专利名称：新型真空测量规管的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种新型真空测量规管。
背景技术：
真空测量规管是检测真空系统的传感器，在真空镀膜系统中，真空测量的精度和稳定性是决定镀膜精度和重复性的重要依据。在通常的真空检测系统中，真空测量规管是直接放置在大气中的。以测量高真空的电离规管为例，其测量原理是电子与气体分子碰撞后引起分子电离，从而形成电子和正离子，电子最终被加速极收集，正离子被收集极接收形成离子流，通过测量离子流大小来判断真空度的高低。由于工作过程中电离规管的管壁会发热，其温度高低与分子电离特性是相关的。在通常情况下，电离规管是直接暴露在空气中，管壁的散热情况与环境温度相关。为保证测试精度的一致性，原则上要求电离规管所处的环境有恒温条件，但由于抽真空系统所处的环境要做到恒温代价很高，也不现实。所以在实际生产中，夏天和冬天，白天和晚上测量的准确度都会有所偏差，对要求高的场合就会使生产工艺引入较大的误差。
实用新型内容本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足，提供一种不受外界环境温度影响的新型真空测量规管。为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案实现新型真空测量规管，包括电离规管，其特征在于，围绕电离规管设置有套管支架， 围绕套管支架缠绕有冷却水管，所述冷却水管设置有进口和出口。优选地是，所述冷却水管为铜管。优选地是，所述冷却水管螺旋缠绕在套管支架上。本实用新型中的新型真空测量规管，利用在冷却水管中通入恒温冷却水，为电离规管提供恒温的工作环境，可防止电离规管受外界温度变化影响而降低稳定性。
图1为本实用新型中的新型新型真空测量规管结构剖视图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型进行详细的描述如图1所示，新型真空测量规管，包括电离规管1。围绕电离规管1设置有套管支架2。围绕套管支架2缠绕有冷却水管3。冷却水管3设置有进口 31和出口 32。冷却水管 3为铜管。冷却水管3螺旋缠绕在套管支架2上。本实用新型中的实施例仅用于对本实用新型进行说明，并不构成对权利要求范围的限制，本领域内技术人员可以想到的其他实质上等同的替代，均在本实用新型保护范围内。
权利要求1.新型真空测量规管，包括电离规管，其特征在于，围绕电离规管设置有套管支架，围绕套管支架缠绕有冷却水管，所述冷却水管设置有进口和出口。
2.根据权利要求1所述的新型真空测量规管，其特征在于，所述冷却水管为铜管。
3.根据权利要求1所述的新型真空测量规管，其特征在于，所述冷却水管螺旋缠绕在套管支架上。
专利摘要本实用新型公开了一种新型真空测量规管，包括电离规管，其特征在于，围绕电离规管设置有套管支架，围绕套管支架缠绕有冷却水管，所述冷却水管设置有进口和出口。本实用新型中的新型真空测量规管，利用在冷却水管中通入恒温冷却水，为电离规管提供恒温的工作环境，可防止电离规管受外界温度变化影响而降低稳定性。
文档编号G01L21/30GK202267566SQ20112037205
公开日2012年6月6日 申请日期2011年9月29日 优先权日2011年9月29日
发明者孙红俊, 汤兆胜 申请人:上海兆九光电技术有限公司
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