专利名称：一种粗糙度仪的姿态调整装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及粗糙度测量领域，尤其涉及一种粗糙度仪的姿态调整装置。
背景技术：
表面粗糙度(surface roughness)是表面微观几何形状误差，对于零件的使用性 能(如摩擦和磨损、配合性质、疲劳强度、接触刚度、耐腐蚀性、结合密封性等)及零件的几 何测量精度都有较大影响，因此表面粗糙度作为重要的技术指标，是几何精度设计中必不 可少的环节，在零件的加工过程中被广泛要求加以控制。零件表面质量的测量与评定通常由粗糙度测量仪完成。其中触针式粗糙度测量是 目前最常用、最可靠的表面粗糙度测量仪，并且一直是各国国家及国际标准制定的依据。这 类仪器基于感应式位移传感的原理，由触针以一定速度在被测表面移动，由于表面的微观 不平度引起触针的上下运动，从而跟踪描述出被测轮廓的几何形状，连续的一段轮廓信息 经滤波、A/D(模拟/数字)转换、放大后，得到X，y两个方向的二维数值，经计算获得粗糙 度参数值。在粗糙度的测量过程中，确保测量基准线与工作台面平行非常重要，这是保证测 量精度的重要因素之一。这里的测量基准线是指粗糙度仪导轨的行走轨迹。现有技术中，粗糙度仪的姿态调整的装置如图1所示。所述粗糙度仪通过粗糙度 仪底座3上的底座支点31、底座支点32和底座支点33与工作台1表面接触，其中底座支 点31和底座支点32是固定的，位于粗糙度仪底座3的前端；底座支点33位于粗糙度仪底 座3的后端，并被固定在旋转轮2上，旋转轮2转动带动丝杠4的一端上下运动，从而改变 粗糙度仪后端距离工作台1表面的高度，使得粗糙度仪底座3与工作台1平行。测量被测物体表面粗糙度时，被测物体和粗糙度仪器均会放在工作台1上。因为 粗糙度仪的导轨与粗糙度仪底座3位置相对固定，所以通过转动旋转轮2，调整粗糙度仪底 座3与工作台1表面的相对位置就相当于是调整了导轨与工作台1表面的平行度。上述调整方式的调整过程是首先转动旋转轮并通过目测来大概调整到一个水平 位置，然后再测量一个表面平行于工作台的平晶，再根据测量结果是否是一条水平直线来 确定粗糙度仪的姿态是否合适，即导轨与工作台平面平行。这个过程要通过反复几次的测 量、调整才能完成。这种调整过程相对繁琐，尤其是对于没有经验的、初次使用粗糙度测量 仪的工作人员，该过程更是需要重复很多次才能完成。
实用新型内容本实用新型实施例提供一种粗糙度仪的姿态调整装置，以简化调整粗糙度仪的姿 态的调整过程，使调整过程方便、简单、直观。一方面，本实用新型实施例提供了一种粗糙度仪的姿态调整装置，所述粗糙度仪 通过粗糙度仪底座上的底座支点、底座支点和底座支点与工作台表面接触，其中底座支点 和底座支点是固定的，位于粗糙度仪底座的前端；底座支点位于粗糙度仪底座的后端，并被
3固定在旋转轮上，旋转轮转动带动丝杠的一端上下运动，从而改变粗糙度仪后端距离工作 台表面的高度，使得粗糙度仪底座与工作台平行，其特征在于，所述粗糙度仪的姿态调整装 置还包括一位于丝杠另一端的指针和一刻度盘，所述粗糙度仪在通过校准使得指针指向刻 度盘的平衡点时，使得粗糙度仪底座与工作台平行。上述技术方案具有如下有益效果用户通过转动旋转轮，将指针调整到指向刻度 盘的平衡点时，即可使得粗糙度仪底座与工作台平行，即使导轨与工作台表面平行，从而减 少了测量平晶表面的步骤，且不需要反复调整，使调整过程方便、简单、直观。
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例 或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅 是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前 提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是现有技术的粗糙度仪的姿态调整的装置结构示意图；图2为本实用新型实施例一种粗糙度仪的姿态调整装置结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行 清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的 实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下 所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。如图2所示，为本实用新型实施例一种粗糙度仪的姿态调整装置结构示意图，所 述粗糙度仪通过粗糙度仪底座3上的底座支点31、底座支点32和底座支点33与工作台1 表面接触，其中底座支点31和底座支点32是固定的，位于粗糙度仪底座3的前端；底座支 点33位于粗糙度仪底座3的后端，并被固定在旋转轮2上，旋转轮2转动带动丝杠4的一 端上下运动，从而改变粗糙度仪后端距离工作台1表面的高度，使得粗糙度仪底座3与工作 台1平行，其特征在于，所述粗糙度仪的姿态调整装置还包括一位于丝杠4另一端的指针5 和一刻度盘6，所述粗糙度仪在通过校准使得指针5指向刻度盘6的平衡点时，使得粗糙度 仪底座3与工作台1平行。在测量物体表面的粗糙度前，需调整粗糙度仪底盘3使之与工作台1表面的平行。 本装置中，通过转动旋转轮2，带动丝杠4上下运动，从而改变粗糙度仪后端距离工作台1表 面的高度，使得粗糙度仪底座3与工作台1平行。在如图2所示粗糙度仪的姿态调整装置 还包括一位于指针5两端之间的指针支点51 若丝杠4向上运动，会带动粗糙度仪底座3上 的底座支点33向上运动，从而使粗糙度仪底座3相对工作台1表面距离变小；同时丝杠4 向上的运动也会带动指针5的A端向上运动，由于在指针5部件中有指针支点51，进而带动 指针5的B端向下运动，表明粗糙度仪底盘3相对工作台1表面距离减小。同理，若丝杠4 向下运动，会带动粗糙度仪底座3上的底座支点33向下运动，从而使粗糙度仪底座3相对 工作台1表面距离变大；同时丝杠4向下的运动也会带动指针5的A端向下运动，由于在指 针5部件中有指针支点51，进而带动指针5的B端向上运动，表明粗糙度仪底盘3相对工作台1表面距离增大。粗糙度仪可以在出厂前通过校准使得指针5指向刻度盘6的C点(平衡点)时， 粗糙度仪导轨与工作台1平面平行，这样当用户使用粗糙度仪时，若导轨与工作台1表面不 平行时，指针5会偏离平衡点C点。因此用户通过转动旋转轮2，将指针5调整到指向C点 即可使得粗糙度仪底座3与工作台1平行，即可使导轨与工作台1表面平行，从而减少了测 量平晶表面的步骤，且不需要反复调整，使调整过程方便、简单、直观。以上所述的具体实施方式
，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进 一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式
而已，并不用于 限定本实用新型的保护范围，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替 换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种粗糙度仪的姿态调整装置，所述粗糙度仪通过粗糙度仪底座( 上的底座支点 (31)、底座支点(32)和底座支点(33)与工作台(1)表面接触，其中底座支点(31)和底座 支点(3 是固定的，位于粗糙度仪底座C3)的前端；底座支点(3 位于粗糙度仪底座(3) 的后端，并被固定在旋转轮( 上，旋转轮( 转动带动丝杠的一端上下运动，从而改 变粗糙度仪后端距离工作台(1)表面的高度，使得粗糙度仪底座C3)与工作台(1)平行，其 特征在于，所述粗糙度仪的姿态调整装置还包括一位于丝杠(4)另一端的指针( 和一刻 度盘(6)，所述粗糙度仪在通过校准使得指针( 指向刻度盘(6)的平衡点时，使得粗糙度 仪底座⑶与工作台⑴平行。
2.如权利要求1所述粗糙度仪的姿态调整装置，其特征在于，所述粗糙度仪的姿态调 整装置还包括一位于指针( 两端之间的指针支点(51)若丝杠向上运动，会带动粗糙度仪底座(3)的底座支点(3 向上运动，从而使粗 糙度仪底座(3)相对工作台(1)表面距离变�。彼扛�(4)向上的运动也会带动指针(5) 靠近丝杠的一端向上运动，指针(5)在指针支点(51)的作用下，进而带动指针(5)靠 近刻度盘(6)的另一端向下运动，表明粗糙度仪底盘C3)相对工作台(1)表面距离减�。蝗羲扛芟蛳略硕岽植诙纫堑鬃�(3)的底座支点(3 向下运动，从而使粗 糙度仪底座(3)相对工作台(1)表面距离变大，同时丝杠(4)向下的运动也会带动指针(5) 靠近丝杠的一端向下运动，指针( 在指针支点(51)的作用下，进而带动指针(5)靠 近刻度盘(6)的另一端向上运动，表明粗糙度仪底盘C3)相对工作台(1)表面距离增大。
专利摘要本实用新型提供一种粗糙度仪的姿态调整装置，所述粗糙度仪通过粗糙度仪底座上的底座支点、底座支点和底座支点与工作台表面接触，其中底座支点和底座支点是固定的，位于粗糙度仪底座的前端；底座支点位于粗糙度仪底座的后端，并被固定在旋转轮上，旋转轮转动带动丝杠的一端上下运动，从而改变粗糙度仪后端距离工作台表面的高度，使得粗糙度仪底座与工作台平行，其特征在于，所述粗糙度仪的姿态调整装置还包括一位于丝杠另一端的指针和一刻度盘，所述粗糙度仪在通过校准使得指针指向刻度盘的平衡点时，使得粗糙度仪底座与工作台平行。本实用新型将指针调整到指向刻度盘的平衡点时，即可使得粗糙度仪底座与工作台平行，减少了测量平晶表面的步骤。
文档编号G01B21/30GK201926436SQ20112000188
公开日2011年8月10日 申请日期2011年1月5日 优先权日2011年1月5日
发明者周丽, 朱杰, 王玉泉, 郭键 申请人:北京物资学院
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