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外圈深滚道的简易校对装置的制作方法

时间:2025-06-12    作者: 管理员

专利名称:外圈深滚道的简易校对装置的制作方法
技术领域:
本实用新型属于轴承检测技术领域,尤其是一种外圈深滚道的简易校对装置。
背景技术:
在轴承的生产加工中,外圈的滚道加工是不可缺少的一道工序,在滚道加工后常常要使用专用仪器测量来校对所加工滚道是否符合设计要求。对于滚道较深的外圈,专用仪器常常伸不到滚道的底部,校对起来非常不便。
发明内容为解决上述问题,本实用新型设计了一种外圈深滚道的简易校对装置,该简易校对装置制作简单,只要更换测头就能快速校对不同深度的外圈滚道,同批量校对时间得到缩短,提高了校对效率。为了实现上述发明目的,本实用新型采用如下技术方案:一种外圈深滚道的简易校对装置,包括测台和测头,被测外圈的设计滚道形状已确定,测台由底座和支撑体构成,所述支撑体配置在所述底座的一端并形成倒L状,在所述支撑体上端联接测头,测头分为联接段和校对段,其中所述校对段的水平中心线与所述底座的上平面保持平行,其中所述联接段用于联接所述支撑体,所述校对段的水平中心线距所述底座的上平面之间距等于被测外圈宽度的1/2。上述所述校对段与被测外圈的设计滚道形状相匹配。由于采用如上所述技术方案,本实用新型产生如下效果:1、本实用新型的简易校对装置制作简单,安装容易,方便了检查员的校对工作。2、只要更换测头就能快速校对不同深度的外圈滚道,使同批量校对时间得到缩短,提高了校对效率,降低了校对成本。

图1是本实用新型的结构示意简图。图1中:1-测台;2 -测头。
具体实施方式
本实用新型是一种外圈深滚道的简易校对装置,该简易校对装置主要用于校对被测外圈深滚道是否符合其设计滚道形状,被测外圈的所述设计滚道形状已确定。结合图1,本实用新型包括测台I和测头2,测台I由底座和支撑体构成,所述支撑体配置在所述底座的一端并形成倒L状,在所述支撑体上端联接测头2,测头2分为联接段和校对段,其中所述校对段的水平中心线与所述底座的上平面保持平行,其中所述联接段用于联接所述支撑体,所述校对段的水平中心线距所述底座的上平面之间距等于被测外圈宽度的1/2,所述校对段与被测外圈的设计滚道形状相匹配,当被测外圈更换型号时,测头的所述校对段也要及时更换,以便与更换型号被测外圈的设计滚道形状相匹配,所述间距也要作出对应调整。将被测外圈套在所述支撑体之中并置于所述底座上,测头的联接段是被测外圈的设计滚道外形,将被测外圈的深滚道推向测头的联接段,如果所述联接段完全与被测外圈的深滚道重合并达到规定的深度,说明被测外圈的深滚道符合该外圈的设计滚道,反之说明被测外圈的深滚道不符合该外圈的设计滚道。
权利要求1.一种外圈深滚道的简易校对装置,包括测台(I)和测头(2),被测外圈的设计滚道形状已确定,其特征是:测台(I)由底座和支撑体构成,所述支撑体配置在所述底座的一端并形成倒L状,在所述支撑体上端联接测头(2),测头(2)分为联接段和校对段,其中所述校对段的水平中心线与所述底座的上平面保持平行,其中所述联接段用于联接所述支撑体,所述校对段的水平中心线距所述底座的上平面之间距等于被测外圈宽度的1/2。
2.根据权利要求1所述外圈深滚道的简易校对装置,其特征是:所述校对段与被测外圈的设计滚道形状相匹配。
专利摘要一种外圈深滚道的简易校对装置,包括测台(1)和测头(2),被测外圈的设计滚道形状已确定,测台由底座和支撑体构成,所述支撑体配置在所述底座的一端并形成倒L状,在所述支撑体上端联接测头,测头分为联接段和校对段,其中所述校对段的水平中心线与所述底座的上平面保持平行,其中所述联接段用于联接所述支撑体,所述校对段的水平中心线距所述底座的上平面之间距等于被测外圈宽度的1/2,所述校对段与被测外圈的设计滚道形状相匹配,当被测外圈更换型号时,测头的所述校对段也要及时更换,以便与更换型号被测外圈的设计滚道形状相匹配,所述间距也要作出对应调整,具有制作简单,安装容易,方便校对,降低校对成本。
文档编号G01B21/20GK202947721SQ201220547778
公开日2013年5月22日 申请日期2012年10月24日 优先权日2012年10月24日
发明者张娟娟, 王蔚霞, 曾莉, 左菲 申请人:洛阳轴研科技股份有限公司

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