专利名称：X线分析装置以及x线分析方法
技术领域：
本发明涉及对从试样表面产生的荧光χ线进行分析的χ线分析装置以及X线分析 方法。
背景技术：
在荧光X线分析中，将从X线源射出的X线照射到试样上，并用X线检测器检测作 为从试样放出的特性X线的荧光X线。由此，根据检测到的能量取得光谱，进行试样的定性 分析或定量分析。该荧光X线分析能够在不损坏试样的情况下迅速地进行分析，因此被广 泛用在制造工序或品质管理等中。近年来，能够以高精度和高灵敏度进行X线检测，因此能 够实现微量测定。尤其对于检测材料或复合电子元件等中含有的有害物质的分析方法，期 待着荧光X线分析的普及。以往，例如在专利文献1中提出了具有转换器(revolver)的复合装置，该转换器 能够在同一光轴上对光学显微镜的物镜与X线分析装置的X线产生器进行切换。在该复合 装置中，相对于光学显微镜检测到的分析位置，不需要进行试样的移动以及与该移动相伴 的分析对象位置的对准，能在相同的试样位置照射来自X线产生器的一次X线，进行X线分 析。另外，在该复合装置中，一边利用转换器改变物镜的倍率一边观察试样，且将Z方向(高 度方向)上的位置对准预先设定成，使得物镜的焦点位置与一次X线的焦点位置一致。专利文献1 日本特开2007-292476号公报上述现有技术还存留有以下课题。即，在测定试样时，需要预先进行调节，以预先 使物镜的焦点位置与一次X线的焦点位置在Z方向上一致。在上述专利文献1记载的技术 中，试样载置台控制部是独立的，因此需要作业者手动进行位置对准。另外，为了切换物镜 需要使旋转器旋转，因此作业效率差。而且，在测定凹凸较大的试样时，存在与物镜相撞的危险。
发明内容
本发明正是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供能够以高作业效率、安全地 进行试样测定的X线分析装置以及X线分析方法。本发明为了解决上述课题，采用了下述结构以及方法。即，本发明的X线分析装置 的特征在于，其具有放射线源，其向试样上的照射点照射放射线；X线检测器，其检测从试 样放出的特性X线以及散射X线，输出包含特性X线以及散射X线的能量信息的信号；对信 号进行分析的分析器；载置试样的试样载置台；移动机构，其能够使试样载置台上的试样 与放射线源及X线检测器相对地移动；高度测定机构，其能够测定试样上的照射点的高度； 以及控制部，其根据测定到的试样上的照射点的高度，控制移动机构，调整试样与放射线源 及X线检测器之间的距离。由此，能够准确地掌握试样高度，调整试样载置台上的试样与放 射线源以及X线检测器之间的距离。另外，本发明的X线分析装置的特征在于，其具有激光位移传感器。
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另外，本发明的X线分析装置的特征在于，其具有使用了三角测距方式的激光位 移传感器。另外，本发明的X线分析装置的特征在于，其具有下述结构在从放射线源放射的 放射线的光轴与激光位移传感器的光轴为同轴的状态下，将放射线和从激光位移传感器射 出的激光照射到试样上。由此，即使是有凹凸的试样也能向放射线照射位置照射激光，因此 能够准确地测定放射线照射位置的高度。另外，本发明的X线分析装置的特征在于，其具有下述结构具有观察试样的试样 观察系统以及进行试样观察系统的焦点切换的焦点切换驱动机构，其中，根据高度测定机 构测定到的试样上的照射点的高度，控制焦点切换驱动机构，调整试样观察系统的焦点位 置。由此，能够观察测定点。另外，本发明的X线分析装置的特征在于，其具有下述结构在从放射线源放射的 放射线的光轴、具有焦点切换驱动机构的试样观察系统的光轴以及激光位移传感器的光轴 为同轴的状态下，将放射线与从激光位移传感器射出的激光照射到试样上。另外，本发明的X线分析装置的特征在于，其具有反射镜，其用于使激光位移传 感器的光轴同轴地位于放射线的光轴上；以及分束器，其用于使放射线的光轴、激光位移传 感器的光轴以及试样观察系统的光轴成为同轴。由此，能够将3个光轴设为同轴，因此，能 够节约设置空间，实现紧凑的装置。另外，本发明的X线分析装置的特征在于，其具有下述结构高度测定机构能够在 将试样载置于试样载置台上的状态下测定试样上的照射点的高度。另外，本发明的X线分析方法的特征在于，其具有以下步骤高度测定机构测定试 样上的照射点的高度的步骤；以及移动机构使试样载置台上的试样与放射线源及X线检测 器相对地移动，对照射点进行定位的步骤，在对照射点进行定位的步骤中，控制部根据测定 到的试样上的照射点的高度，控制移动机构，调整试样与放射线源及X线检测器之间的距 罔。另外，本发明的X线分析方法的特征在于，其具有由焦点切换驱动机构使试样观 察系统对焦至照射点的步骤，在对焦至照射点的步骤中，控制部根据测定到的试样上的照 射点的高度，控制焦点切换驱动机构，进行试样观察系统与试样之间的对焦。另外，本发明的X线分析方法的特征在于，其具有以下步骤高度测定机构测定试 样上的照射点的高度的步骤；以及根据试样上的照射点的高度照射放射线，进行测定/分 析的步骤，在进行测定/分析步骤中，在进行用于根据分析器求出的数据作定量分析的计 算时，根据放射线的标准照射位置与照射点的高度位置之差，对计算中使用的参数进行校 正。由此，能够准确地进行定量分析。根据本发明，起到如下效果。由高度测定机构准确掌握试样高度，由控制部调整试 样与放射线源及X线检测器之间的距离，由此，能够以高作业效率、安全地进行试样测定。
图1是示出X线分析装置以及X线分析方法的一个实施方式中的X线分析装置的 实施例的概略性的整体构造图。图2是说明使试样与放射线源及X线检测器相对移动的移动机构的概略动作的实施例说明图。图3是说明焦点切换驱动机构的概略动作的实施例说明图。图4是说明三角测距方式激光位移传感器的试样高度测定方法的实施例说明图。标号说明1试样载置台；2X线管球(放射线源)；3X线检测器；4分析器；5观察系统；6焦 点切换驱动机构；7激光位移传感器；8移动机构；9控制部；10试样室；11测定头部；Pl照 射点；S试样；T试样高度。
具体实施例方式下面，参照图1至图4说明本发明的X线分析装置以及X线分析方法的一个实施 方式。并且，在以下说明所使用的各图中，为了使各部件成为可识别的大小而根据需要对缩 尺进行了适当变更。本实施方式的X线分析装置例如是能量分散型荧光X线分析装置，如图1所示，该 X线分析装置具有载置试样S的可移动的试样载置台1 ；X线管球(放射线源)2，其向试样 S上的任意的照射点Pl照射一次X线(放射线)X1 ；X线检测器3，其检测从试样S放出的 特性X线以及散射X线，输出包含该特性X线以及散射X线的能量信息的信号；分析器4， 其与X线检测器3连接，对上述信号进行分析；观察系统5，其具有光学显微镜等，取得由照 明单元(未图示)照明的试样S的图像作为图像数据；焦点切换驱动机构6，其用于使观察 系统5在其光轴方向上移动，切换焦点位置；测定头部移动机构8，其能够使包含X线管球2 以及X线检测器3的测定头部11与试样载置台1上的试样S进行相对移动；激光位移传感 器7，其能够测定试样S上的任意照射点Pl处的试样高度；以及控制部9，其与分析器4连 接，进行判别与特定元素对应的X线强度的解析处理以及各机构的控制。上述X线管球2将以如下方式产生的X线作为一次X线Xl从铍箔等的窗口射出， 所述方式是利用在丝极(filament)(阳极)与对电极(target)(阴极)之间施加的电 压，对从管球内的丝极(阳极)产生的热电子进行加速，使其与对电极的W(钨)、Mo(钼)、 Cr (铬)等碰撞，从而产生所述X线。上述X线检测器3具有设置在X线的入射窗口处的半导体检测元件(例如，作为 Pin结构二极管的Si (硅)元件)(图示略)，当1个X线光子入射时，上述X线检测器3产 生与该1个X线光子对应的电流脉冲。该电流脉冲的瞬间电流值与入射的特性X线的能量 成比例。另外，X线检测器3被设定为，将半导体检测元件所产生的电流脉冲转换成电压脉 冲，进行放大，作为信号输出。上述分析器4是根据上述信号得到电压脉冲的波高来生成能量谱的波高分析器 (多通道分析仪)。上述观察系统5由能够通过反射镜5a、分束器5b来观察确认试样S的放大图像等 并进行摄像的光学显微镜以及观察用照相机等构成。上述观察系统5能够通过焦点切换驱动机构6连续地切换焦点位置，该焦点切换 驱动机构6用于使观察系统5在其光轴方向上移动，切换焦点位置。上述试样载置台1是在载置着试样S的状态下可进行上下左右的水平移动的XY 载置台。
上述测定头部移动机构8能够使测定头部11沿一次X线Xl的行进路径方向移动， 该测定头部11由X线管球2、X线检测器3、分析器4、观察系统5、焦点切换驱动机构6以 及激光位移传感器7—体地构成。焦点切换驱动机构6、试样载置台1和测定头部移动机构 8采用连接或内置的滚珠丝杠或传送带等致动机构，由步进电机等进行驱动。上述激光位移传感器7能够测定载置在试样载置台1上的试样S上的任意照射点 Pl处的试样高度。从设置在X线管状(放射线源)2附近的激光位移传感器7的激光光源 (图示略)射出的一次激光Li，经由反射镜5c向照射点照射。此时，一次激光Ll的光轴与 一次X线Xl的光轴被设定为同轴。另外，一次激光Ll的光轴与观察系统5的光轴也是同 轴的。并且，一次激光Ll经由分束器5b照射到试样S上的任意照射点Pl处。一次激光Ll 照射到照射点Pl而产生的二次激光L2返回到激光位移传感器7内(图示略)的CCD型感 光部(图示略)中，通过检测返回到它的每个元件中的二次激光L2的感应状态来取得距离 (高度)信息，其输出被发送到控制部9。另外，分束器5b和反射镜5c为可动式的，在分析 时可以从一次X线Xl的行进路径上退避。上述控制部9是由CPU等构成的作为解析处理及各机构的控制装置发挥功能的计 算机，该控制部9具有控制部主体9a，其根据从分析器4发送来的能量谱来判别与特定元 素对应的X线强度；显示部％，其根据控制部主体9a的判别来显示分析结果；以及操作部 9c，其能够输入照射点Pl的位置输入等各种指令和分析条件等。另外，控制部主体9a还具 有与焦点切换驱动机构6、测定头部移动机构8等进行通信来执行控制的功能。另外，控制部主体9a被设定为根据如图2所示那样测定的试样S上的任意照射 点Pl处的高度，控制测定头部移动机构8，调整试样S与X线管球2及X线检测器3之间的 距离。并且，控制部主体9a被设定为根据如图3所示那样测定的试样S上的任意照射 点Pl处的试样高度，控制焦点切换驱动机构6，进行观察系统5的焦点位置调整。另外，控制部主体9a对焦点切换驱动机构6和测定头部移动机构8的控制可以同 时或独立地进行。另外，观察系统5能够针对由未图示的照明单元照明的试样S的图像，通过焦点切 换驱动机构6连续地切换焦点，该焦点切换驱动机构6用于使观察系统5的光学显微镜以 及观察用照相机等的焦点位置在其光轴方向上移动。在控制部9中预先存储有标准照射 位置P2，作为焦点切换驱动机构6的原点位置(图示略)。这里，标准照射位置P2是来自 X线管球2的一次X线Xl的照射轴与X线检测器3的(最佳灵敏度的)方向交叉的位置。 通过计算从原点位置(图示略)起焦点切换驱动机构6驱动用的步进电机等的输入脉冲数 量、或来自编码器的输出脉冲数量，能够求出试样S上的照射点Pl与X线管球2之间的距 离。这样，观察系统5还作为距离测定单元发挥功能。另外，控制部9被设定为求取根据作为距离测定单元的观察系统5求出的距离算 出的试样高度位置与标准照射位置P2之差，根据该差，校正用于定量计算的X线照射距离 等参数。另外，在本实施方式中，观察系统5通过进行焦点切换调整，来间接地求出照射点 Pl与X线管球2之间的距离，而还可以求出照射点Pl与X线检测器3之间的距离。这些试样载置台1、X线管球2、X线检测器3、观察系统5以及激光位移传感器7
7等被收纳在可减压的试样室10内，在测定时，对试样室10内进行减压，使得X线不会被吸 收到大气中环境中。接着，参照图1至图4，说明使用了本实施方式的X线分析装置的X线分析方法。首先，在将试样S放置在试样载置台1上后，通过激光位移传感器7来测定试样S 的高度T，如图1所示，在试样室10内，激光位移传感器7被放置成使得一次激光Ll与一次 X线Xl的光轴以及观察系统5的光轴是同轴的。即，从设置在X线管球(放射线源)2附近 的激光位移传感器7的激光光源(图示略)射出的一次激光Ll是与一次X线Xl的光轴同 轴的，因此，该一次激光Ll经由该光轴上的反射镜5c而照射到试样S上的任意照射点P1。 另外，一次激光Ll也与观察系统5的光轴是同轴的，经由同时向试样S进行照射的分束器 5b，照射到试样S上的任意照射点Pl。一次激光Ll照射到试样S而产生的二次激光L2返 回到激光位移传感器7内(图示略)的CCD型感光部(图示略)中，通过检测返回到它的 每个元件的二次激光L2的感应状态来取得距离(高度)信息。这里，如图4所示，采用了 这样的配置为了使二次激光L2从试样S返回后的激光强度不发生衰减，而不让二次激光 L2经过分束器5b。然后，激光位移传感器7向控制部9输出测定到的试样S的高度T，控制部9将测 定到的试样S的高度T存储起来。接着，将试样室10内设为预定的减压状态，为了进行荧光X线分析，控制部9对试 样载置台1进行驱动来移动试样S，将其配置在X线管球2的正下方。然后，通过测定头部 移动机构8移动测定头部11，进行一次X线Xl的照射距离匹配，将照射点Pl设置在从X线 管球2射出的一次X线Xl的照射位置处。其中，当对该照射点Pl进行定位时，控制部9根据测定到的试样S的高度T，控制 测定头部移动机构8，调整试样S与X线管球2及X线检测器3之间的距离。S卩，如图2所 示，当试样S的高度T比一次X线Xl的标准照射位置P2的高度低时，控制部9例如通过测 定头部移动机构8，使测定头部11移动它们的差分D的距离量，使得与照射点Pl —致。并且，如图3所示，对于观察系统5，也通过焦点切换驱动机构6使观察系统5 —起 移动差分D的距离量，由此，也对观察系统5的焦点位置进行调整。在这样调整了试样S与X线管球2及X线检测器3之间的位置以及观察系统5的 焦点位置的状态下，从X线管球2向试样S照射一次X线XI，从而由X线检测器3检测所产 生的特性X线以及散射X线。检测到X线的X线检测器3将其信号发送到分析器4，分析器4根据该信号提取能 量谱，将其输出到控制部9。在控制部9中，根据从分析器4发送来的能量谱来判别与特定元素对应的X线强 度，将这些分析结果显示在显示部9b上。此时，并不一定要在标准照射位置P2处向试样S照射一次X线XI。例如，在期望 更简便地得到分析结果的情况下，可在任意的照射点Pl处进行分析。此时，控制部9基于 一次X线Xl的标准照射位置P2与照射点Pl的高度位置之间的差分D，根据分析器4求出 的能量谱的波高值的数据，校正并计算由控制部9进行定量分析所需的计算中要使用的参 数。而且，还同时基于该差分D对观察系统5进行焦点位置的调整。此时，要校正的参数(以下也称为校正参数)为从X线管球2至照射点Pl的距离、从照射点Pl至X线检测器3的距离、连结X线管球2和照射点Pl的线段与连结照射点 Pl和X线检测器3的线段所成的角度等。这是因为，当标准照射位置P2与照射点Pl的高度位置产生了差异时，从X线管球 2至照射点Pl的距离、从照射点Pl至X线检测器3的距离、以及连结X线管球2和照射点 Pl的线段与连结照射点Pl和X线检测器3的线段所成的角度等发生变化。由此，照射到试 样S上的一次X线Xl的能量密度和照射区域发生变化。由此，从试样S放出的荧光X线和 散射X线的强度等发生变化，且由X线检测器3检测到的荧光X线和散射X线的强度发生 变化。因此，通过添加校正参数并进行计算，能够准确地进行定量分析。另外，在本实施方式中，由于使用了反射镜5a以及分束器5b，因此对于与高度位 置之差而言，观察系统5的光轴与X线管球2的光轴是同轴的，所以X线管球2的方向与照 射点Pl所成的角度不会发生变化。但是，在不使用反射镜5a以及分束器5b的结构中，观 察系统5的光轴与X线管球2的光轴不同，因此，要使用连结X线管球2和照射点Pl的线 段与连结照射点Pl与X线检测器3的线段所成的角度的校正参数。这样，在本实施方式的X线分析装置以及X线分析方法中，是在配置成三种光轴同 轴的状态下对试样进行照射，控制部9根据测定到的试样S的高度T，控制测定头部移动机 构8，调整X线管球2与X线检测器3之间的距离，同时也针对观察系统5进行焦点位置的 调整，因此，无需作业者的手动焦点调整即可进行试样S的照射点Pl的定位。另外，在控制部9根据一次X线Xl的标准照射位置P2与照射点Pl的高度位置之 差进行用于定量分析的计算时，根据标准照射位置P2与照射点Pl的高度位置之差，对上 述计算中使用的参数进行校正，由此，不会受到距离变化量的影响，能够得到准确的分析结 果。即，在任意照射点Pl处的试样S的高度的分析中，均能够得到准确的分析结果。另外，三角测距方式激光位移传感器7接收向试样S照射一次激光Ll而返回的二 次激光L2。检测返回到三角测距方式激光位移传感器7内(图示略)的CCD型感光部(图 示略)的每个元件的二次激光L2的感应状态，由此求出试样S的高度。由此，能够以非接 触的方式准确地测定试样S的高度T。并且，三角测距方式激光位移传感器7能够在将试样S载置于试样载置台1上的 状态下测定试样S的高度T。因此，能够在即将进行分析之前直接测定试样载置台1上的试 样S。由此，与在设置到试样载置台1上之前测定试样S的高度T的情况相比，能够更准确 地得到分析时的试样S与X线管球2及X线检测器3之间的距离。另外，控制部9能够存储照射点Pl处的高度。因此，通过一边向试样S照射一次 激光Ll 一边使试样载置台1移动，能够取得二维的试样S的高度数据，得到二维测定范围 内的试样的高度形状。并且，本发明的技术范围不限于上述实施方式，可在不脱离本发明主旨的范围内 实施各种变更。例如，在上述实施方式中，使用了三角测距方式激光位移传感器作为试样S的高 度测定机构，而作为其它例子，也可以采用直线返回型激光位移传感器。在该情况下，二次激光是在与一次激光相同的轴上返回的，因此能够减小反射镜 面积并且能够简化调整机构。另外，在上述实施方式中，分束器5b以及反射镜5c为可动式的，在分析时可从一次X线Xl的行进路径上退避，由此，能够在不使一次X线的强度衰减的情况下对试样进行 照射，不过，在期望在一次X线照射中实时地观察试样状态的情况下，不限于此。在该情况 下，通过使用尽量不使一次X线发生衰减的厚度的分束器5b以及反射镜5c来使一次X线 透过这些部件，因此，能够在一次X线照射中实时地观察试样状态。并且，作为高度测定机构，如上所述，优选的是能够以非接触方式进行测定的激光 方式，不过，只要对试样没有影响，则也可以采用接触感应型传感器。另外，在上述实施方式中，将试样室内设为减压环境来进行分析，但也可在不是真 空(减压)环境的状态下进行分析。另外，上述实施方式为能量分散型荧光X线分析装置，但也可以将本发明应用于 其它分析方式，例如波长分散型的荧光X线分析装置、以及使用电子线作为所照射的放射 线从而还能得到二次电子像的SEM-EDS (扫描型电子显微镜/能量分散型X线分析)装置。另外，上述实施方式在X线检测器中使用了半导体检测器，但也可以在X线检测器 中使用比例计数管，从而可将本发明应用于荧光X线膜厚计。
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权利要求
1.一种X线分析装置，其特征在于， 该χ线分析装置具有放射线源，其向试样上的照射点照射放射线；X线检测器，其检测从所述试样放出的特性X线以及散射X线，输出包含该特性X线以 及散射X线的能量信息的信号； 对所述信号进行分析的分析器； 载置所述试样的试样载置台；移动机构，其能够使该试样载置台上的所述试样与所述放射线源及所述X线检测器相 对地移动；高度测定机构，其能够测定所述试样上的照射点的高度；以及 控制部，其根据测定到的所述试样上的照射点的高度，控制所述移动机构，调整所述试 样与所述放射线源及所述X线检测器之间的距离。
2.根据权利要求1所述的X线分析装置，其特征在于， 所述高度测定机构具有激光位移传感器。
3.根据权利要求2所述的X线分析装置，其特征在于， 所述激光位移传感器采用了三角测距方式。
4.根据权利要求2所述的X线分析装置，其特征在于，在从所述放射线源放射的所述放射线的光轴与所述激光位移传感器的光轴为同轴的 状态下，将所述放射线和从所述激光位移传感器射出的激光照射到所述试样上。
5.根据权利要求1所述的X线分析装置，其特征在于， 该X线分析装置具有观察所述试样的试样观察系统；以及焦点切换驱动机构，其进行所述试样观察系统的焦点切换，其中，根据所述高度测定机构测定到的所述试样上的照射点的高度，控制所述焦点切 换驱动机构，调整试样观察系统的焦点位置。
6.根据权利要求5所述的X线分析装置，其特征在于，在从所述放射线源放射的所述放射线的光轴、具有所述焦点切换驱动机构的试样观察 系统的光轴以及所述激光位移传感器的光轴为同轴的状态下，将所述放射线和从所述激光 位移传感器射出的激光照射到所述试样上。
7.根据权利要求6所述的X线分析装置，其特征在于， 该X线分析装置具有反射镜，其用于使所述激光位移传感器的光轴同轴地位于所述放射线的光轴上；以及 分束器，其用于使所述放射线的光轴、所述激光位移传感器的光轴以及所述试样观察 系统的光轴成为同轴。
8.根据权利要求1所述的X线分析装置，其特征在于，所述高度测定机构能够在将所述试样载置于所述试样载置台上的状态下测定所述试 样上的照射点的高度。
9.一种X线分析方法，从放射线源向试样上的照射点照射放射线，由X线检测器检测从 所述试样放出的特性X线以及散射X线，输出包含该特性X线以及散射X线的能量信息的信号，由分析器对信号进行分析，该X线分析方法的特征在于，该χ线分析方法具有以下步骤高度测定机构测定所述试样上的照射点的高度的步骤；以及移动机构使试样载置台上的所述试样与所述放射线源及所述X线检测器相对地移动， 来对所述照射点进行定位的步骤，其中，在对所述照射点进行定位的步骤中，控制部根据测定到的所述试样上的照射点 的高度，控制所述移动机构，调整所述试样与所述放射线源及所述X线检测器之间的距离。
10.根据权利要求9所述的X线分析方法，其特征在于，该χ线分析方法具有由焦点切换驱动机构使试样观察系统对焦至所述照射点的步骤，在对焦至所述照射点的步骤中，控制部根据测定到的所述试样上的照射点的高度，控 制所述焦点切换驱动机构，进行所述试样与试样观察系统之间的对焦。
11.一种X线分析方法，从放射线源向试样上的照射点照射放射线，由X线检测器检测 从所述试样放出的特性X线以及散射X线，输出包含该特性X线以及散射X线的能量信息 的信号，由分析器对信号进行分析，该X线分析方法的特征在于，该χ线分析方法具有以下步骤高度测定机构测定所述试样上的照射点的高度的步骤；以及根据所述试样上的照射点的高度照射放射线来进行测定/分析的步骤，其中，在所述进行测定/分析的步骤中，在进行用于根据所述分析器求出的数据作定 量分析的计算时，根据所述放射线的标准照射位置与所述照射点的高度位置之差，对所述 计算中使用的参数进行校正。
全文摘要
本发明提供X线分析装置以及X线分析方法，能够以高作业效率、安全地进行试样测定。作为解决手段，使用了这样的X线分析装置，其特征在于，具有放射线源，其向试样上的照射点照射放射线；X线检测器，其检测从试样放出的特性X线以及散射X线，输出包含特性X线以及散射X线的能量信息的信号；分析器，其对信号进行分析；载置试样的试样载置台；移动机构，其能够使试样载置台上的试样与放射线源及X线检测器相对地移动；高度测定机构，其能够测定试样上的照射点的高度；以及控制部，其根据测定到的试样上的照射点的高度，控制移动机构，调整试样与放射线源及X线检测器之间的距离。
文档编号G01N23/223GK102004113SQ20101026525
公开日2011年4月6日 申请日期2010年8月26日 优先权日2009年8月28日
发明者高原稔幸 申请人:精工电子纳米科技有限公司
专业数控铣床产品供应商
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