专利名称：用于监测玻璃板抛光状态的装置和方法
技术领域：
本发明涉及用于监测玻璃板抛光状态的装置和方法以及包括该装置的抛光机，更具体地，本发明涉及这样的用于监测玻璃板抛光状态的装置和方法——其可以在使用抛光机进行玻璃板抛光期间确定抛光状态方面的故障，并且可以提供相应的信息——以及涉及包括该装置的抛光机。
背景技术：
通常，非常重要的是，应用于液晶显示器的玻璃(或玻璃板)将其平面度保持在一定水平以便在液晶显示器上精确地呈现图像。因此，应通过抛光去除玻璃表面上的细微波度或不平坦。常规玻璃板抛光装置包括具有抛光垫的上单元(或上板)和下单元(或下板)，玻璃板将被放在该下单元处，其中上单元的抛光垫与下单元上的玻璃板接触，在抛光液通过自由下落而被供应到上单元的同时将下单元旋转，使得用抛光垫将玻璃板抛光。替代地，玻璃板抛光装置可包括上单元和具有抛光垫的下单元，玻璃板将被固定于该上单元处，其中可以在将抛光液供应到玻璃板的同时用抛光垫将玻璃板抛光。但是，使用常规抛光装置的玻璃板抛光在于抛光期间识别抛光状态方面有困难。 例如，难以精确识别正被抛光的玻璃板上是否存在诸如杂质或刮痕之类的缺陷，以及如果存在缺陷的话该缺陷存在于玻璃板上何处。此外，难以清楚地识别在抛光期间供应的抛光液的量是大还是小、是否正在施加合适的抛光压力、抛光垫被磨损了多少等等。此外，难以识别抛光装置中的玻璃板是否被损坏，以及如果被损坏的话受损部分存在于玻璃板上何处。特别地，随着倾向于大规模生产和生产更大尺寸的玻璃板的趋势，更加难以个别地监测每个玻璃板的抛光状态。如果在抛光期间不能很好地监测玻璃板抛光状态，玻璃板的抛光效率会降低，并且当故障出现时操作者不能采取适当的行动。例如，当诸如杂质或刮痕之类的缺陷未被去除，但抛光在逝去一段预定的抛光时间后终止时，则不会获得抛光效果。反之，如果抛光持续至一预定的时间——即使是缺陷被去除后——抛光效率会降低，会浪费时间和成本。而且，由于不能很好地监测而导致的玻璃板特定位置处的被忽视的缺陷会影响接下来的玻璃板制造过程。此外，当抛光液的供应量太大时，抛光垫将不具有摩擦力，当抛光液的供应量太小时，将不会获得抛光液的使用效果。因此，当不以合适的量供应抛光液时，不会实现利用抛光液获得的抛光效率。此外，当不监测抛光垫的磨损时，难于精确识别抛光垫的更换周期。此外，当不监测抛光装置的抛光压力是否合适或玻璃板是否被损坏时，只有在看到抛光的玻璃板后才识别出抛光状态，导致时间和成本的浪费。
发明内容
本发明被设计来解决上述问题，因此，本发明的目的是提供用于在抛光期间快速、 精确地监测玻璃板抛光状态的装置和方法。本发明的附加特征和优点将在接下来的描述中阐述，并且将会部分地根据该描述而显而易见，或者可以通过实施本发明来获知。本发明的特征和优点可以通过在所附权利要求书中具体指出的设备和组合实现和获得。根据以下描述和所附权利要求书，本发明的这些和其它特征将变得充分明显，或者可以通过如本文中所阐述的实施本发明来获知本发明的这些和其它特征。为实现上述目的，根据本发明的一种用于监测玻璃板抛光状态的装置可包括位置测量单元，其用于测量玻璃板上的正利用抛光机抛光的位置；电流测量单元，其用于测量流入该抛光机的电流；存储器单元，其用于存储对于玻璃板的每个抛光位置流入该抛光机的电流的参照值；以及，控制单元，其用于通过将电流测量单元所测量的针对由所述位置测量单元所测量的每一抛光位置的电流值与存储在存储器单元中的每一抛光位置的电流参考值进行比较来确定抛光状态是否有故障。为实现上述目的，根据本发明的用于玻璃板的抛光机可包括上述用于监测玻璃板抛光状态的装置。为实现上述目的，根据本发明的用于监测玻璃板抛光状态的方法可包括(S1)存储对于玻璃板的每个抛光位置流入抛光机的电流的参照值；(S》测量玻璃板上的正利用抛光机抛光的位置；(s;3)测量流入抛光机的电流；以及，(S4)通过比较对于每个抛光位置电流的测量值和对于每个抛光位置的相应电流参考值确定抛光状态是否有故障。根据本发明，可在使用抛光机进行玻璃板抛光期间快速、精确地监测玻璃板抛光状态。因此，使得操作者能够根据如上所述监测到的抛光状态采取提高抛光效率方面的适当行动。特别地，根据本发明一实施方案，可识别玻璃板上的处于有故障的抛光状态下的精确位置，并且可提供关于相应位置的信息。因此，可基于该信息调节抛光位置并在需要进一步处理的玻璃板的部分上执行抛光过程。此外，当在玻璃板上的具体位置连续出现诸如杂质或刮痕之类的缺陷时，它使得操作者能够识别有缺陷的部分和检查玻璃板制造过程中的故障。因此，可根本解决导致玻璃板抛光效率降低的问题。根据本发明另一实施方案，可在抛光期间识别抛光液的供应量是否合适。因此，当抛光液的供应量过多或不足时，可适当地减少或增加抛光液的供应量，从而通过抛光液优化抛光效率。根据本发明又一实施方案，可提供关于抛光玻璃板所需的时间的信息。例如，当逝去一段预定的抛光时间后仍存在故障时，可增加抛光时间使大于规定时间，当尽管未达到预定的抛光时间但不存在故障时，可以减少抛光时间。因此，可在提高玻璃板抛光过程中的抛光效率的同时防止浪费不必要的时间和成本。根据本发明另外的实施方案，可精确地识别安装在抛光机上的抛光垫磨损了多少，使得可以在适当的时间更换抛光垫。此外，可识别抛光机的抛光压力是否合适，使得可以在抛光压力不合适时将抛光压力调节到合适的水平。此外，可识别抛光机中的玻璃板是否被损坏，使得可以使操作者能够对玻璃板采取适当的行动，例如不抛光严重受损的玻璃板。
根据以下参照附图对实施方案的描述，本发明的其它目的和方面将变得明显，在附图中图1是图解根据本发明一实施方案的用于监测玻璃板抛光状态的装置的功能结构的示意性框图；图2是图解根据本发明一实施方案的与抛光机的部件配合的用于监测玻璃板抛光状态的装置的一实施例的视图；图3是从根据本发明一实施方案的抛光机顶部观察的、图解位置测量单元测量正利用该抛光机抛光的位置的配置的视图；图4是从根据本发明另一实施方案的抛光机顶部观察的、图解位置测量单元测量正利用该抛光机抛光的位置的配置的视图；图5是从根据本发明又一实施方案的抛光机顶部观察的、图解位置测量单元测量正利用该抛光机抛光的位置的配置的视图；图6是图解根据本发明一实施方案存储在存储器单元中的流入抛光机的电流的参考值的一部分的表；图7是图解根据本发明另一实施方案存储在存储器单元中的流入抛光机的电流的参考值的一部分的表；图8是图解根据本发明又一实施方案存储在存储器单元中的流入抛光机的电流的参考值的一部分的表；以及图9是图解根据本发明一实施方案的用于监测玻璃板抛光状态的方法的示意性流程图。
具体实施例方式下文中，将详细描述本发明。在描述之前，应理解，在说明书和所附权利要求书中使用的术语不应被解释为限于一般含义及字典含义，而应根据为了进行最佳说明允许发明人适当地定义术语的原则，基于与本发明的技术方面相应的含义和概念进行解释。因此，本文中给出的描述只是仅为了说明目的的优选示例，并不意在限制本发明的范围，因此应理解，在不偏离本发明的实质和范围的情况下可对其做出其它等同物和修改。图1是图解根据本发明一实施方案的用于监测玻璃板抛光状态的装置100的功能结构的示意性框图。图2是图解根据本发明的一实施方案与抛光机10的部件配合的用于监测玻璃板抛光状态的装置100的一实施例的视图。参考图1和图2，根据本发明的一个实施方案的用于监测玻璃板抛光状态的装置 100可包括位置测量单元110、电流测量单元120、存储器单元130和控制单元140。位置测量单元110可测量玻璃板1上正利用抛光机10抛光的位置。抛光机10可包括上部单元11，其具有附接其上的抛光垫14，用于抛光玻璃板1 ；以及，下部单元12，待被抛光的玻璃板1被安装在此，如图2中所示。抛光机10的下部单元12可旋转玻璃板1， 并且上部单元11在水平移动时能够使玻璃板1的前部表面被抛光垫14抛光。具体地，位置测量单元110可被连接至上部单元11，并且可通过检测上部单元11 的移动来测量玻璃板1上被抛光的位置，即，抛光位置，如图2中所示。然而，本发明不局限于这点上，并且位置测量单元110可以各种配置被提供。例如，位置测量单元110可通过红外摄像机等检测上部单元11的位置来测量抛光位置。此外，各种抛光位置检测装置可被用作本发明的位置测量单元10。图3是从根据本发明的一实施方案的抛光机10的顶部观察的、图解位置测量单元 110测量正利用该抛光机10抛光的位置的配置的视图。参考图3，玻璃板1可被安装在抛光机10中并且可相对于玻璃板1的中心(c)顺时针或者逆时针旋转。在这种情况下，尽管图3示出的玻璃板1呈圆形，但是玻璃板1可以是包括正方形的各种形状。虽然玻璃板1具有任何形状，但是当玻璃板1被旋转以抛光时， 玻璃板1可被表示为圆，如图3中所示。另外，具有抛光垫14附接其上的上部单元11可在如上所述那样旋转的玻璃板1上水平移动。在这种情况下，为了测量正被上部单元11抛光的位置，位置测量单元110可使用一坐标系统，该坐标系统由多个水平线和竖直线组成，在被抛光的玻璃板1的整个区域上
方。在图3的实施方案中，用于获取抛光位置的坐标系统包括九条竖直线V1、V2......V9和
九条水平线H1、H2......H9。位置测量单元110可通过读取水平线和竖直线的交叉点的坐
标来测量抛光位置。例如，如图3中所示，当上部单元11的中心(a)位于竖直线V7和水平线H3的交叉点时，位置测量单元110可通过将抛光位置的坐标指定为(V7，H;3)来测量抛光位置。当抛光位置使用坐标系统来表示时，尽管上部单元11的中心(a)不位于特定水平线和特定竖直线的交叉点，但是位置测量单元110仍可通过各种方法来测量抛光位置，例如， 通过将抛光位置的坐标指定为最近的坐标。上部单元11可沿着均勻或非均勻路径在玻璃板1上移动，并且当抛光位置使用坐标测量时，位置测量单元110具有独立于上部单元11的任何移动来测量位置的优势。尽管图3的实施方案示出了抛光位置相对于上部单元11的中心(a)被测量，但是本发明不局限于这点上。例如，抛光位置可相对于上部单元11的另一位置被测量。此外， 本发明不局限于特定数目的水平或竖直线以及特定的坐标显示方法。因此，位置测量单元 110可使用包括更大数目的水平线以及更大数目的竖直线的坐标系统来更精确地测量和显示位置。图4是从根据本发明的另一实施方案的抛光机10的顶部观察的、图解位置测量单元110测量正利用抛光机10抛光的位置的配置的视图。参考图4，待被抛光的玻璃板1可相对于玻璃板1的中心(c)旋转，以及上部单元 11可沿着路径P移动。在这种情况下，路径P是上部单元11的中心(a)的路径。然而，这仅仅通过示例给出，对本领域普通技术人员明显的是，路径P可以是上部单元11的另一部分的路径。当上部单元11沿着路径P移动时，位置测量单元110可使用标记pi、p2、p3、p4 等测量抛光位置，所述标记Pi、P2、p3、p4等以有规律的间隔预先被设置在路径P上，如图4中所示。例如，当上部单元11的中心(a)位于图4中示出的标记p2处时，位置测量单元 110可测量抛光位置并且将抛光位置显示为“P2”。图5是从根据本发明的又一实施方案的抛光机10的顶部观察的、图解位置测量单元110测量正利用抛光机10抛光的位置的配置的视图。参考图5，待被抛光的玻璃板1可相对于玻璃板1的中心(c)被旋转，以及上部单元11可沿着路径R来回移动，路径R为连接玻璃板1的中心(c)和玻璃板1的周缘上的某一点的直线。尽管上部单元11在玻璃板1的局部区域上方移动，但是由于玻璃板1旋转， 所以玻璃板1的整个区域可被抛光。在这种情况下，路径R可以是上部单元11的中心(a) 的路径，与图4的路径P相似，然而本发明不局限于这点上。位置测量单元11可使用标记rl、r2、r3、r4等测量抛光位置，所述标记rl、r2、r3、 r4等以有规律的间隔预先被设置在路径R上，如图5中所示。例如，当上部单元11的中心 (a)位于图5中使出的标记r3处时，位置测量单元11可测量抛光位置并且将抛光位置显示为 “r3，，。图3至图5仅通过实例被给出，以及本发明可具有各种改型和其他实施方案。例如，可对上部单元11的移动范围、玻璃板1和上部单元11的尺寸比、标记等等做出各种改型和改变。此外，除了图3至图5的实施方案中所描述的那些以外，用于测量抛光位置的各种方法可以在本发明中使用。在位置测量单元110如上面所描述地测量抛光位置之后，位置测量单元110可将关于所测量的抛光位置的信息传输至控制单元140。电流测量单元120可测量流入抛光机10的电流。在玻璃板1的抛光期间，当缺陷 (例如杂质或划痕)在被抛光的玻璃板1上存在时或者当有故障的抛光状况发生(例如抛光溶液的过多供应量或者不足供应量)时，抛光机10所要求的电功率可改变。当由抛光机 10所消耗的电功率改变时，流入抛光机10的电流可改变。相应地，电流测量单元120可测量流入抛光机10的电流，并且可将所测量的信息传递至控制单元140。优选地，电流测量单元120可测量流入抛光机10的电机单元13的电流。如图2 中所示，抛光机10可具有电机单元13，以提供用于旋转下部单元12的旋转驱动力，其中玻璃板1被安装在所述下部单元12上。当缺陷(例如杂质或划痕)在玻璃板1上存在时，或者当故障抛光状况发生(例如抛光溶液的异常供应量)时，与抛光机10的其他部件相比， 电机单元13上所消耗的电功率更容易发生直接的变化。因此，电流测量单元120可优选地测量流入电机单元13的电流。电流测量单元120可以各种配置被提供，以测量电流。例如，电流测量单元120可通过测量施加在安装在与抛光机10连接的电流路径上的电阻的电压来测量电流。具体地， 电流测量单元120可被安装在与抛光机10的电机单元13连接的电流路径16上，并且可测量电流，如图2中所示。本发明不局限于电流测量单元120的特定实施方案，以及可使用各种已知的电流测量单元。存储器单元130可存储流入抛光机10的对于玻璃板1的每一抛光位置的电流参考值。在这种情况下，流入抛光机10的电流的参考值是当确定在正常抛光条件下执行抛光时流入抛光机10的电流值。例如，参考值可以是当缺陷(例如杂质或划痕)在玻璃板1上不存在时或者当合适量的抛光溶液被供应时的电流值。参考值可通过如下方式获得当无杂质或者划痕的正常玻璃板1被抛光同时合适量的抛光溶液被供应时，重复测试流入抛光机1的电流。此外，参考值可以各种方法被获得。优选地，参考值可被表示为玻璃板1的每一抛光位置的电流的参考范围。例如，参考值可被表示为50[A]至100[A]之间的预定参考范围。这是因为，依赖于情况不同在电流的测量值中可存在误差，尽管在相同的抛光条件下且在相同的玻璃板上测量电流。因此，优选地将参考值设置为预定参考范围，以在一定程度上允许有误差。图6是图解根据本发明的一实施方案存储在存储器单元130中的流入抛光机10 的电流的参考值的一部分的表。参考图6，当位置测量单元110使用图3中示出的坐标系统表示玻璃板1的抛光位置时，存储器单元130可基于抛光位置坐标来存储参考值的表。具体地，在图6的实施方案中，流入抛光机10的电流的参考值可被表示为预定参考范围。图7是图解根据本发明的另一实施方案存储在存储器单元130中的流入抛光机10 的电流的参考值的一部分的表。参考图7，当位置测量单元110将玻璃板1的抛光位置指定为图4中示出的路径P 上的任意点(例如Pi、P2等)时，存储器单元130可存储对于每一抛光位置的电流参考值的表。此外，在图7的实施方案中，流入抛光机10的电流的参考值可以与图6的实施方案中相同的方式被表示为参考范围。图8是图解根据本发明的又一实施方案存储在存储器单元130中的流入抛光机10 的电流的参考值的一部分的表。参考图8，当位置测量单元110将玻璃板1的抛光位置指定为图5中示出的路径R 上的任意点(例如rl、r2等)时，存储器单元130可存储对于每一抛光位置的电流参考值的表。在这种情况下，存储器单元130还可将流入抛光机10的电流的参考值存储为参考范围。当电流测量单元12测量流入电机单元13的电流时，存储器单元130可存储流入电机单元13的电流的参考值。图1和图2示出了存储器单元130呈现为与其他部件分立。然而，这并不意味着存储器单元130在物理上与其他部件分离。例如，存储器单元130可以与控制单元140整体形成。控制单元140可将电流测量单元120所测量的针对由所述位置测量单元110所测量的每一抛光位置的电流值与存储在存储器单元130中的每一抛光位置的电流参考值进行比较。也就是说，可通过接收来自位置测量单元110的抛光位置信息以及接收来自电流测量单元120的流入抛光机10的电流信息，来识别对于每一抛光位置所测量的电流值。然后，控制单元140可将对于每一抛光位置所测量的电流值与存储在存储器单元130中的对于每一抛光位置的对应的参考值进行比较。因此，控制单元140可基于比较结果来确定在抛光状态中是否存在异常。如上面所描述的，由于存储在存储器单元130中的参考值是抛光状态正常时的值，则当对每一抛光位置所测量的电流值等于对应的参考值或者落入对应的参考范围以内时，控制单元140可确定抛光状态正常。相反，当对每一抛光位置所测量的电流值不等于对应的参考值或者没有落在对应的参考范围以内时，控制单元140可确定抛光状态有故障。
例如，假设存储在存储器单元130中的对于每一抛光位置的参考值如图6所示，以及，由位置测量单元Iio所测量的抛光位置的坐标如图3所示是(V7，H;3)。在这种情况下，从图6的参考值表中所提取的对应于抛光位置(V7，H3)的参考值在58[A]到75[A]之间。因此，当由电流测量单元120所测量的流入抛光机10的电流值落入参考范围58 [A]到75 [A] 之间时，控制单元140可确定抛光状态正常。然而，当电流值小于58 [A]或者大于75 [A]时， 控制单元140可确定抛光状态有故障。在这种情况下，抛光状态可被确定为下列状况下的故障例如，当玻璃板1上存在杂质或者划痕时；当抛光溶液供应量大于或者小于合适量时；当由于抛光机10的抛光垫14 的磨损而使抛光没有被很好地执行时；当抛光机10的抛光压力不合适时；当玻璃板1被损坏时；等等。当电流测量单元120测量流入电机单元120的电流值时，通过将由电流测量单元 120所测量的电流与存储在存储器单元130中的流入电机单元120中的电流参考值比较，控制单元140可确定抛光状态是否有故障。优选地，当控制单元140确定玻璃板1的特定位置的抛光状态有故障时，控制单元 140可提供对应位置的信息。例如，在图3和图6的实施方案中，当控制单元140确定抛光状态是有故障时，则控制单元140可将在故障抛光状态下的抛光位置的坐标为(V7，H3)的信息提供给抛光机10或者显示单元(未示出)(例如监测器)，所述信息可由操作者检查。因此，操作者可在玻璃板1上的对应位置采取合适的行动。另外，当在玻璃板1的特定位置连续地发生故障时，操作者可通过检查和维修玻璃板1或者抛光机10的生产设备来从根本上解决故障的原因。在这种情况下，控制单元140可为抛光机10提供故障抛光状态下的抛光位置的抛光位置的调节信息。例如，当处于故障抛光状态的抛光位置的坐标是图3的实施方案中示出的(V7，H3)时，控制单元140可控制抛光机10的上部单元11移动至玻璃板1上的(V7， H3)坐标的位置，并且进一步抛光对应的位置。相应地，当玻璃板1上的特定位置的抛光状态有故障时，由于有故障的抛光状态可由杂质或者划痕引起，所以控制单元140通过将抛光位置调节信息提供至抛光机10来实现强化和有效的抛光。优选地，控制单元140可基于抛光状态是否有故障来为抛光机10提供抛光溶液调 T1 fn 息。为了在抛光期间提高抛光效率，抛光机10可通过图2中示出的抛光溶液供应单元 15来为玻璃板1供应抛光溶液。在这种情况下，当由抛光溶液供应单元15所供应的抛光溶液的量大于或者小于合适的量时，不能获得抛光效率。因此，控制单元140可通过将流入抛光机10的电流值与对应的参考值进行比较来确定供应至玻璃板1的抛光溶液的量是否合适。另外，当抛光溶液的供应量被确定为不合适时，控制单元140可为抛光机10提供抛光溶液调节信息，以控制抛光机10来适当地调节抛光溶液的供应量。在这种情况下，当为每一抛光位置所测量的电流值小于每一抛光位置的电流参考值时，控制单元140可确定抛光状态为有故障的，并且为抛光机10提供抛光溶液调节信息， 以控制抛光机10来减少抛光溶液的供应量。当抛光溶液的供应量大于合适的量时，上部单元11的抛光垫14可在玻璃板1上过度滑动，以及抛光机10所需求的电功率可被减少，因而流入抛光机10的电流值可小于正常抛光状态的电流值。在这种情况下，可通过减少抛光溶液的供应量以阻止抛光垫14在玻璃板1上过度滑动来获得抛光溶液的抛光效率。另外，当对每一抛光位置所测量的电流值大于每一抛光位置的电流参考值时，控制单元140可为抛光机10提供抛光溶液调节信息，以控制抛光机来增加抛光溶液的供应量。当抛光溶液的供应量小于合适的量时，上部单元11的抛光垫14和玻璃板1之间的摩擦可增加，以及抛光机10所需求的电功率可被增加，因而流入抛光机10的电流值可大于正常抛光状态的电流值。在这种情况下，可通过增加抛光溶液的供应量至合适的量来获得抛光溶液的抛光效率。例如，假设在存储器单元130中存储的每一抛光位置的电流参考值如图7中所示， 以及如图4所示，由位置测量单元110测量的玻璃板1的抛光位置是p2。对应于抛光位置 P2的电流的参考范围在60[A]到72[A]之间。当由电流测量单元120所测量的抛光位置 P2处(上部单元11的中心(a)位于此处)的电流值小于参考范围(即小于60[A])时，控制单元140可为抛光机10提供抛光溶液调节信息，以控制抛光机10来减少抛光溶液的供应量。相反，当由电流测量单元120所测量的电流值大于72 [A]时，控制单元140可为抛光机10提供抛光溶液调节信息，以控制抛光机10来增加抛光溶液的供应量。另外，控制单元140可基于对抛光状态是否有故障的确定来优选地将抛光时间调节信息提供至抛光机10。例如，当预设的抛光时间流逝之后电流的测量值大于对应的参考值时，控制单元 140可确定抛光状态为有故障。在这种情况下，控制单元140可控制抛光机10来增加抛光时间，用于进一步抛光。相反，当达到预设抛光时间之前电流的测量值等于对应的参考值或者落入对应的参考范围时，控制单元140可确定抛光状态为正常。在这种情况下，控制单元 140可控制抛光机10终止抛光或者减少抛光时间。更特定地，假设存储在存储器单元130中的每一抛光位置的电流参考值如图8中所示，以及由位置测量单元110所测量的玻璃板1的抛光位置如图5所示。对应于抛光位置r3的电流的参考范围在56[A]到70[A]之间，如图8所示。当预设抛光时间流逝之后在抛光位置r3处测量的电流值在56[A]到70[A]之间的参考范围以外时，控制单元140可确定抛光状态为有故障。另外，控制单元140可为抛光机10提供抛光时间调节信息，以控制抛光机10增加抛光时间。相反，当达到预定抛光时间之前在抛光位置r3处所测量的电流值落入56[A]到70[A]之间的参考范围时，控制单元140可确定抛光状态为正常，并且可为抛光机10提供抛光时间调节信息，以控制抛光机10来减少抛光时间。根据该实施方案，可依赖于抛光状态来为每一玻璃板灵活地调节玻璃板抛光时间，从而节省花费在抛光玻璃板1上的时间和成本，同时提高使用玻璃板1情况下的产品的生产率。另外，控制单元可基于对抛光状态是否有故障的确定来优选地提供抛光垫更换信息。例如，当流入抛光机10的电流的测量值小于存储在存储器单元130中的对应的参考值时，控制单元140可为抛光机10或者单独的显示设备(例如监测器)提供关于安装在抛光机10中的抛光垫14需要被更换的信息，相应地，操作者可通过抛光机10或者显示设备来检查该信息。当抛光垫14磨损时，可减少抛光垫14和玻璃板1之间的摩擦，因此可减少抛光机10所消耗的电功率。另外，控制单元140可基于对抛光状态是否有故障的确定来优选地为抛光机10提供抛光压力调节信息。例如，当流入抛光机10的电流测量值小于存储在存储器单元130中的对应的参考值时，控制单元140可确定抛光压力小于参考压力，并且可为抛光机10提供抛光压力调节信息，以控制抛光机10来增加抛光压力。在这种情况下，抛光机10可通过下降上部单元11至一定程度来增加抛光压力。相反，当流入抛光机10的电流的测量值大于存储在存储器单元130中的对应的参考值时，控制单元140可确定抛光压力大于参考压力， 并且可为抛光机10提供抛光压力调节信息，以控制抛光机10来减少抛光压力。另外，控制单元140可基于对抛光状态是否有故障的确定来优选地提供抛光板1 是否被损坏的信息。例如，当流入抛光机10的电流的测量值大于对应的参考值时，控制单元140可确定玻璃板1是被损坏的，并且可为抛光机10或者单独的显示设备提供关于玻璃板1的被损坏的信息。当玻璃板1被损坏时，所被损坏的部分可引起玻璃板1和抛光垫14 之间的摩擦的增加，并且从而引起抛光机10所消耗的电功率的增加。本发明的抛光机10可包括如上所述用于监测玻璃板抛光状态的装置100。图9是图解根据本发明的一实施方案用于监测玻璃板抛光状态的方法的示意性流程图。参考图9，根据本发明的用于监测玻璃板抛光状态的方法可包括步骤(SllO)存储流入抛光机的对于玻璃板的每一抛光位置的电流的参考值；步骤(S120)测量正被抛光机抛光的位置；步骤(S130)测量在测量位置处流入抛光机的电流；步骤(S140):比较每一抛光位置的电流测量值和每一抛光位置的对应的电流的参考值；以及，步骤(S150)确定对应的玻璃板的抛光状态是否有故障。优选地，当抛光机包括电机单元以提供用于抛光的旋转驱动力时，流入抛光机的电流可以是流入电机单元的电流。另外，对于玻璃板的每一抛光位置，参考值可优选地表示为电流的参考范围。另外，当在步骤S150中抛光状态被确定为有故障时，该方法可进一步包括在步骤 S150后提供关于故障抛光状态下的抛光位置的信息的步骤(S160)。在这种情况下，该方法可进一步包括在步骤S160后提供故障抛光状态下的抛光位置的抛光位置调节信息的步骤 (S170)。另外，该方法可进一步包括在步骤S150后基于该确定结果为抛光机提供抛光溶液调节信息。在这种情况下，当每一抛光位置的电流测量值小于每一抛光位置的电流的对应参考值时，可执行提供信息至抛光机的步骤(S180)，以控制抛光机来减少抛光溶液的供应量。相反，当每一抛光位置的电流的测量值大于每一抛光溶液的电流的对应参考值时，可执行提供信息至抛光机的步骤(S180)，以控制抛光机来增加抛光溶液的供应量。另外，该方法可进一步包括在步骤S150后基于该确定结果为抛光机提供抛光时间调节信息的步骤(S190)。尽管图9示出了步骤S180和S190独立于步骤S160和S170被执行，但是这仅通过示例给出。例如，步骤S180或者S190可在步骤S160或者S170后被执行。另外，尽管未在图中示出，但是该方法可进一步包括在步骤S150后，基于该确定结果，为抛光机提供抛光垫更换信息、抛光压力调节信息和关于玻璃板是否被损坏的信息中的至少一个的步骤。本发明所述领域的普通技术人员将想到具有前述说明书中呈现的教导的优点的本发明的许多改型和其他实施方案。因而，应理解，本发明不局限于所公开的特定实施方案，并且改型和其他实施方案旨在被包括在随附的权利要求的范围内。
尽管在此使用术语“单元”，对本领域普通技术人员明显的是，它涉及逻辑单元，但是未必涉及物理上隔离的部件。
权利要求
1.一种用于监测玻璃板抛光状态的装置，其在使用抛光机进行玻璃板抛光期间监测抛光状态，该装置包括位置测量单元，其用于测量玻璃板上的正被抛光机抛光的位置；电流测量单元，其用于测量流入抛光机的电流；存储器单元，其用于存储对于玻璃板的每个抛光位置流入抛光机的电流的参照值；以及控制单元，其用于通过将电流测量单元所测量的针对由所述位置测量单元所测量的每一抛光位置的电流值与存储在存储器单元中的每一抛光位置的电流参考值进行比较来确定抛光状态是否有故障。
2.根据权利要求1所述的用于监测玻璃板抛光状态的装置，其中当抛光机包括电机单元以提供用于抛光的旋转驱动力时，流入抛光机的电流是流入电机单元的电流。
3.根据权利要求1所述的用于监测玻璃板抛光状态的装置，其中对于玻璃板的每个抛光位置，参考值被以电流的参考范围的形式表示。
4.根据权利要求1所述的用于监测玻璃板抛光状态的装置，其中当控制单元确定具体位置的玻璃板抛光状态有故障时，控制单元提供关于该相应位置的信息。
5.根据权利要求4所述的用于监测玻璃板抛光状态的装置，其中控制单元为抛光机提供关于处在被确定为有故障的抛光状态下的位置的抛光位置调节信息。
6.根据权利要求1所述的用于监测玻璃板抛光状态的装置，其中控制单元基于对抛光状态是否有故障的确定为抛光机提供抛光液的供应量的调节信息。
7.根据权利要求6所述的用于监测玻璃板抛光状态的装置，其中当对于每个抛光位置电流的测量值小于对于每个抛光位置相应的电流参考值时，控制单元提供信息来控制抛光机以减少抛光液的供应量。
8.根据权利要求6所述的用于监测玻璃板抛光状态的装置，其中当对于每个抛光位置电流的测量值大于对于每个抛光位置相应的电流参考值时，控制单元提供信息控制抛光机以增加抛光液的供应量。
9.根据权利要求1所述的用于监测玻璃板抛光状态的装置，其中控制单元基于对抛光状态是否有故障的确定为抛光机提供抛光时间调节信息。
10.根据权利要求1所述的用于监测玻璃板抛光状态的装置，其中控制单元基于对抛光状态是否有故障的确定提供抛光垫更换信息。
11.根据权利要求1所述的用于监测玻璃板抛光状态的装置，其中控制单元基于对抛光状态是否有故障的确定为抛光机提供抛光压力调节信息。
12.根据权利要求1所述的用于监测玻璃板抛光状态的装置，其中控制单元基于对抛光状态是否有故障的确定为抛光机提供关于玻璃板是否被损坏的信息。
13.一种用于玻璃板的抛光机，包括权利要求1中所限定的用于监测玻璃板抛光状态的装置。
14.一种用于监测玻璃板抛光状态的方法，其在使用抛光机进行玻璃板抛光期间监测抛光状态，该方法包括(51)存储对于玻璃板的每个抛光位置流入抛光机的电流的参照值；(52)测量玻璃板上的正利用抛光机抛光的位置；(53)测量流入抛光机的电流；以及(54)通过比较对于每个抛光位置电流的测量值和对于每个抛光位置相应的电流参考值，来确定抛光状态是否有故障。
15.根据权利要求14所述的用于监测玻璃板抛光状态的方法，其中当抛光机包括电机单元以提供用于抛光的旋转驱动力时，流入抛光机的电流是流入电机单元的电流。
16.根据权利要求14所述的用于监测玻璃板抛光状态的方法，其中对于玻璃板的每个抛光位置，参考值被以电流的参考范围的形式表示。
17.根据权利要求14所述的用于监测玻璃板抛光状态的方法，还包括 当在步骤(S4)中特定位置的抛光状态被确定为有故障时，(55)提供关于处在被确定为有故障的抛光状态下的位置的信息。
18.根据权利要求17所述的用于监测玻璃板抛光状态的方法，还包括 在步骤(S4)后，(56)为抛光机提供处在被确定为有故障的抛光状态下的位置的抛光位置调节信息。
19.根据权利要求14所述的用于监测玻璃板抛光状态的方法，还包括 在步骤(S4)后，(57)基于对抛光状态是否有故障的确定为抛光机提供抛光液的供应量的调节信息。
20.根据权利要求19所述的用于监测玻璃板抛光状态的方法，其中步骤(S7)包括当对于每个抛光位置电流的测量值小于对于每个抛光位置相应的电流参考值时，提供信息来控制抛光机以减少抛光液的供应量。
21.根据权利要求19所述的用于监测玻璃板抛光状态的方法，其中步骤(S7)包括当对于每个抛光位置电流的测量值大于对于每个抛光位置相应的电流参考值时，提供信息来控制抛光机以增加抛光液的供应量。
22.根据权利要求14所述的用于监测玻璃板抛光状态的方法，还包括 在步骤(S4)后，(58)基于对抛光状态是否有故障的确定为抛光机提供抛光时间调节信息。
23.根据权利要求14所述的用于监测玻璃板抛光状态的方法，还包括 在步骤(S4)后，基于对抛光状态是否有故障的确定提供抛光垫更换信息。
24.根据权利要求14所述的用于监测玻璃板抛光状态的方法，还包括 在步骤(S4)后，基于对抛光状态是否有故障的确定为抛光机提供抛光压力调节信息。
25.根据权利要求14所述的用于监测玻璃板抛光状态的方法，还包括 在步骤(S4)后，基于对抛光状态是否有故障的确定为抛光机提供关于玻璃板是否被损坏的信息。
全文摘要
公开了用于监测玻璃板抛光状态的装置和方法。该装置可包括位置测量单元，其用于测量玻璃板上的正利用抛光机抛光的位置；电流测量单元，其用于测量流入该抛光机的电流；存储器单元，其用于存储对于玻璃板的每个抛光位置流入该抛光机的电流的参照值；以及，控制单元，其用于通过将电流测量单元所测量的针对由所述位置测量单元所测量的每一抛光位置的电流值与存储在存储器单元中的每一抛光位置的电流参考值进行比较来确定抛光状态是否有故障。
文档编号G01B21/04GK102192928SQ201110059769
公开日2011年9月21日 申请日期2011年3月11日 优先权日2010年3月11日
发明者吴亨泳, 宋在翊, 文元载, 李大渊, 郑圭澈, 郑贤哲, 金荣国 申请人:株式会社Lg化学
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