线的数量和能量使用能量分散分光计进行测量。-WDS与EDS的不同之处在于，它使用由辐射/物质相互作用而引起的衍射图案作为其原始数据。它通常具有比EDS更精细的光谱分辨率，并且也对伪像诸如伪峰以及放大器噪声的影响不太敏感；然而，该技术的一个缺陷在于，它一次只能分析一种兀素，从而使得它通常比EDS缓慢得多。现在将基于示例性实施例和示意性附图更加详细地阐明本发明，在附图中图IA示出了图解说明依照本发明的方法的一个实施例的各种方面的流程图。图IB图解说明了依照本发明的方法的一个特定实施例中采用的从二维(2D)空间到一维(ID)空间的特定类型的结构保持数学映射。图2再现了适合用在本发明中的电子检测器的各方面的平面图(底视图)。图3再现了可以利用其实现依照本发明的方法的粒子光学显微镜(在这种情况下为SEM)的各方面的纵向截面图。在图中，相应的部分使用相应的附图标记来指示。实施例I图IA示出了图解说明在带电粒子显微镜中执行的依照本发明的方法的一个实施例的各种方面的流程图。该流程图中的各个层级和步骤可以如下阐明■层级301 :示出了各种类别的检测器，其输出可以用作在各种不同检测器配置下形成受辐照样本的图像的基础。每个指示的检测器类别可以检测在由带电粒子束撞击时从样本中发出的特定类型的发射的辐射。除了描绘的检测器类别之外，其他的检测器类别也是可能的，例如以便检测例如离子或光学辐射(红外/可见/紫外辐射)。人们可以选择使用这些各种检测器类别中的一种或多种来汇编图像集合。■层级303 :在这里表示了从在层级303的各种检测器产生的各种(原始)图像。■层级305 :在层级303的(原始)图像经过数学空间对准/配准步骤，以便解决可能存在的任何相互缩放/移位/旋转差异。■层级307 :在这里表示了从步骤305得到的经适当处理、配准的图像。■步骤309 :该步骤是可选的，并且应当被视为下面的步骤317中提及的图像融合操作的特定实施例的前驱/部分。在层级307的配准图像经过数学映射操作——诸如从2D强度空间到ID强度空间的映射，其中保持了相对距离/结构(参见图IB以及下一实施例中的讨论)。这种类型的映射在人们使用例如与贝叶斯融合相对的诸如非线性直接融合之类的融合技术时是恰当的。具体地参照图IB :-该图的左上部分示出了其中轴表示两幅不同图像的像素强度一I1(竖直轴)和I2(水平轴)的2D强度空间。所描绘的空间示出了四个示例性点，其在每幅不同的图像I1U2* (通常)具有不同的强度。-该图的右下部分示出了将2D空间中的描绘的点映射到单一强度轴(1D空间)上的结果。在该特定的说明性映射中，对于任何给定点而言，其在描 绘的单一强度轴上的位置是其在描绘的2D空间的竖直和水平轴上的强度的相加平均[从而I = 1/2(1^)];然而，许多其他的映射是可能的，并且图解说明的情况不应当被解释为限制性的。■层级311 :步骤309的输出是虚拟视图，其更容易适用于随后的数学处理。■步骤313 :将在层级311的虚拟视图配对彼此进行比较以便揭示遮挡区域(使用强度/相关参照)。■层级315 :从步骤313出现的遮挡标记图像可以用来创建遮挡图(项目315’)。可替换地/此外，它们可以经受进一步的处理。■步骤317 :如果希望的话，可以将在层级315的图像数学融合成“组合”图像319。应当指出的是，在一个可替换的实施例中，该融合步骤317可以在步骤313之前执行，并且用作步骤313处的遮挡标记过程的(部分)基础。■步骤321 :从步骤313得到的遮挡标记图像可以用作输入以便(至少部分地)首先计算负责造成观察的遮挡的样本表面形貌。这种过程将导致样本的三维(3D)表面模型323。■步骤325 :融合步骤317和形貌重建步骤321的输出以及遮挡图315’和可能的补充用户输入327可以用作策略确定步骤325的输入，所述策略确定步骤的目的是决定用来执行后续测量的新检测器配置。实施例2现在将介绍与本发明有关的详细的数学论文。I.遮挡检测(SEM)图像中的被遮挡区域以针对涉及的检测器配置的每个被遮挡区域中的强度的相对大的下降为特征。来自每个这样的区域的有意义的信息将丢失。在围绕样本置于不同位置的多个检测器的情况下，针对一种检测器配置被遮挡的区域很可能在其他配置中可见。基于这个事实，检查一幅图像中的局部片块与使用其他检测器配置获得的图像中的相应片块的相关性(互信息量)的方法将记录比平均值更低的相关性。使用这两个准则(不同寻常低的亮度+相对低的图像互相关)，人们可以设计一种鲁棒的遮挡检测方法。对于样本上的每个位置而言，人们可以标记最可能被遮挡的区域，并且然后在后续融合步骤中以及在计划后续显微镜工作台移动中使用该信息。2.融合来自不同检测器配置的图像在下文中，将介绍两种不同的图像融合技术。然而，应当指出的是，可替换地可以使用若干其他的融合方法。图像融合方法的综述可以例如在以下出版物中找到
[l]Rick S. Blum and Zheng Liu(eds), Multi-Sensor Image Fusion and ItsApplications，CRC Press, ISBN 978-0-8493-3417-7，2005。2a.非线性直接融合对于该任务而言，我们利用所谓的Sammon映射，该映射例如在以下出版物中进行阐述[2]J. W. Sammon, A non-linear mapping for data structure analysis, IEEETransactions on Computers, C-18 :401-409, May 1969[3]C. W. Therrien, J. W. Scrofani, W. K. Kreb, An Adaptive Technique for theEnhanced Fusion of Low-Light Visible with Uncooled Thermal Infrared Imagery,International Conference on Image Processing (ICIP ! 97), Vol. 3 (1997), No. I,pp. 405-408o该映射包括非线性变换，该非线性变换将较高维数据集合约简为较低维数据集合，同时保持映射的数据集合的内部结构(参见
图1B)。这通过施加以下约束而实现在映射中保持较高维空间中的数据点之间的距离。对于从2D到ID空间的非线性映射而言，相应的成本/应力函数为
权利要求
1.一种使用带电粒子显微镜(400)检查样本(410)的方法，包括以下步骤 -将样本(410)安装在样本保持器(408)上； -使用粒子光学镜筒(402)将至少一束微粒辐射(404)定向到样本(410)上，从而产生使得发射的辐射从样本(410)中发出的相互作用； -使用第一检测器配置C1 (420)检测发射的辐射的第一部分并且基于此产生第一图像工1， 其特征在于以下步骤 -使用至少第二检测器配置C2(IOO)检测发射的辐射的第二部分并且基于此产生第二图像12，由此C2与C1不同，因而汇编检测器配置集合Sd = {C1；CJ以及相应图像集合S1 =U1,12I ； -使用计算机处理设备(424)自动地比较S1的不同成员并且利用相对于Sd的至少一个成员的被遮挡视线在样本(410)上数学标识至少一个遮挡区域。
2.如权利要求I所述的方法，其中Sd的成员以下列方式中的至少一种彼此不同 -每个采用相对于样本保持器处于不同的固定位置的不同检测器(420，100)； -每个采用相同的检测器，但是相对于样本移动到不同的相对位置中。
3.如权利要求I或2所述的方法，其中一个或多个不同的额外检测器配置Ci用来产生相应的额外图像Ii,因而用于增加集合Sd和S1的基数。
4.如前面任一权利要求所述的方法，其中 -S1的多个成员数学融合成复合参考图像If ； -从S1中选择至少一幅测试图像It ； -使用包括将If与It进行比较并且标识It中的其中观察到以下至少一个的区域的技术来标识所述遮挡区域 ■It与If之间的减小的相关性； ■It中相对于If的减小的强度。
5.如权利要求5所述的方法，其中除了将It与If进行比较之外，也将It与S1的不同成员I’ τ进行比较。
6.如前面任一权利要求所述的方法，其中对于样本上的给定区域R，计算机处理设备自动地执行以下动作中的至少一个 -指示集合Sd的遭受关于R的最大遮挡的成员； -指示集合Sd的遭受关于R的最少遮挡的成员； -推断不是Sd的现有成员的并且被预测给出关于R的比Sd的任何现有成员更低的遮挡的新检测器配置C’。
7.如前面任一权利要求所述的方法，其中计算机处理设备计算与所述至少一个遮挡区域关联的样本(410)的至少部分表面形貌。
8.如前面任一权利要求所述的方法，其中Sd的至少两个不同成员(420，100)用来相应地检测至少两种不同类型的发射的辐射。
9.如权利要求8所述的方法，其中所述至少两种不同类型的发射的辐射包括一种情况下的X射线以及另一种情况下的电子。
10.一种带电粒子显微镜(400)，被构造和布置成执行如权利要求1-9中任何一项所述的方法 。
全文摘要
本发明涉及具有遮挡检测的带电粒子显微术。一种使用带电粒子显微镜检查样本的方法，包括以下步骤-将样本安装在样本保持器上；-使用粒子光学镜筒将至少一束微粒辐射定向到样本上，从而产生使得发射的辐射从样本中发出的相互作用；-使用第一检测器配置C1检测发射的辐射的第一部分并且基于此产生第一图像I1，所述方法包括以下步骤-使用至少第二检测器配置C2检测发射的辐射的第二部分并且基于此产生第二图像I2，由此C2与C1不同，因而汇编检测器配置集合SD＝{C1，C2}以及相应图像集合SI＝{I1，I2}；-使用计算机处理设备自动地比较SI的不同成员并且利用相对于SD的至少一个成员的被遮挡视线在样本上数学标识至少一个遮挡区域。
文档编号G01N23/22GK102789944SQ20121015860
公开日2012年11月21日 申请日期2012年5月16日 优先权日2011年5月16日
发明者D·W·小菲弗, F·布格霍贝尔 申请人:Fei公司
专业数控铣床产品供应商
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