专利名称：一种测量散射光场三维分布的装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种测量散射光场三维分布的装置，具体涉及利用光纤传输并通过阵 列式探测器测量三维散射光场分布的领域。
背景技术：
物体表面散射光场分布可以用双向反射分布函数(BRDF)描述。BRDF纪录了物 体表面对不同方向的入射光在各个角度的反射分布，是一个多元函数，测量过程复杂。
现有的散射光场分布测量方法主要有利用成像系统将各个反射角的光强分布成 像到阵列式探测器上，再通过图像处理得到散射光强分布值，如Kristin J Dana等的论 文《Device for convenient measurement of spatially varying bidirecional reflectance》(J. Opt Soc.Am.A八Aol.21,No. 1,2004)。该方法中，各个角度的散射光强度由光学成像和图像 采集的方法获�。梢允迪衷诙淌奔淠谕辈饬靠占涓鞲鼋嵌鹊墓馇糠植迹虼瞬饬� 结果比较稳定，重复性好。但是CCD等图像采集器件多为平面阵列结构，要实现对散 射到整个半空间的各个方向光信号的采集，需要适合的系统对光线方向进行变换。 Kristin J Dana等采用离轴抛物面镜，将散射到不同方向的光线反射到同一方向并通过 CCD相机进行纪录，但只能接收半球空间中某一立体角范围内的散射光，且由于CCD 的动态响应范围较�。馇靠占浞植计鸱洗笫被岵ズ拖窒螅沟貌饬拷峁荒� 准确描述较强的镜向反射峰。另外，该方法需要在实验室中进行，限制了移动性强的 野外测量。
发明内容
要解决的技术问题
为了避免现有技术的不足之处，本发明提出一种测量散射光场三维分布的装置，
所要解决的问题主要有1.系统应能在较短的时间内完成散射光场测量。2.系统的重复性误差较小。3.系统能对较大范围内的散射光强进行精确测量。4.系统应能实
现整个半球空间散射光场的三维分布测量。5.系统应方便进行野外测量。 技术方案
一种测量散射光场三雒分布的装置，其特征在于装置的组成包括钻孔半球壳l、
光纤2、钻孔圆盘3、可调光阑6、透镜5、 CCD相机4、光源系统7、光源功率监测 器8和分束镜9;可调光阑6位于装置底部，钻孔半球壳1位于可调光阑6上，钻孔 圆盘3位于钻孔半球壳1之上，二者之间通过若干光纤连接，透镜5位于圆盘3之上， CCD相机4位于透镜5之上，在钻孔圆盘3和透镜5之间固定一个法线与装置主轴成 45度角的分束镜9，光源系统7位于分束镜9的一侧，其光轴垂直于装置主轴，光源 功率监测器8与光源系统同轴且位于分束镜9的另一侧，其接收面正对光源输出光束 的中心且与光源系统固连；所述的光源系统7包括光源14、透镜15、透镜17和小孔 16，其构成为在透镜15与透镜17之间设计小孔16，光源A固定在透镜15—侧； 所述的可调光阑6的下表面与钻孔半球壳1的赤道面重合，且可调光阑6下表面的中 心与钻孔半球壳1的球心重合；所述的钻孔半球壳l、光纤2、钻孔圆盘3、可调光阑 6、透镜5和成像系统沿装置主轴同轴分布；所述的钻孔半球壳1和钻孔圆盘3上的孔 数目相等且均匀分布，光纤数目等于钻孔半球壳上的孔数和圆盘上的孔数。
所述的钻孔圆盘3上的孔距钻孔圆盘3中心的距离正比于钻孔半球壳1上的孔的 轴线与装置主轴的夹角，且两对应孔的轴线与光纤轴线在同一平面内。
所述的透镜5到钻孔圆盘3的距离大于透镜5的两倍焦距，透镜5的孔径大于钻 孔圆盘3的直径。
所述的CCD相机4靶面距离透镜1倍焦距到2倍焦距之间。
所述的钻孔半球壳1上的圆孔10沿钻孔半球壳1表面均匀分布，孔径可取 0.5mm 2mm，孔间距可取lmm 2mm，所有圆孔10的轴垂直于钻孔半球壳1表面并指向球心。
所述钻孔半球壳1上的圆孔10的孔径与钻孔圆盘3上圆孔的孔径与光纤2的直径 相等。
所述的所述光纤2的两个端面11为凸形聚光设计或在光纤两端加装与光纤同轴的 fi聚焦透镜。
所述的钻孔半球壳1的内壁及圆孔10的内壁涂黑色吸光涂层。 所述可调光阑6采用旋片式光阑。 ' 有益效果
本发明的有益效果在于采用光纤和面阵CCD相机可以快速地测量物体表面散射光 场的空间分布，在光散射测量过程中利用光源功率监测器对光源的输出功率进行实时 监测从而避免了光源输出稳定性对测量结果的影响。
利用分束镜使得入射光的输入与反射光的输出互不影响，可以测量包括后向反射 在内的整个半空间中的双向反射分布。
利用光纤端面会聚光束并通过可调光阑来限制光束可以很好地控制入射光斑的面积。
CCD相机曝光时间可调，能够对多个不同强度量级的反射分布进行准确测量。 整个装置集电源、光源、测试光路、调节、存储和控制单元于一个紧凑的整体， 方便实时在线测量及野外测量。
图1是本发明散射光场三维分布测量装置的剖视图
图2是本发明中钻孔半球壳的俯视图3是本发明中光纤插入钻孔半球壳处的局部放大剖视图4是本发明中可调光阑的俯视图；图5是图2所示散射光场三维分布测量装置的底部放大剖视图； 图6是本发明散射光场三维分布测量装置的光入射示意图； 图7是本发明散射光场三维分布测量装置的光接收示意l-钻孔半球壳；2-光纤；3-钻孔圆盘；6-可调光阑；5-透镜；4-CCD相机；7-光源 系统；8-光源功率监测器;'9-分束镜；10-圆孔；ll-端面；12-中间孔；13-待测样品； 14-光源；15-透镜；16-小孔；17-透镜。
具体实施方式
现结合附图对本发明作进一步描述
实施例1:如图1所示的分布测量装置包括钻孔半球壳1、光纤2、钻孔圆盘3、
光源功率监测器8、分束镜9、可调光阑6、光源系统和成像系统。所有组件沿装置主 轴同轴分布，可调光阑6位于装置底部，钻孔半球壳1位于可调光阑6上，可调光阑 6的下表面与钻孔半球壳1的赤道面重合，且可调光阑6下表面的中心与钻孔半球壳1 的球心重合。钻孔圆盘3位于钻孔半球壳1之上，二者之间通过若干光纤连接，光纤 数目等于钻孔半球壳上的孔数和圆盘上的孔数，分别位于圆盘3和钻孔半球壳1上且 为同一根光纤所连接的两个孔相对应，即圆盘3上的孔距圆盘3中心的距离正比于钻 孔半球壳1上的孔的轴线与装置主轴的夹角(天顶角)，且两对应孔的轴线与光纤轴线 在同一平面内。透镜5位于圆盘3之上，到圆盘3的距离大于透镜5的两倍焦距，透 镜5的孔径大于圆盘3的直径，可以确保所有从圆盘上光纤端面出射的光束都能被透 镜5接收。CCD相机4位于透镜5之上，CCD靶面距离透镜1倍焦距到2倍焦距之 间，圆盘3上的光纤端面成像于CCD靶面。分束镜9固定于圆盘3和透镜5之间，其 法线与装置主轴成45度角。光源系统7由光源14、透镜15、 17和小孔16组成，光 源系统7位于圆盘3和透镜5之间，在分束镜9的一侧，其光轴垂直于装置主轴，光 源系统7装配在平行于装置主轴的滑轨上，可以沿装置主轴方向平移。光源功率监测器8与光源系统7同轴且位于分束镜9的另一侧，其接收面正对光源输出光束的中心 且与光源系统固连，可以与光源系统同步运动。光源14可以采用半导体激光器或其他 准直白光光源，光源14出射的光束经透镜15、 17会聚和小孔16滤波后， 一部分由分 束镜9反射会聚于圆盘3上光纤端面处， 一部分透过分束镜9会聚于光源功率监测器 8表面。测量时将待测样品13置于钻孔半球壳球心位置处或将测量装置置于待测物体 表面上，并调节可调光阑6的中心孔12的大小以改变照射到样品或物体表面光斑的面 积，如图2和图6B所示。然后根据待测表面的反射特性选择适当的曝光时间，通过 CCD相机4纪录下表面在整个半球空间中各个角度的散射光强并存储在相机所携带的 存储卡内。对于有较强反射峰的物体表面，可以用一组不同量级的曝光时间纪录一组 不同强度的图像，即由较短的曝光时间纪录下未达到饱和的反射峰分布，而由较长的 曝光时间纪录非峰值处的漫射分布，通过后续的图像处理操作可以在计算机里得到 CCD相机无法纪录的灰度阶。光源系统沿平行于装置主轴方向平移可以使光束照射到 圆盘3上不同径向距离处的光纤端面上，通过光纤传输以不同的入射角照射到位于半 球壳1球心处的样品表面，实现不同入射角下散射分布的测量。
所述表面散射光场三维分布的测量将装置置于待测样品表面上，使系统轴线垂 直于样品表面，可调光阑6贴近样品表面，打开光源14，光束的一部分经分束镜9反 射后通过光纤2传输并经光纤端面11会聚照亮样品表面，另一部分光透过分束镜9 照射到光源功率监测器8的表面以实时监测光源输出功率的变化。调节可调光阑6可 以改变照射到样品表面上的光斑面积。样品表面的反射或散射光通过光纤2传输到圆 盘3处并透过分束镜9由透镜5成像于CCD相机4上，CCD相机4的曝光时间可以 调节以适应不同的反射或散射光强度。
图2中钻孔半球壳1上的圆孔10沿钻孔半球壳1表面均匀分布，孔径可取 0.5mm 2mm，孔间距可取lmm 2mm。实施例中孔径可取lmm，孔间距可取lmm。所有圆孔的轴垂直于钻孔半球壳1表面并指向球心，钻孔半球壳内壁涂黑以防止未照 射到光纤端面的光在钻孔半球壳内壁发生反射。
图3表示了光纤一端插入钻孔半球壳1的情况，光纤直径等于圆孔10的孔径为 lmm。光纤端面11距钻孔半球壳1内壁有一段距离，且圆孔内壁涂黑，这样限制了入 射光和接收光的方向并减弱了光纤端面反射造成的干扰。光纤端面为凸透镜形状，可 以在不使用外加透镜的条件下对入射光束和接收光束进行会聚，.使辐射和反射测量更 精确。
图4中的可调光阑6采用旋片式光阑，在测量辐射光场三维分布时用以隔离环境 光干扰，在测量物体表面散射光场三维分布时不同开孔12的大小可以实现对不同尺度 的表面区域进行测量，测量时照射光斑的面积大于光阑开孔12的面积，光斑中心的--部分光通过开孔12照射到待测物体表面，这样在不同的入射角下，照射到待测物体表 面的光斑都是同一面积的圆斑，而辐射照度正比于入射角的余弦。
图5描述了测量辐射光场三维分布的具体实施过程，本发明尤其适合于测量如LED 等小型发光体的光辐射空间分布，可以在不到1秒的时间内测得整个半球空间内的辐 射光场分布，排除了光源功率波动的影响。
图6描述了测量表面散射光场三维分布的具体实施过程，本发明适合于测量不同 尺度物体表面的散射光场三维分布，在测量比较小的样片时，可以在光阑下装设一个 夹具将样片夹持在光阑开孔处进行测量，测量大型物体表面或不适宜移动的物体表面 时，可将测量装置直接放置于待测物体表面使可调光阑6紧贴物体表面，还可以沿物 休表面移动测量装置以实现对物体表面不同区域的扫描测量，对于在生产流水线上的 产品测量，将本发明装置固定在生产线上适当位置处，在产品通过测量装置的光阑开 孔处时触发曝光，可以在线监测全方位的产品表面信息。
图7描述了表面反射分布测量的光入射过程，自光源14发出的光束经透镜15、 17和小孔16后成为会聚于圆盘3处光纤端面和光源功率监测器8接收面的光束，光源系 统和监测器8保持在同一轴线上，可以同时沿装置主轴上下平移。光源上下平移通过 分束镜反射使得入射光照射在圆盘3不同半径处的光纤端面上，而圆盘上不同半径处 的光纤将光传输到对应的钻孔半球壳1不同天顶角处，即实现了照射到待测表面的不 同入射角。
图8描述了从圆盘上光纤端面输出的光被接收的过程，圆盘3上的孔与钻孔半球 壳1上的孔一一对应，圆盘上光纤插入状态和光纤端面设计与图4中钻孔半球壳1上 的相似，透镜5采用大孔径短焦距透镜并镀增透膜，由圆盘3上光纤端面出射的光可 以完全照射到透镜5且绝大部分被透镜5折射到CCD相机4 ， CCD相机4采用工业 面阵CCD或单反数码相机，后者配备存储卡，可以更好地实现移动测量。
本发明所述装置外壳采用刚度较好的金属壳封装，外壳内壁涂黑色吸光涂层，外 壳上设置光源位置调节及光阑调节装置并可以显示调节值。
权利要求1.一种测量散射光场三维分布的装置，其特征在于装置的组成包括钻孔半球壳(1)、光纤(2)、钻孔圆盘(3)、可调光阑(6)、透镜(5)、CCD相机(4)、光源系统(7)、光源功率监测器(8)和分束镜(9)；可调光阑(6)位于装置底部，钻孔半球壳(1)位于可调光阑(6)上，钻孔圆盘(3)位于钻孔半球壳(1)之上，二者之间通过若干光纤连接，透镜(5)位于圆盘3之上，CCD相机(4)位于透镜(5)之上，在钻孔圆盘(3)和透镜(5)之间固定一个法线与装置主轴成45度角的分束镜(9)，光源系统(7)位于分束镜(9)的一侧，其光轴垂直于装置主轴，光源功率监测器(8)与光源系统同轴且位于分束镜(9)的另一侧，其接收面正对光源输出光束的中心且与光源系统固连；所述的光源系统7包括光源(14)、透镜(15)、透镜(17)和小孔(16)，其构成为在透镜(15与透镜(17)之间设计小孔(16)，光源(14)固定在透镜(15)一侧；所述的可调光阑(6)的下表面与钻孔半球壳(1)的赤道面重合，且可调光阑(6)下表面的中心与钻孔半球壳(1)的球心重合；所述的钻孔半球壳(1)、光纤(2)、钻孔圆盘(3)、可调光阑(6)、透镜(5)和成像系统沿装置主轴同轴分布；所述的钻孔半球壳(1)和钻孔圆盘(3)上的孔数目相等且均匀分布，光纤数目等于钻孔半球壳上的孔数和圆盘上的孔数。
2. 根据权利要求1所述的测量辐射和散射光场三维分布的装置，其特征在于所述 的钻孔圆盘(3)上的孔距钻孔圆盘(3)中心的距离正比于钻孔半球壳(1)上的 孔的轴线与装置主轴的夹角，且两对应孔的轴线与光纤轴线在同一平面内。
3. 根据权利要求1所述的测量辐射和散射光场三维分布的装置，其特征在于所述 的透镜(5)到钻孔圆盘(3)的距离大于透镜(5)的两倍焦距，透镜(5)的孔 径大于钻孔圆盘(3)的直径。
4. 根据权利要求1所述的测量辐射和散射光场三维分布的装置，其特征在于所述 的CCD相机(4)靶面距离透镜1倍焦距到2倍焦距之间。
5. 根据权利要求1所述的测量辐射和散射光场三维分布的装置，其特征在于所述 的钻孔半球壳(1)上的圆孔(10)沿钻孔半球壳(1)表面均匀分布，孔径可取 0.5mm 2mm，孔间距可取lmm 2mm，所有圆孔(10)的轴垂直于钻孔半球壳(1) 表面并指向球心。
6. 根据权利要求1所述的测量辐射和散射光场三维分布的装置，其特征在于所述 钻孔半球壳(1)上的圆孔(10)的孔径与钻孔圆盘(3)上圆孔的孔径与光纤(2) 的直径相等。
7. 根据权利要求1所述的测量辐射和散射光场三维分布的装置，其特征在于所述 的所述光纤(2)的两个端面(11)为凸形聚光设计或在光纤两端加装与光纤同轴 的自聚焦透镜。
8. 根据权利要求1所述的测量辐射和散射光场三维分布的装置，其特征在于所述 的钻孔半球壳(1)的内壁及圆孔(10)的内壁涂黑色吸光涂层。
9. 根据权利要求1所述的测量辐射和散射光场三维分布的装置，其特征在于所述可调光阑(6)采用旋片式光阑。
专利摘要本实用新型涉及一种测量散射光场三维分布的装置，其特征在于可调光阑6位于装置底部，钻孔半球壳1位于可调光阑6上，钻孔圆盘3位于钻孔半球壳1之上，二者之间通过若干光纤连接，透镜5位于圆盘3之上，CCD相机4位于透镜5之上；在钻孔圆盘3和透镜5之间固定一个法线与装置主轴成45度角的分束镜9，光源系统7位于分束镜9的一侧，光源功率监测器8与光源系统同轴且位于分束镜9的另一侧。有益效果在于采用光纤和面阵CCD相机可以快速地测量物体表面散射光场的空间分布，在光散射测量过程中利用光源功率监测器对光源的输出功率进行实时监测从而避免了光源输出稳定性对测量结果的影响。
文档编号G01J1/04GK201149524SQ20082002816
公开日2008年11月12日 申请日期2008年1月22日 优先权日2008年1月22日
发明者驹 任, 赵建林 申请人:西北工业大学
专业数控铣床产品供应商
20年生产经验，实力工厂，精工品质，质量有保障
