专利名称：一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于保证光学元件加工精度的辅助装置，特别是关于一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置。
背景技术：
波片是基本的光学元件，广泛应用在 与偏振相关的光学系统中，波片加工精度的高低直接影响这些光学系统的性能。为了保证波片的加工精度，通常将波片光胶于光胶盘上进行研磨抛光，在波片研磨抛光过程中，首先采用测量光束垂直照射在波片上，光经波片传播到光胶盘，检测装置接收从光胶盘透射的光经检测得到波片的位相延迟，确定波片的研磨厚度。但是测量光在波片和光胶盘中传播时，在波片的上表面和光胶盘下表面发生透射的同时也发生反射，由于反射光和经波片透射的光会发生光的干涉，此干涉效应的存在直接影响波片位相延迟的测量结果，导致波片的研磨厚度不精确。按照实际生产经验，同一个光胶盘同时研磨的几个波片之间的位相延迟偏差应该在1°左右，但是从表I可以看出，表I中的四个光胶盘，每一个光胶盘同时研磨的几个波片之间的位相延迟偏差均大于1°。经过理论和实验分析得出，此实验结果是由于光的干涉效应引起的，如果能消除波片和光胶盘表面光的反射，就能够避免产生光的干涉影响波片制造精度。表I不同光胶盘加工的波片的位相延迟
权利要求
1.一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置，其特征在于它包括一光胶盘，所述光胶盘上光胶有一个以上待加工的波片，所述波片上设置有一平板玻璃，每一所述波片与所述平板玻璃接触处设置有一采用折射率匹配液制作的匹配层，所述平板玻璃上表面和光胶盘下表面分别设置有一层增透膜。
2.如权利要求I所述的一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置，其特征在于所述光胶盘的折射率为I. 5 I. 53，制作所述光胶盘的材料内部残余应力�。怨馕丈伲宜龉饨号痰纳�、下表面高抛光，平行度高。
3.如权利要求I所述的一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置，其特征在于所述平板玻璃折射率为I. 51 I. 53，制作所述平板玻璃的材料内部残余应力�。銎桨宀Ａ�、下表面高抛光。
4.如权利要求2所述的一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置，其特征在于所述平板玻璃折射率为I. 51 I. 53，制作所述平板玻璃的材料内部残余应力�。銎桨宀Ａ�、下表面高抛光。
5.如权利要求I或2或3或4所述的一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置，其特征在于所述折射率匹配液的折射率为I. 53 I. 55，且制作所述折射率匹配液的材料为各向同性，对光吸收少。
6.如权利要求I或2或3或4所述的一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置，其特征在于所述增透膜由单层膜系或多层膜系构成，透过率大于99. 99%。
7.如权利要求5所述的一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置，其特征在于所述增透膜由单层膜系或多层膜系构成，透过率大于99. 99%。
全文摘要
本发明涉及一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置，其特征在于它包括一光胶盘，所述光胶盘上光胶有一个以上待加工的波片，所述波片上设置有一平板玻璃，每一所述波片与所述平板玻璃接触处设置有一采用折射率匹配液制作的匹配层，所述平板玻璃上表面和光胶盘下表面分别设置有一层增透膜。本发明可以广泛应用于波片的加工检测过程中。
文档编号G01B11/06GK102706285SQ201210180988
公开日2012年10月3日 申请日期2012年6月4日 优先权日2012年6月4日
发明者张书练, 陈文学 申请人:清华大学
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