专利名称：一种石墨炉原子吸收光谱法测定工业硅中硼的样品处理方法
技术领域：
本发明涉及一种化工原材料的元素检测，特别涉及到一种石墨炉原子吸收光谱法测定工业硅中硼的样品处理方法。
背景技术：
随着电子行业的发展，作为原材料的工业硅被大量的应用于半导体制造领域。而基于其半导体材料所要求的物理性质，对工业硅材料中的杂质元素的要求非常严格，因此对于其杂质的检测是非常严格，对其限量有严格的要求。而作为硼和磷对工业硅的性能影响最大，硼作为一个自然界常见的元素普遍分布在土壤中，以往文献中对硅中硼的测定相对很少，其分析方法主要为紫外吸收法，中子活化法，ICP-0ES，原子吸收，原子荧光等。比色法一般采用姜黄素比色法和甲亚胺比色法。它们存在的不足1对操作条件，环境条件要求高，干扰离子多，重现性差。ICP-OES法该方法较为简单，其分析速度快，集体效应小。但由于ICP-OES的分析成本高和检出限不及石墨炉原子吸收法的问题，也影响了 ICP-OES的应用。参看的文献有《多晶硅中硼含量的密闭消解ICP-AES法测定》(分析测试学报2010，，四(9) =962-965)采用石墨炉原子吸收法测定也有少量的应用，但由于测定硼时其记忆效应严重， 加之硼是高温元素其原子化温度要很高，这样会严重影响石墨管的使用寿命，而且也易使其氧化硼的损失和生成难解离的碳化硼，因此需要加入基体改进剂和对石墨管进行涂层处理，现有使用的改进剂Ca-Mg，如《硼的原子吸收光谱法测定》(岩矿测试，蒋永清姚金玉，中国科学院长春应用化学研究所)，采用此改进剂，虽然其测试灵敏度高，测定重复性差，准确度不好。因此需要找到其他的合适的改进剂进行测定分析。
发明内容
为了缓解现有技术的不足和缺陷，本发明的目的在于提供一种石墨炉原子吸收光谱法测定工业硅中硼的样品处理方法，本发明原子吸收法选择性好，谱线干扰少，检出限低，分析快，操作简单，使用成本低，特别适合硅中微量和痕量硼的测定。为了实现上述目的本发明采用如下技术方案石墨炉原子吸收光谱法测定工业硅中硼的样品处理方法，其特征在于包括以下步骤(1)称取粉碎至100目以上的硅粉0. 995-1. 005克入280_320mL聚四氟乙烯烧杯中，用纯水将杯内壁附着的少量硅粉冲至杯底；(2)将烧杯放在电热板上加热至水份即将蒸干，取下烧杯，加入氢氟酸9-llmL，轻轻晃动烧杯使硅粉与氢氟酸充分接触，用滴管吸取硝酸(HNO3 H2O = 1 1)，一滴滴的滴入烧杯中，加入0. 6mL左右应停止加入等待反应，若反应比较平缓，则可继续滴入硝酸，滴 Λ 5mL左右；
(3)将烧杯放在100-150°c电热板上加热，继续加热直至溶液清亮，加热至 180-220°C直至全部蒸干；(4)取下烧杯，稍冷，加入1. 8-2. 2mL浓硝酸，轻轻晃动烧杯让酸液将干碴全部浸过并全部溶解它，再置于电热板上继续加热直至近干，重复2-3次；(5)取下烧杯，稍冷，加纯水3-8mL，浓硝酸2. 2-2. 8mL，轻轻晃动烧杯让酸液将干碴全部浸过并全部溶解它，再加水3-8mL，将烧杯复放在热板上温热以进一步充分溶解干物，4-5分钟后取下烧杯，稍冷，将溶液移入25mL容量瓶，水加至刻度，摇勻；(6)通过分别加入与样品相同体积的进样量，与浓度为1000ug/ml混合改进剂混合，最后采用石墨炉原子吸收法分析测定。本发明的有益效果本发明选用成分是混合溶液，浓度为lOOOug/ml做基体改进剂，提高了灰化温度降低基体干扰，减少氧化硼在灰化时易挥发损失，而Ba与B生成的化合物，减少了 B与 c形成难以解离的碳化硼，进一步提高灵敏度，成分中的^ 在石墨管中反应，进一步对石墨管内壁进行了在线的涂层，减少C与B的结合，提高硼原子化的效率，而且其基体改进剂的空白值很�。岣吡瞬舛ǖ募斐鱿蓿辉偌由显游辗ㄑ≡裥院茫紫吒扇派伲斐鱿薜停治隹欤僮骷虻ィ褂贸杀镜停乇鹗屎瞎柚形⒘亢秃哿颗鸬牟舛ā�
图1硼的标准曲线示意图。
具体实施例方式实施例1 石墨炉原子吸收光谱法测定工业硅中硼的样品处理方法，包括以下步骤(1)称取粉碎至100目以上的硅粉0. 995-1. 005克入280_320mL聚四氟乙烯烧杯中，用纯水将杯内壁附着的少量硅粉冲至杯底；(2)将烧杯放在电热板上加热至水份即将蒸干，取下烧杯，加入氢氟酸9-llmL，轻轻晃动烧杯使硅粉与氢氟酸充分接触，用滴管吸取硝酸(HNO3 H2O = 1 1)，一滴滴的滴入烧杯中，加入0. 6mL左右应停止加入等待反应，若反应比较平缓，则可继续滴入硝酸，滴 Λ 5mL左右；(3)将烧杯放在100-150°C电热板上加热，继续加热直至溶液清亮，加热至 180-220°C直至全部蒸干；(4)取下烧杯，稍冷，加入1. 8-2. 2mL浓硝酸，轻轻晃动烧杯让酸液将干碴全部浸过并全部溶解它，再置于电热板上继续加热直至近干，重复2-3次；(5)取下烧杯，稍冷，加纯水3_8mL，浓硝酸2. 2-2. 8mL，轻轻晃动烧杯让酸液将干碴全部浸过并全部溶解它，再加水3-8mL，将烧杯复放在热板上温热以进一步充分溶解干物，4-5分钟后取下烧杯，稍冷，将溶液移入25mL容量瓶，水加至刻度，摇勻；(6)通过分别加入与样品相同体积的进样量，与浓度为1000ug/ml混合改进剂混合，最后采用石墨炉原子吸收法分析测定。实施例2 本发明具体实验测试
1. 1仪器及设备WYS2200原子吸收光谱仪(安徽皖仪科技)，可调电热板，WY802-II型超纯水机 (安徽皖仪科技)，硼空心阴极灯(北京有色金属总院)，热解涂层石墨管(吉林天宝)。1. 2试剂及溶液(1)硝酸，优级纯，68-70%，北京化工厂产品；(2)氢氟酸，优级纯，40%，北京化工厂产品；⑶高纯去离子水。电阻率彡18ΜΩ. cm ； (4) Ba标准溶液1000 μ g/mL，北京有色金属总院；(5)氧氯化锆分析纯，彡99. 0%国药试剂；(6)B标准溶液1000 μ g/mL,北京有色金属总院；(7)氢氧化钡优级纯国药试剂。1. 3标准溶液配制(1)基体化学改进剂Jr-Ba改进剂配法用氯氧化锆和氢氧化钡配成含 ZrlOOO μ g/mL、BalOOO μ g/mL 的混合溶液(水溶液)。(2)标准溶液，将B标准溶液(1000 μ g/mL)逐级稀释为浓度为0. 40,0. 60， 0. 08，1.00 μ g/mL溶液且含有10%硝酸。1.4样品处理步骤(1)称取粉碎至100目的硅粉1. 000克入300mL聚四氟乙烯烧杯中；(2)用纯水将杯内壁附着的少量硅粉冲至杯底；(3)将烧杯放在电热板上加热至水份即将蒸干，取下烧杯，加入氢氟酸10mL，轻轻晃动烧杯使硅粉与氢氟酸充分接触，用滴管吸取硝酸(1+1)，一滴滴的滴入烧杯中，加入约 0. 6mL左右应停止加入等待反应，若反应比较平缓，则可继续滴入硝酸，大约滴入5mL左右；(4)将烧杯放在电热板上加热(约100-150°C热度)，可能会有比较大量的棕黄色气体放出以及可能出现细小硅粒濺在内壁上，应立即用洗瓶将其冲入杯底。继续加热直至溶液清亮，加大热度(约200°C )直至全部蒸干；(5)取下烧杯，稍冷，加入2mL浓硝酸，轻轻晃动烧杯让酸液将干碴全部浸过并全部溶解它，再置于电热板上继续加热直至近干，如有必要此操作可重复两次，目的在于分解除去白色硅氟酸盐；(6)取下烧杯，稍冷，加纯水5mL，浓硝酸2. 5mL,轻轻晃动烧杯让酸液将干碴全部浸过并全部溶解它，再加水5mL，将烧杯复放在热板上温热以进一步充分溶解干物，约5分钟后取下烧杯，稍冷，将溶液移入25mL容量瓶，水加至刻度，摇勻，有稍许未溶物不影响测定；(7)采用使用的新型的基体改进剂，其浓度为lOOOug/ml Zr-Ba混合改进剂；(8)测试步骤，通过分别加入与样品相同体积的进样量，进行混合改进样品溶液的基体，采用石墨炉原子吸收法分析测定。本实例中，选用的仪器是安徽皖仪科技股份有限公司生产的WYS2200型原子吸收分光光度计及有色金属研究院生产的硼空芯阴极灯。1. 5仪器分析(1)仪器条件波长M9. 8nm,带宽0. 4nm,灯电流8mA，氘灯电流50mA，负高压约350V，阻尼系数20。(2)石墨炉加热程序
温度。C时间sec加热方式灵敏度气体类型气路112030RAMP低氩气0. 2225010RAMP低氩气0. 2350010RAMP低氩气0. 8480010RAMP低氩气0. 8510005STEP高氩气0. 0624003STEP高氩气0. 0725003STEP低氩气1. 08108STEP低氩气1. 0925003STEP低氩气1. 0(3)进样量先注入20 μ L标液或样品液，再注入20 μ L改进剂后启动加热程序， 若溶液吸光度小于0. 03Α时应启动浓缩进样功能，浓缩次数以浓缩后吸光度不低于0. 05Α 为好。(4)石墨管寿命在如此高的温度下经多次测试读数精度不变的最高石墨管使用次数约为70-90次(实际上一次加热程序中包含两次最高升温故石墨管的实际使用寿命是 140-180次！)，我们的仪器升温采用自动光控升温模式，原子化温度在M00°C其灵敏度相当于电流反馈式升温^00°C，这就进一步延长的石墨管的使用寿命。(5)镀锆石墨管的使用2.5克氯氧化锆(含结晶水)溶于50mL水中，将石墨管垂直放入，将烧杯放入玻璃真空干燥器中，用水抽真空减压10分钟，取出，在空气中干燥后， 在烘箱中120°C干燥2小时.装入石墨炉中，100°C干燥30秒，700°C加热10秒，2400°C 5 秒.重复一次即可。(6)选用了数种改进剂，如Ca，Sr-Mg，Zr-Ni, Zr-Ba, Ca-Mg等。Ca的灵敏度最高， 但空白也大。Ba次之，但空白很小。故最终选用混合改进剂，一则有好的灵敏度，二则空白�。蚣尤毽应涌裳映な苁倜�。经测定改进剂后的空白液吸光度只在0. 005A-0. 006A水平。Zr-Ca空白液吸光度只在0. 04A-0. 05A.因此使用改进剂而Ba，Ca，Sr同属碱土金属，其在石墨炉内部反应的机理一样都是将B与其结合为化合物，提高了灰化温度降低基体干扰，减少氧化硼在灰化时易挥发损失，而Ba与B生成的化合物，减少了 B与C形成难以解离的碳化硼，进一步提高灵敏度，而Sr，Ca作为基体改进剂成分，虽然灵敏度高， 但空白值太大，而且测定是精密度没有好。以下是其再升温是的化学反应机理。所以在2000°C以上是避免B原子与碳结合，必须加入Ba，抑制其生成碳化硼，以提高B的原子化。
H3BO3 (S) 4421^HBOa (1) + H1O (g)
BHBO2(I)JIB=B2O3(S) +H2Oig)
权利要求
1. 一种石墨炉原子吸收光谱法测定工业硅中硼的样品处理方法，其特征在于包括以下步骤(1)称取粉碎至100目以上的硅粉0.995-1. 005克放入280_320mL聚四氟乙烯烧杯中， 用纯水将杯内壁附着的少量硅粉冲至杯底；(2)将烧杯放在电热板上加热至水份即将蒸干，取下烧杯，加入氢氟酸9-llmL，轻轻晃动烧杯使硅粉与氢氟酸充分接触，用滴管吸取硝酸(HN03:H20=1 :1)，一滴滴的滴入烧杯中，加入0. 6mL左右应停止加入等待反应，若反应比较平缓，则可继续滴入硝酸，滴入5mL左右；(3)将烧杯放在100-15(TC电热板上加热，继续加热直至溶液清亮，加热至180-220°C直至全部蒸干；(4)取下烧杯，稍冷，加入1.8-2. 2mL浓硝酸，轻轻晃动烧杯让酸液将干碴全部浸过并全部溶解它，再置于电热板上继续加热直至近干，重复2-3次；(5)取下烧杯，稍冷，加纯水3-8mL，浓硝酸2.2-2. 8mL,轻轻晃动烧杯让酸液将干碴全部浸过并全部溶解它，再加水3-8mL，将烧杯复放在热板上温热以进一步充分溶解干物， 4-5分钟后取下烧杯，稍冷，将溶液移入25mL容量瓶，水加至刻度，摇勻；(6)通过分别加入与样品相同体积的进样量的浓度为lOOOug/ml混合改进剂与样品混合，最后采用石墨炉原子吸收法分析测定。
全文摘要
本发明公开了一种石墨炉原子吸收光谱法测定工业硅中硼的样品处理方法，方法包括称取合适的样品硅粉；选择适合酸进行样品的消化溶解；通过加热挥硅，脱离残杂；过滤得到澄清溶液后通过加入Zr-Ba这种合适的基体改进剂来抑制基体的干扰。本发明提高了样品在石墨炉原子吸收法测定是的灵敏度，改善了精密度，测定速度快，干扰�。既范雀撸舛ǖ某杀镜停乇鹗视糜牍ひ倒枭笠档闹柿考觳�。
文档编号G01N21/33GK102393371SQ20111031027
公开日2012年3月28日 申请日期2011年10月14日 优先权日2011年10月14日
发明者李涛, 王国东 申请人:安徽皖仪科技股份有限公司
专业数控铣床产品供应商
20年生产经验，实力工厂，精工品质，质量有保障
