专利名称：一种制作光谱分析样品的模具的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及光谱分析样品或试样的成型模具领域，更具体的说，改进涉及的是一种制作光谱分析样品的模具。
背景技术：
利用光谱学的原理和实验方法以确定物质的结构和化学成分的分析方法称为光谱分析法。各种结构的物质都具有自己的特征光谱，光谱分析法就是利用特征光谱研究物质结构或测定化学成分的方法。具体的技术手段可采用光谱分析仪对取样样品的某一个分析面的几个点进行分析；因此，在试样上选择合适的几个点进行分析就显得非常关键。以焊料行业的材料光谱分析为例，同大多数行业的材料光谱分析一样，现有的光谱分析样品大都仍为实心的圆柱形结构，通常只可选择圆柱面与上端面相交的棱边上的几个点进行材料的光谱分析。但是，光谱分析试样都是由熔融的焊料流经模具的型腔中冷却成型后，再经机械加工后获得，显然光谱分析试样的形状和结构，也将影响到分析点处的材料缺陷，如是否具有代表性和较高的重现性，以及径向偏析或纵向偏析性能等。特别是对于高含量元素存在严重偏析，也抑制了光谱分析向高含量分析领域的拓展。因此，现有技术尚有待改进和发展。
实用新型内容本实用新型的目的在于，提供一种制作光谱分析样品的模具，可从形状和结构上改善光谱分析样品的取样性能，提高材料光谱分析的准确性。本实用新型的技术方案如下一种制作光谱分析样品的模具，包括底板、转轴、左半�：陀野肽＃蛔岽怪鄙柚迷诘装迳希蛔蟀肽：陀野肽５耐欢私陆釉谧嵘希黄渲凶蟀肽：陀野肽５男颓恢邢嘤ι柚糜邪既氲奶ń祝惶ń椎奈恢梦挥诟髯孕颓徊啾诘纳喜�。所述的制作光谱分析样品的模具，其中型腔下部对应的底板上设置有高出底板表面的中心销；中心销的顶部为平面。所述的制作光谱分析样品的模具，其中中心销上高出底板部分的侧壁设置有拔模斜度。所述的制作光谱分析样品的模具，其中中心销上高出底板部分的高度不超过台阶的宽度设置。所述的制作光谱分析样品的模具，其中台阶宽度小于型腔高度的二分之一；台阶凹入型腔内壁的深度不超过1mm。所述的制作光谱分析样品的模具，其中型腔内壁的下部沿纵向设置有截止到台阶的凹槽；凹槽在型腔的周边均勻分布有多个。本实用新型所提供的一种制作光谱分析样品的模具，由于采用了台阶式的型腔结
3构，不仅改变了光谱分析样品取样面上分析点的位置，使之更具有代表性和较高的重现性； 而且也改变了光谱分析样品的热应力分布，由此改善了分析点处的径向偏析和纵向偏析性能；改善了光谱分析样品的取样性能，提高了材料光谱分析的准确性；对高含量元素存在的严重偏析也有所改善，有助于光谱分析向高含量分析领域的拓展。
图1是本实用新型光谱分析样品模具处于打开状态下的立体图。图2是本实用新型光谱分析样品模具处于合并状态下的半剖立体图。图3是本实用新型光谱分析样品模具图2的剖视图。
具体实施方式
以下将结合附图，对本实用新型的具体实施方式
和实施例加以详细说明，所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的具体实施方式
。本实用新型的一种制作光谱分析样品的模具，其具体实施方式
之一，如图1所示， 包括底板110、转轴140、定位销160、左半模120和右半模130 ；转轴140和定位销160垂直设置在底板110上；左半模120和右半模130的同一端铰接在转轴140上；左半模120的另一端连接有左手把121，右半模130的另一端连接有右手把131，用于以转动的方式绕转轴140打开和/或合拢左半模120和右半模130 ；定位销160用于限定左半模120和右半模 130合拢时的位置，避免分型面碰撞而顺坏；其中，如图2所示，圆锥形浇口 231的底部为成型光谱分析样品的型腔233，以光谱分析样品横截面为圆形的实心柱体为例，如图3中高度 H小于直径D的圆柱形型腔233，在左半模120和右半模130的型腔233中均相应设置有凹入的台阶232 ；台阶232的位置位于各自型腔233侧壁的上半部或上部，即接近或连通型腔 233顶部的浇口 231。因为在浇铸光谱分析样品时，台阶232的位置位于模具型腔的顶部或连接锥形浇口的底部，而分析面上的检测点则位于模具的底部；与现有技术中制作光谱分析样品的模具相比，本实用新型所提供的一种制作光谱分析样品的模具，由于采用了台阶式的型腔结构；一方面，位于型腔顶部凹入的台阶232改善了原有圆柱形型腔边缘角落处的热应力分布，相对而言加快了圆柱形型腔底部的冷却过程，由此改善了分析点处的径向偏析和纵向偏析性能；另一方面，横截面较大的台阶232在浇铸过程中可包容更多气泡和浮渣，使取样面上的分析点更具有代表性和较高的重现性，进而改善了光谱分析样品的取样性能，提高了材料光谱分析的准确性；对高含量元素存在的严重偏析也有所改善，有助于光谱分析向高含量分析领域的拓展。在本实用新型光谱分析样品模具的优选实施方式中，如图1所示，在型腔下部对应的底板110上，设置有高出底板110表面的中心销150 ；中心销150的顶部设置为平面， 用于在光谱分析样品的分析面附近形成盲孔。在光谱分析样品成型的过程中，该盲孔位于圆柱形型腔的底端，主要用于减少光谱分析样品在浇铸后位于分析面中心部位的热容量， 提高整个光谱分析样品的激冷度，改善取样分析点处的径向和/或轴向的偏析，进一步提高材料光谱分析的准确性；其次也可便于分析面的平面加工，避免因车刀刀尖偏离卡盘中心造成的分析面中心不平整。[0022]较好的是，中心销150上高出底板110部分的侧壁可设置有拔模斜度，由此便于光谱分析样品在成型后顺利脱离模具。具体的，如图3所示，中心销150上高出底板110部分的高度S不超过台阶232的宽度B设置。高度S过高的中心销150反而易导致光谱分析样品成型后的内应力增加，使分析面边缘上的取样点不具有代表性和较高的重现性，降低光谱分析样品的取样性能。优选地，如图3所示，台阶232的宽度B小于型腔高度H的二分之一；台阶232凹入型腔233内壁的深度W也不超过1mm。宽度B过宽的台阶232或凹入高度W过深的台阶 232反而不利于改善光谱分析样品在浇铸成型时的热容量，也不利于后续的机械加工。进一步地，型腔233内壁的下部沿纵向设置有截止到台阶232的凹槽(附图未示出)；凹槽在型腔233的周边均勻分布有多个。以利于在机械加工后从光谱分析样品的分析面上取样不同的分析点进行光谱分析，通过获得其算数平均值来提高材料光谱分析的准确性。应当理解的是，以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不足以限制本实用新型的技术方案，对本领域普通技术人员来说，在本实用新型的精神和原则之内，可以根据上述说明加以增减、替换、变换或改进，而所有这些增减、替换、变换或改进后的技术方案，都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。
权利要求1.一种制作光谱分析样品的模具，包括底板、转轴、左半�：陀野肽＃蛔岽怪鄙柚迷诘装迳希蛔蟀肽：陀野肽５耐欢私陆釉谧嵘希黄涮卣髟谟谧蟀肽：陀野肽５男颓恢邢嘤ι柚糜邪既氲奶ń祝惶ń椎奈恢梦挥诟髯孕颓徊啾诘纳喜�。
2.根据权利要求1所述的制作光谱分析样品的模具，其特征在于型腔下部对应的底板上设置有高出底板表面的中心销；中心销的顶部为平面。
3.根据权利要求2所述的制作光谱分析样品的模具，其特征在于中心销上高出底板部分的侧壁设置有拔模斜度。
4.根据权利要求2所述的制作光谱分析样品的模具，其特征在于中心销上高出底板部分的高度不超过台阶的宽度设置。
5.根据权利要求1所述的制作光谱分析样品的模具，其特征在于台阶宽度小于型腔高度的二分之一；台阶凹入型腔内壁的深度不超过1mm。
6.根据权利要求1所述的制作光谱分析样品的模具，其特征在于型腔内壁的下部沿纵向设置有截止到台阶的凹槽；凹槽在型腔的周边均勻分布有多个。
专利摘要本实用新型公开了一种制作光谱分析样品的模具，包括底板、转轴、左半�：陀野肽＃蛔岽怪鄙柚迷诘装迳希蛔蟀肽：陀野肽５耐欢私陆釉谧嵘希黄渲凶蟀肽：陀野肽５男颓恢邢嘤ι柚糜邪既氲奶ń祝惶ń椎奈恢梦挥诟髯孕颓徊啾诘纳喜�。由于采用了台阶式的型腔结构，不仅改变了光谱分析样品取样面上分析点的位置，使之更具有代表性和较高的重现性；而且也改变了光谱分析样品的热应力分布，由此改善了分析点处的径向偏析和纵向偏析性能；改善了光谱分析样品的取样性能，提高了材料光谱分析的准确性；对高含量元素存在的严重偏析也有所改善，有助于光谱分析向高含量分析领域的拓展。
文档编号G01N1/28GK201965047SQ20112002400
公开日2011年9月7日 申请日期2011年1月25日 优先权日2011年1月25日
发明者刘剑波, 徐金华, 陈爽, 陈 胜, 马鑫 申请人:东莞市亿铖达焊锡制造有限公司
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