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专利名称：一种检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及阵列基板生产检测技术领域，特别涉及一种检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置。
背景技术：
薄膜晶体管液晶显示装置TFT-1XD的阵列基板制程中，由于工艺原因造成光刻胶或其他有机物残留在基板上，为减小基板残留的光刻胶等有机物形成的缺陷点对基板的下一工序造成影响，需要对基板进行残留光刻胶等有机物形成的缺陷点进行检测，若基板上具有缺陷点，则需要对这些缺陷点进行成分分析，以便去除。现有技术中，在对基板进行缺陷点检测时，首先采用的外观检查机对基板进行检测，以确认基板上是否存在缺陷点，然后在通过红外显微镜设备等红外设备对这些缺陷点进行成分分析；使用外观检查机对基板表面进行检查时，只能查出基板表面是否具有残留的光刻胶等有机物形成的缺陷点，以及这些缺陷点的位置，不能对形成缺陷点的有机物的成分进行分析，而能够分析缺陷的成分的红外显微镜设备等红外设备能够对形成缺陷点的有机物的成分进行分析，却无法对缺陷点进行定位，由于缺陷点的尺寸较小，具体分析时，残留有机物形成的缺陷点在显微镜下不易找到，增加了残留有机物检测的难度。

实用新型内容本实用新型提供了一种检测阵列基板制程中有机物残留的检测装置，该检测装置能够降低对基板的残留有机物进行检测的难度。为达到上述目的 ，本实用新型提供以下技术方案:一种检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置，包括:架体；安装于架体中的承载基板的载台、卤素光源、红外光源、具有检测光接收端的成像与红外检测单元、以及将卤素光源或者红外光源的检测光导向载台承载的基板表面，并将基板表面反射的检测光导向所述检测光接收端的调光组件；所述调光组件在将卤素光源的检测光导入检测光接收端时，所述成像与红外检测单元根据检测光生成基板的检测图像，所述检测图像根据以基板中的一个特定对位点为坐标原点的平面坐标系布置，当所述成像与红外检测单元判断基板表面中存在有机物残留形成的缺陷点时，根据所述平面坐标系确定缺陷点的位置，然后通过调光组件将所述红外光源的检测光导向缺陷点的位置，并将缺陷点反射的检测光导入所述检测光接收端，所述成像与红外检测单元根据导入所述检测光接收端的红外光源的检测光分析缺陷点有机物的成分。优选地，所述卤素光源与红外光源的发射方向相对，且相互重合，所述调光组件位于齒素光源与红外光源之间。[0012]优选地，所述卤素光源与所述红外光源的发射端位于同一水平面，所述调光组件包括:一个安装于架体的五棱镜，具有相邻、且相互垂直的第一棱面和第二棱面，所述第一棱面朝向所述卤素光源的发射端、且与所述卤素光源发射的检测光垂直时，第二棱面与基板的表面平行；所述第二棱面朝向所述红外光源的发射端、且与红外光源发射的检测光垂直时，第一棱面与基板的表面平行；位于五棱镜下方，将五棱镜射出的检测光导向基板的表面的第一反射镜；安装于所述架体，将基板反射的检测光导向检测光接收端的第二反射镜。优选地，所述载台为双向平动机构，可以将基板在水平面内横向和纵向位移。优选地，所述检测光接收端为一个，所述第二反射镜为一个。优选地，所述检测光接收端包括:接收基板反射的卤素光源的检测光的卤素检测光接收端；接收基板反射的红外光源的检测光的红外检测光接收端。优选地，所述卤素检测光接收端和所述红外检测光接收端位于所述五棱镜的两侧；所述第一反射镜可旋转地安装于所述架体，且所述第二反射镜包括:将基板表面反射的红外光源的检测光导向红外检测光接收端的红外反射镜；将基板表面反射的卤素光源的检测光导向卤素检测光接收端的卤素反射镜。优选地，所述卤素光源的检测光与所述红外光源的检测光共用一套平面坐标系。优选地，所述成像与红外检测单元包括成像仪和红外光谱测试仪。本实用新型提供的检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置，包括:架体；安装于架体中的承载基板的载台、卤素光源、红外光源、具有检测光接收端的成像与红外检测单元、以及将卤素光源或者红外光源的检测光导向载台承载的基板表面，并将基板表面反射的检测光导向所述检测光接收端的调光组件；所述调光组件在将卤素光源的检测光导入检测光接收端时，所述成像与红外检测单元根据检测光生成基板的检测图像，所述检测图像根据以基板中的一个特定对位点为坐标原点的平面坐标系布置，当所述成像与红外检测单元判断基板表面中存在有机物残留形成的缺陷点时，根据所述平面坐标系确定缺陷点的位置，然后通过调光组件将所述红外光源的检测光导向缺陷点的位置，并将缺陷点反射的检测光导入所述检测光接收端，所述成像与红外检测单元根据导入所述检测光接收端的红外光源的检测光分析缺陷点有机物的成分。上述检测装置在具体检测时，将基板放置在载台上，首先使用调光组件将卤素光源的检测光导向基板的表面，基板表面反射的齒素光源的检测光被调光组件导入检测光接收端，成像与红外检测单元根据以基板中的特定对位点为原点的平面坐标系形成基板表面的检测图像，以确定缺陷点在基板表面上的位置；确定了缺陷点的位置之后，通过调光组件将红外光源的检测光导向基板的表面，根据调光组件的调整操作，可以知红外光源的检测光射在基板表面的点与卤素光源的检测光射在基板表面的点之间的相对间距，进而可以通过调整红外光源的检测光射在基板表面上的点的位置，将红外光源的检测光导向缺陷点的位置，并将缺陷点反射的检测光导入检测光接收端，成像与红外检测单元根据导入检测光接收端的红外光源的检测光分析缺陷点有机物的成分。所以，本实用新型提供的检测装置能够降低对基板的残留有机物进行检测的难度。

图1为本实用新型提供的检测装置的第一种结构在使用卤素光源检测缺陷点在载台的平面坐标系内的坐标位置的检测状态示意图；图2为本实用新型提供的检测装置的第一种结构在使用红外光源检测分析缺陷点的有机物成分的检测状态示意图；图3为本实用新型提供的检测装置的第二种结构示意图；图4为本实用新型提供的检测装置第一种结构中调光组件的一种结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。本实用新型提供了一种检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置，为便于对上述检测装置的工作原理进行描述，以图1和图2所示的检测装置为例，上述检测装置包括:架体I ;安装于架体I中的承载基板7的载台8、卤素光源9、红外光源3、具有检测光接收端10的成像与红外检测单元2、以及将卤素光源9或者红外光源3的检测光导向载台8承载的基板7表面，并将基板7表面反射的检测光导向检测光接收端10的调光组件；调光组件在将卤素光源9的检测光导入检测光接收端10时，成像与红外检测单元2根据检测光生成基板7表面的检测图像，检测图像根据以基板7中的一个特定对位点为坐标原点的平面坐标系布置，当成像与红外检测单元2判断基板7表面中存在有机物残留形成的缺陷点时，根据上述平面坐标系确定缺陷点的位置，然后通过调光组件将红外光源3的检测光导向缺陷点的位置，并将缺陷点反射的检测光导入检测光接收端10，成像与红外检测单元2根据导入检测光接收端10的红外光源的检测光分析缺陷点有机物的成分。上述检测装置在具体检测时，将基板7放置在载台8上，如图1所示，首先使用调光组件将齒素光源9的检测光导向基板7的表面,基板7表面反射的齒素光源9的检测光被调光组件导入检测光接收端10，成像与红外检测单元2根据以基板7中的特定对位点为原点的平面坐标系形成基板7表面的检测图像，以确定缺陷点在基板7表面上的位置；确定了缺陷点的位置之后，通过调光组件将红外光源3的检测光导向基板7的表面，根据调光组件的调整操作，可以知红外光源3的检测光射在基板7表面的点与齒素光源9的检测光射在基板7表面的点之间的相对间距，进而可以通过调整红外光源3的检测光射在基板7表面上的点的位置，将红外光源3的检测光导向缺陷点的位置，并将缺陷点反射的检测光导入检测光接收端10，成像与红外检测单元2根据导入检测光接收端10的红外光源的检测光分析缺陷点有机物的成分。所以，本实用新型提供的检测装置能够降低对基板的残留有机物进行检测的难度。上述技术方案中提到的卤素光源9、红外光源3以及调光组件之间的相对位置有多种方式，优选地，为便于多卤素光源9和红外光源3的发射的检测光的调整，如图1和图2所示，上述卤素光源9与红外光源3的发射方向相对，且相互重合，调光组件位于卤素光源9与红外光源3之间。如图1和图2所不方位，齒素光源9和红外光源3的发射方向相对，卤素光源9位于调光组件的左侧，红外光源3位于调光组件的右侧，所以卤素光源9和红外光源3发射检测光的方向可以重合,从而可以使齒素光源9和红外光源3的检测光自调光组件的同一平面射入，便于调光组件对卤素光源9和红外光源3检测光的调整。请在图1和图2的基础上参考图4，优选地，上述卤素光源9与红外光源3的发射端位于同一水平面，且上述调光组件包括:一个安装于架体I的五棱镜4，具有相邻、且相互垂直的第一棱面42和第二棱面41,第一棱面42朝向齒素光源9的发射端、且与齒素光源9发射的检测光垂直时,第二棱面41与基板7的表面平行，如图1所示；第二棱面41朝向红外光源3的发射端、且与红外光源3发射的检测光垂直时，第一棱面42与基板7的表面平行，如图2所示；位于五棱镜4下方,将五棱镜4射出的检测光导向基板7的表面的第一反射镜5 ；安装于架体1，将基板7反射的检测光导向检测光接收端10的第二反射镜6。具体操作中，齒素光源9发射检测光,调节上述五棱镜4,使第一棱面42与齒素光源9发射的检测光垂直，检测光在五棱镜4内的导方式如图1中虚线部分所示，最终，检测光垂直于第二棱面41射出五棱镜，由于第二棱面41与基板7的表面平行,检测光在第一反射镜5的反射作用下，斜向射向基板7的表面，并经过基板7表面反射后，再次通过调光组件的第二反射镜6导向成像与红外检测单元2的检测光接收端10，成像与红外检测单元2根据成像的图像分析，检测出基板7上残留有机物形成的缺陷点的位置坐标；然后，逆时针旋转五棱镜4,如图2所不，第二棱面41与红外光源3发射的检测光垂直,检测光由第二棱面41射入五棱镜4，且检测光在五棱镜4内的导方向如图2以及图4中虚线所示，红外光源3的检测光垂直于第一棱面42射出五棱镜4，并经过第一反射镜5反射，斜向射向基板7的表面，基板7表面反射的检测光经过第二反射镜6导向成像与红外检测单元2的检测光接收端10，成像与红外检测单元2根据红外光源3的检测光的光谱分析残留有机物的成分。由于卤素光源9的发射端与红外光源3的发射端位于同一水平面，因此，卤素光源9发射的检测光与红外光源3发射的检测光于五棱镜4的同一高度射入五棱镜4,且均垂直于水平面射出五棱镜4,便于第一反射镜5对检测光的调整。为便于调整卤素光源9的检测光以及红外光源3的检测光在基板7上的检测位置变动时控制的精确性，优选地，上述载台8可以为双向平动机构，可以将基板7在水平面内横向和纵向位移。即，齒素光源9以及红外光源3由五棱镜4以及第一反射镜5导向基板7表面的检测光的光路不变，基板7表面反射向第二反射镜6的检测光的光路不变，只需调整载台8便可调整卤素光源9以及红外光源3的检测光在基板7表面的检测位置的调整。上述技术方案中提到的成像与红外检测单元2的接收端可以为一个，如图1和图2所示，则第二反射镜也为一个，如图1中所示反射镜6，在具体操作过程中，可以使用卤素光源9确认一处残留有机物缺陷的位置后，停止载台8的运动，然后直接旋转五棱镜4，将红外光源3的检测光射向此位置，直接对此位置的残留有机物缺陷进行成分分析。当然，如图3所示，上述成像与红外检测单元2的检测光接收端10还可以为两个，包括:接收基板7反射的卤素光源9的检测光的卤素检测光接收端21 ；接收基板7反射的红外光源3的检测光的红外检测光接收端22。如图1和图2所示，上述成像与红外检测单元2的检测光接收端10为两个时，上述卤素检测光接收端21和红外检测光接收端22位于五棱镜4的两侧；第一反射镜5可旋转地安装于架体I，且第二反射镜包括:将基板7表面反射的红外光源3的检测光导向红外检测光接收端22的红外反射镜62 ；将基板7表面反射的卤素光源9的检测光导向卤素检测光接收端21的卤素反射镜61。优选地，为提高红外光源3检测时与卤素光源9检测获得的左边对位时的精确性，优选地，卤素光源9的检测光与红外光源3的检测光共用一套平面坐标系。具体地，上述技术方案中提到的成像与红外检测单元2具体包括用于对卤素光源9的检测光进行成像的成像仪，和对红外光源3的检测光进行光谱分析的红外光谱测试仪。显然，本领域的技术人员可以对本实用新型实施例进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求1.一种检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置，其特征在于，包括: 架体； 安装于架体中的承载基板的载台、卤素光源、红外光源、具有检测光接收端的成像与红外检测单元、以及 将卤素光源或者红外光源的检测光导向载台承载的基板表面，并将基板表面反射的检测光导向所述检测光接收端的调光组件； 所述调光组件在将齒素光源的检测光导入检测光接收端时，所述成像与红外检测单元根据检测光生成基板的检测图像，所述检测图像根据以基板中的一个特定对位点为坐标原点的平面坐标系布置，当所述成像与红外检测单元判断基板表面中存在有机物残留形成的缺陷点时，根据所述平面坐标系确定缺陷点的位置，然后通过调光组件将所述红外光源的检测光导向缺陷点的位置，并将缺陷点反射的检测光导入所述检测光接收端，所述成像与红外检测单元根据导入所述检测光接收端的红外光源的检测光分析缺陷点有机物的成分。
2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述卤素光源与红外光源的发射方向相对，且相互重合，所述调光组件位于卤素光源与红外光源之间。
3.根据权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述卤素光源与所述红外光源的发射端位于同一水平面，所述调光组件包括: 一个安装于架体的五棱镜，具有相邻、且相互垂直的第一棱面和第二棱面，所述第一棱面朝向所述卤素光源的发射端、且与所述卤素光源发射的检测光垂直时，第二棱面与基板的表面平行；所述第二棱面朝向所述红外光源的发射端、且与红外光源发射的检测光垂直时，第一棱面与基板的表面平行； 位于五棱镜下方，将五棱镜射出的检测光导向基板的表面的第一反射镜；` 安装于所述架体，将基板反射的检测光导向检测光接收端的第二反射镜。
4.根据权利要求3所述的检测装置，其特征在于，所述载台为双向平动机构，可以将基板在水平面内横向和纵向位移。
5.根据权利要求4所述的检测装置，其特征在于，所述检测光接收端为一个，所述第二反射镜为一个。
6.根据权利要求4所述的检测装置，其特征在于，所述检测光接收端包括: 接收基板反射的卤素光源的检测光的卤素检测光接收端； 接收基板反射的红外光源的检测光的红外检测光接收端。
7.根据权利要求6所述的检测装置，其特征在于，所述卤素检测光接收端和所述红外检测光接收端位于所述五棱镜的两侧；所述第一反射镜可旋转地安装于所述架体，且所述第二反射镜包括: 将基板表面反射的红外光源的检测光导向红外检测光接收端的红外反射镜； 将基板表面反射的卤素光源的检测光导向卤素检测光接收端的卤素反射镜。
8.根据权利要求Γ7任一项所述的检测装置，其特征在于，所述卤素光源的检测光与所述红外光源的检测光共用一套平面坐标系。
9.根据权利要求8所述的检测装置，其特征在于，所述成像与红外检测单元包括成像仪和红外光谱测试仪。
专利摘要本实用新型公开了一种检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置，包括架体；安装于架体中的载台、卤素光源、红外光源、具有检测光接收端的成像与红外检测单元、以及调光组件；调光组件在将卤素光源的检测光导入检测光接收端时，成像与红外检测单元根据检测光生成以基板中的一个特定对位点为坐标原点的平面坐标系布置的检测图像，当基板表面中存在有机物残留形成的缺陷点时，确定缺陷点的位置，然后通过调光组件将红外光源的检测光导向缺陷点的位置，并将缺陷点反射的检测光导入检测光接收端，成像与红外检测单元根据红外光源的检测光分析缺陷点有机物的成分；本实用新型提供的检测装置能够降低对基板的残留有机物进行检测的难度。
文档编号G01N21/958GK202928966SQ201220613840
公开日2013年5月8日 申请日期2012年11月19日 优先权日2012年11月19日
发明者刘英伟 申请人:京东方科技集团股份有限公司