专利名称：旋转编码器及其制造方法、旋转电机、旋转电机系统和转盘的制作方法
技术领域：
本发明涉及旋转编码器及其制造方法、旋转电机、旋转电机系统和转盘 (disk) ο背景技术
为了测定旋转的移动体(旋转体)的位置(角度)和速度(旋转速度)等物理 量，可以使用旋转编码器。并且，编码器被大致分为增量型和绝对型。增量型编码器 主要检测移动体相对于原点位置的相对位置。具体而言，在增量型编码器中，预先检测 原点位置，取得与相对于该原点位置的移动量对应的脉冲信号等周期信号，对该周期信 号进行乘法等的处理，由此来检测位置等。另一方面，绝对型编码器也称为绝对值编码 器，检测移动体的绝对位置。
已开发出各种检测原理的编码器，可根据使用用途所需的特性，来适当选择和 使用各种形式的编码器。尤其对于例如进行位置控制和速度控制等控制的伺服电机等而 言，编码器在掌握当前位置等方面起着很重要的作用。换言之，针对电机而选定和使用 的编码器的性能和特性也会左右该电机的性能和特性。
作为可实现高分辨率化的编码器，例如日本特许第3509830号以及日本特开平 6-347293号公报所示，已经开发出了利用由多个狭缝(包括反射型以及透射型)产生的衍 射干涉光的光学式编码器。但是，在这些编码器中，由于要形成衍射干涉光学系统，因 此小型化以及设计、开发、制造等都很困难。发明内容
因此，本发明正是鉴于这样的问题而完成的，本发明的目的在于，能够利用衍 射干涉光来提高分辨率并且使小型化以及设计、开发和制造等变得容易的旋转编码器、 旋转电机、旋转电机系统、转盘以及旋转编码器的制造方法。
为了解决上述课题，根据本发明的一个观点，提供一种旋转编码器，该旋转编 码器具有圆板状的转盘，其配置为能够绕旋转轴线旋转，且具有分别形成有光学的旋 转光栅的环状的1个或2个以上的轨道；以及1个或2个以上的光学的固定光栅，其以与 所述旋转光栅构成衍射干涉光学系统的方式，与所述转盘相对地固定配置，其中，至少 1个所述轨道的旋转光栅中包含的多个狭缝是分别沿着弯曲线而形成的，该弯曲线是以能 够将该狭缝的间距设定为规定值的方式，使以所述旋转轴线为中心的多个放射状线分别 以规定的弯曲程度朝周向弯曲而成的。
另外，可以是所述至少1个轨道的狭缝的弯曲程度被设定为，使得该轨道中 的狭缝的间距与1个以上的其他的所述轨道的狭缝的间距相等。
另外，可以是所述至少1个轨道的旋转光栅与该旋转光栅所对应的至少1个所 述固定光栅之间的间隙等于所述其他的轨道的旋转光栅与该旋转光栅所对应的至少1个 所述固定光栅之间的间隙。
另外，可以是所述至少1个轨道的所述狭缝的弯曲程度与所述其他的轨道的 所述狭缝的弯曲程度不同。
另外，可以是所述至少1个轨道的狭缝的弯曲方向是与该轨道所邻接的其他 的轨道的所述狭缝的弯曲方向相反的周向。
另外，可以是所述轨道的旋转光栅中包含的多个狭缝是反射狭缝，与1个该 旋转光栅对应的2个所述固定光栅被配置在所述转盘的同一面侧。
另外，可以是与沿着所述弯曲线形成有所述狭缝的所述轨道对应的所述固定 光栅形成为与所述弯曲线的切线平行。
另外，为了解决上述课题，根据本发明的另一观点，提供一种旋转电机，该旋 转电机具有使旋转轴旋转的电机部；以及旋转编码器，其与所述旋转轴连接，测定所 述旋转轴的位置，所述旋转编码器具有圆板状的转盘，其配置为能够随着所述旋转轴 的旋转而绕旋转轴线旋转，且具有分别形成有光学的旋转光栅的环状的1个或2个以上的 轨道；以及1个或2个以上的光学的固定光栅，其以与所述旋转光栅构成衍射干涉光学系 统的方式，与所述转盘相对地固定配置，其中，至少1个所述轨道的旋转光栅中包含的 多个狭缝是分别沿着弯曲线而形成的，该弯曲线是以能够将该狭缝的间距设定为规定值 的方式，使以所述旋转轴线为中心的多个放射状线分别以规定的弯曲程度朝周向弯曲而 成的。
另外，为了解决上述课题，根据本发明的另一观点，提供一种旋转电机系统， 该旋转电机系统具有使旋转轴旋转的电机部；旋转编码器，其与所述旋转轴连接，测 定所述旋转轴的位置；以及控制部，其根据所述旋转编码器检测出的位置，控制所述电 机部的旋转，所述旋转编码器具有圆板状的转盘，其配置为能够随着所述旋转轴的旋 转而绕旋转轴线旋转，且具有分别形成有光学的旋转光栅的环状的1个或2个以上的轨 道；以及1个或2个以上的光学的固定光栅，其以与所述旋转光栅构成衍射干涉光学系统 的方式，与所述转盘相对地固定配置，其中，至少1个所述轨道的旋转光栅中包含的多 个狭缝是分别沿着弯曲线而形成的，该弯曲线是以能够将该狭缝的间距设定为规定值的 方式，使以所述旋转轴线为中心的多个放射状线分别以规定的弯曲程度朝周向弯曲而成 的。
另外，为了解决上述课题，根据本发明的另一观点，提供一种转盘，其形成为 圆板状，被配置为与1个或2个以上的光学的固定光栅相对，且能够绕旋转轴线旋转，该 转盘具有分别形成有光学的旋转光栅的环状的1个或2个以上的轨道，在该转盘被应用于 旋转编码器的情况下，所述光学的旋转光栅与所述固定光栅形成衍射干涉光学系统，其 中，至少1个所述轨道的旋转光栅中包含的多个狭缝是分别沿着弯曲线而形成的，该弯 曲线是以能够将该狭缝的间距设定为规定值的方式，使以所述旋转轴线为中心的多个放 射状线分别以规定的弯曲程度朝周向弯曲而成的。
另外，为了解决上述课题，根据本发明的另一观点，提供一种旋转编码器的制 造方法，该旋转编码器具有圆板状的转盘，其配置为能够绕旋转轴线旋转，且具有分别形成有光学的旋转光栅的环状的1个或2个以上的轨道；以及1个或2个以上的光学的 固定光栅，其以与所述旋转光栅构成衍射干涉光学系统的方式，与所述转盘相对地固定 配置，该制造方法包括狭缝数量决定步骤，以能够得到期望的周期信号的方式，决定 所述1个或2个以上的轨道各自的旋转光栅中包含的多个狭缝的数量；放射状线设定步 骤，针对至少1个所述轨道，以所述旋转轴线为中心等角度地设定以所述旋转轴线为中 心、且与所述狭缝数量决定步骤中决定的狭缝数量相等的多个放射状线；弯曲线设定步 骤，针对至少1个轨道，以使所述多个狭缝的间距成为规定值的方式，使所述多个放射 状线分别以规定的弯曲程度向周向弯曲，设定多个弯曲线；以及狭缝形成步骤，沿着所 述多个弯曲线，形成所述至少1个轨道的所述多个狭缝。
另外，可以是；在所述弯曲线设定步骤中，将所述至少1个轨道的狭缝的弯曲 程度设定为，使得该轨道中的狭缝的间距与1个以上的其他的所述轨道的狭缝的间距相寸。
另外，可以是；该制造方法还具有掩模配置步骤，在该掩模配置步骤中，将形 成有所述固定光栅的掩模配置成，使得所述至少1个轨道的旋转光栅与该旋转光栅所对 应的至少1个所述固定光栅之间的间隙等于所述其他的轨道的旋转光栅与该旋转光栅所 对应的至少1个所述固定光栅之间的间隙。
根据以上说明的本发明，通过适当设定沿着弯曲线形成的旋转光栅的弯曲程 度，能够将间距设定为适当的值，因此，能够任意地设定间隙和旋转光栅的形成位置 等。因此，能够利用衍射干涉光来提高分辨率，同时能够提高设计和开发的自由度。其 结果是，能够实现装置自身的小型化，且能够使用容易制造的衍射干涉光学系统。
结合附图参考以下详细的叙述，能够更容易且更完整地理解本发明以及其附带 的诸多优点，其中
图1是用于对本发明的第1实施方式的旋转电机系统的结构进行说明的说明图。
图2是用于对该实施方式的旋转编码器的结构进行说明的说明图。
图3是用于对该实施方式的旋转编码器所具有的转盘进行说明的说明图。
图4是用于对该实施方式的旋转编码器所具有的光学检测机构进行说明的说明 图。
图5是用于对该实施方式的旋转编码器所具有的光学检测机构进行说明的说明 图。
图6是用于对该实施方式的旋转编码器所具有的弯曲狭缝进行说明的说明图。
图7A是用于对该实施方式的旋转编码器所具有的位置数据生成部进行说明的说 明图。
图7B是用于对该实施方式的旋转编码器所具有的位置数据生成部进行说明的说 明图。
图7C是用于对该实施方式的旋转编码器所具有的位置数据生成部进行说明的说 明图。
图7D是用于对该实施方式的旋转编码器所具有的位置数据生成部进行说明的说明图。
图8是用于对该实施方式的旋转编码器的制造方法进行说明的说明图。
图9是用于对该实施方式的实施例的旋转编码器所具有的转盘进行说明的说明 图。
图10是用于对比较例1的旋转编码器所具有的转盘进行说明的说明图。
图11是用于对比较例2的旋转编码器所具有的转盘进行说明的说明图。
图12是用于对比较例3的旋转编码器所具有的转盘进行说明的说明图。
图13是用于对本发明的第2实施方式的旋转编码器所具有的转盘的结构进行说 明的说明图。
图14是用于对本发明的第3实施方式的旋转编码器所具有的转盘的结构进行说 明的说明图。
具体实施方式
下面，参照附图来详细描述本发明的优选实施方式。注意，在本说明书和附图 中，对实质上具有相同的功能和结构的结构要素标注相同的标号，并省略这些结构要素 的重复说明。
另外，在说明本发明的各实施方式之前，对与各实施方式相关联的技术所涉及 的光学式编码器的概要进行说明。作为光学式编码器，已经开发出了利用由多个狭缝 (包括反射型以及透射型)形成的光栅的编码器。该利用了光学光栅的编码器大致被分 为单纯地利用在光栅上进行透射或反射的光的“几何光学型”和利用了由多个光栅形 成的衍射干涉光的“衍射干涉光学型”(例如参照日本特许第3509830号以及日本特开平 6-347293 号公报)。
在几何光学型编码器中，在不进行衍射及干涉的情况下，接收由形成光栅的狭 缝反射或透射过该狭缝的光，根据其受光次数等来确定位置变化等。在该几何光学型编 码器中，具有如下特性在将1个光栅的狭缝间隔(以下也称为“间距p”)设为恒定 时，光栅与其他光栅或受光部等之间的距离(以下也称为“间隙g”)越长，则检测精度 越低。
另一方面，衍射干涉光学型编码器是利用由多个光栅形成的衍射干涉光，根据 该衍射干涉光的受光次数等来确定位置变化等。因此，与几何光学型编码器相比，该衍 射干涉光学型编码器可提高S/N比(Signal toNoise Ratio,信噪比)。除此以外，衍射干 涉光学型编码器还具有如下特性即使将间隙g设定得较长，也很难对检测精度造成影 响。这也意味着能够降低结构部件之间发生机械干扰的可能性，从而提高抗冲击性等的 耐环境性能。这样，与几何光学型编码器相比，衍射干涉光学型编码器的优点较多。
但是，在衍射干涉光学型编码器中，需要构成衍射干涉光学系统，所以多个光 栅(衍射光栅)各自的间距ρ以及各光栅的间隔即间隙g要被设定为恰当的值。该间距 P与间隙g之间的关系成为编码器自身的开发和制造上的制约。即，如果间距P或间隙 g偏离于恰当的值，则衍射干涉光的质量降低，检测的周期信号的S/N比降低。另一方 面，为了将间距ρ或间隙g保持为恰当的值，除了间距ρ以及间隙g以外，还需要考虑周 期信号的周期数(与狭缝个数对应地变化)以及狭缝的形成位置等来设计和开发衍射干涉光学系统。
因此，自由度降低，不易进行设计和开发，另外，需要针对每种衍射干涉光学 系统进行调整，因此制造上也不容易。并且，由于这样的设计和开发上的制约，很难实 现装置自身的小型化。
即使在使用1组衍射干涉光学系统来得到1个周期信号的情况下，也可能产生这 种在设计、开发和制造上的制约。但是，特别是在例如像绝对型编码器那样，使用多组 衍射干涉光学系统来得到多个周期信号的情况下，需要针对各组衍射干涉光学系统进行 设计、开发和制造，因此对它们的制约程度进一步增大。
因此，本发明的发明人等对这样的光学式编码器进行了深入研究，其结果，发 明了能够利用衍射干涉光来提高分辨率、同时使小型化以及设计、开发和制造等变得容 易的各实施方式的旋转编码器等。下面，对本发明的各实施方式进行详细说明。
其中，在下面说明的本发明的各实施方式中，以具有绝对型旋转编码器的旋转 电机系统为例进行说明。即，各实施方式的旋转编码器被应用于旋转电机，检测旋转电 机的旋转角度θ作为位置χ。但是，这里所说明的各实施方式的旋转编码器当然也可应 用于像例如原动机或转向装置(steering)等那样绕固定的旋转轴旋转的各种旋转体。
另外，为了便于理解，本发明的各实施方式是按照以下顺序说明的。
<1.第1实施方式>
(1-1.第1实施方式的旋转电机系统)
(1-2.第1实施方式的旋转编码器)
(1-2-1.转盘 110)
(轨道 TA TC)
(狭缝S的形状)
(磁铁MG)
(1-2-2.检测部 MX，检测部 130A 130C)
(IX检测机构)
(光学检测机构)
(1-2-3.弯曲狭缝的结构)
(一个轨道T内的弯曲狭缝)
(弯曲狭缝与固定光栅侧的狭缝之间的位置关系)
(多个轨道间的关系下的弯曲狭缝)
(1-2-4.位置数据生成部140)
(1-3.第1实施方式的旋转电机系统的动作)
(1-4.第1实施方式的旋转编码器的制造方法)
(1-5.第1实施方式的旋转编码器系统的效果的例子)
(1-6.第1实施方式的旋转编码器的实施例)
<2.第2实施方式>
<3.第3实施方式>
<1.第1实施方式>
(1-1.第1实施方式的旋转电机系统)
首先，参照图1，对本发明第1实施方式的旋转电机系统的结构进行说明。图1 是用于对本发明第1实施方式的旋转电机系统的结构进行说明的说明图。
如图1所示，本实施方式的旋转电机系统(以下也简称为“电机系统”)1具有 旋转电机(以下也简称为“电机” )10和控制部20。另外，电机10具有旋转编码器(以 下也简称为“编码器”)100和旋转电机部(以下也简称为“电机部”)200。
电机部200是不包含编码器100的动力产生源的一例。有时也将该电机部200简 称为电机。电机部200至少在一侧具有旋转轴201，通过使该旋转轴201绕旋转轴线AX 旋转，来输出旋转力。
另外，电机部200只要是根据位置数据受到控制的伺服电机即可，没有特别限 定。并且，电机部200不限于将电用作动力源的电动式电机部，例如也可以是液压式电 机部、气动式电机部、蒸汽式电机部等使用其他动力源的电机部。但为了便于说明，下 面对电机部200为电动式电机部的情况进行说明。
编码器100被配置在电机部200的与旋转轴201相反的一侧，并且连接到与该旋 转轴201对应地旋转的其他旋转轴(图2中的旋转轴20 。并且，该编码器100通过检 测旋转轴202的位置，来检测输出旋转力的的旋转轴201的位置x(也称为旋转角度θ、 电机部200的位置χ等)，输出表示该位置χ的位置数据。
但是，除了电机部200的位置χ或者不检测电机部200的位置X，编码器100还 可以检测旋转轴201的速度ν(也称为旋转速度、角速度、电机部200的速度ν等)以及 加速度a(也称为旋转加速度、角加速度、电机部200的加速度a等)中的至少一个。在 该情况下，可通过用时间对位置χ进行1次或2次微分、或按规定间隔对后述的周期信号 进行计数等的处理，来检测电机部200的速度ν以及加速度a。为了便于说明，以下假设 编码器100所检测的物理量为位置χ来进行说明。
另外，编码器100的配置位置没有特别限定。例如，编码器100可配置为与旋 转轴201直接连接，另外，也可以经由减速机或旋转方向转换机等其他机构与旋转轴201 等旋转体连接。
控制部20取得从编码器100输出的位置数据，根据该位置数据，控制电机部200 的旋转。因此，在将电机部200用作电动式电机部的本实施方式中，控制部20根据位置 数据，控制对电机部200施加的电流或电压等，由此控制电机部200的旋转。并且，控 制部20也可从上位控制装置(未图示)取得上位控制信号，来控制电机部200，使得从电 机部200的旋转轴201输出该上位控制信号中示出的位置或速度等。另外，在电机部200 使用液压式、气动式、蒸汽式等其他动力源的情况下，控制部20可通过控制这些动力源 的供给来控制电机部200的旋转。
(1-2.第1实施方式的旋转编码器)
接着，参照图2以及图3，对本实施方式的编码器100的结构进行说明。图2是 用于对本实施方式的旋转编码器的结构进行说明的说明图。图3是用于对本实施方式的 旋转编码器所具有的转盘进行说明的说明图。
如图2所示，本实施方式的编码器100具有旋转轴101、转盘110、检测部MX、 检测部130A 130C以及位置数据生成部140。
(1-2-1.转盘 110)
如图3所示，转盘110形成为圆板状，且被配置为转盘中心O与旋转轴线AX大 致一致。并且，转盘110经由可绕该旋转轴线AX旋转的旋转轴101而连接到与电机部 200的旋转轴201对应的旋转轴202。因此，转盘110被配置为能够与电机部200的旋转 对应地绕旋转轴AX旋转。
如图3所示，转盘110具有轨道TA TC和磁铁MG。
在本实施方式中，由于是以绝对型的编码器100为例进行说明，因此，为了高 精度地检测电机部100在旋转中的绝对位置X，转盘110具有3个轨道TA TC。这里， 该轨道T的个数不限于3个，可根据绝对位置χ所要求的检测精度和信号处理来适当地设 定个数。另外，在本发明的各实施方式被应用于增量型的编码器100的情况下，如果具 有后述的弯曲狭缝，则轨道T的个数只要至少为1个以上即可。
(轨道 TA TC)
轨道TA TC分别按规定宽度wA 被设定为以转盘110的转盘中心O为中 心的环状。在本实施方式中，各轨道TA TC的宽度wA we被设定为同一宽度w (w=Wa = Wb = Wc)。
并且，各轨道TA TC被配置成，宽度w的中心在径向上的位置(轨道半径 rA rc)彼此不同。即，轨道TA TC形成为以转盘中心O为中心的同心圆状，且从转 盘中心O朝向外周按轨道ΤΑ、TB、TC的顺序进行配置(rA < rB < rc)。
另外，在本实施方式中，例示了各轨道TA TC的宽度wA wc相同的情况， 但该轨道宽度Wa Wc也可以不同。
如图3所示，在各轨道TA TC中分别形成有光学的旋转光栅LA LC(旋转 的光学衍射光栅)。
旋转光栅LA LC分别具有光学的多个狭缝SLA SLC，每个旋转光栅LA LC分别构成独立的单个衍射干涉光学系统的一部分。
狭缝SLA SLC分别以反光(反射狭缝)或透光(透射狭缝)的方式形成。
在形成为反射狭缝的情况下，狭缝SL例如可通过进行反射率高的材料的蒸镀等 的方法来形成。另一方面，转盘Iio上的狭缝SLA SLC以外的部位例如可通过以下等 的方法来形成利用蒸镀等方法配置吸光的材料，或转盘110自身使用透光的材质。另 外，还可以是转盘110自身使用反光的材质，并通过蚀刻等对狭缝SLA SLC以外的 部位进行加工。并且，还可以是狭缝SLA SLC和SLA SLC以外的部位均用反射 率高的材料形成，然后，针对狭缝SLA SLC与SLA SLC以外的部位设置间隙方向 上的台阶，由此形成狭缝，作为相位衍射光栅。
另一方面，在形成为透射狭缝的情况下，可以采用如下等的方法来形成，即 转盘110自身用透光的材质形成，在狭缝SLA SLC以外的部位，配置通过吸收或反射 等来遮光的物质，或者实施遮光的加工。不过，狭缝SLA SLC的形成方法没有特别限定。
总之，在为反射型狭缝的情况下，狭缝SLA SLC使光发生反射，狭缝SLA SLC以外的部位不使光发生反射，而在为透射型狭缝的情况下，狭缝SLA SLC可使光 透过，狭缝SLA SLC以外的部位将光遮蔽。
以下，在本实施方式中，为了便于说明，对转盘110的各轨道TA TC的狭缝SLA SLC为反射狭缝的情况进行说明。这样，在转盘110上使用反射狭缝的情况下， 可形成反射型的衍射干涉光学系统，因此与在转盘110上使用透射狭缝的情况相比，能 够降低因转盘110与后述的掩模120之间的间隙g的变动引起的噪声和对检测精度的影 响。
优选的是，各轨道TA TC形成为，轨道半径rA i·。越大，狭缝SLA SLC 的个数nA nc越多。S卩，由于轨道半径为“rA<i"B<rc”，因此，轨道TA TC各自 的狭缝个数被设定为“nA<nB<nc”。可从各轨道TA TC得到分别与狭缝个数nA η。对应的重复次数的3个周期信号。将转盘110每转一周(360° )的、该3个周期信号 的重复次数分别称为周期数mA me。即，周期数mA me分别是与各狭缝个数nA η。对应的数。因此，优选的是，各轨道TA TC的狭缝个数nA ne被设定为与所需的 分辨率对应的数，以便能够检测所要求的精度的绝对位置X。
在本实施方式中，各轨道TA TC各自的狭缝SLA SLC的间隔即间距PlA 在轨道TA TC中被设定为大致相同的间距]DL(pL = pLA = pLB = pLC)。但是，也可以包含不同间距的轨道，只要有2个以上的轨道TA TC的间距pu P^大致相同即可。 通过这样地将多个轨道TA TC的各间距pu Pm设定为大致相等，能够同样地形成该 多个轨道TA TC各自的衍射干涉光学系统，从而能够简化设计、开发和制造(也称为 制造等)。特别像本实施方式这样，通过将所有轨道TA TC的间距 pm设为大 致相同，能够大幅度地简化制造等。这里，在本实施方式中，所谓“间距Pla Pm”， 是指在各个狭缝SLA SLC中相邻的狭缝的配置间隔。B卩，间距Pla Plc是指各狭缝 的中心之间的距离。
(狭缝S的形状)
这里，对各轨道TA TC各自中的狭缝SLA SLC的形状进行说明。
在配置于最外周的轨道TC中，狭缝SLC被形成在以转盘中心O (旋转轴线AX) 为中心按等角度间隔设定的放射状线(图6的放射状线LINE1)上。将这种形状的狭缝称 为“放射狭缝”。
另一方面，在本实施方式的编码器100中，如上所述，为了能够将多个轨道 TA TC的间距pu Pw统一成间距巩、且为了大幅地使小型化和制造等变得更加容 易，轨道TA、TB的狭缝SLA、SLB形成为与放射狭缝不同的“弯曲狭缝”。并且，轨 道TC的狭缝SLC也可以形成为弯曲狭缝。即，多个轨道TA TC中的至少任意一个以 上可以形成为弯曲狭缝。这样，在包含有弯曲狭缝的情况下，能够实现上述的间距Pu Pm的调整、小型化以及制造等的简化。后面会对该弯曲狭缝进行详细叙述。
另外，本实施方式中的放射狭缝以及弯曲狭缝的间距Pla pm是指在轨道T 的宽度wA Wc的中心处的狭缝间隔(间距)。
(磁铁MG)
磁铁MG构成用于检测在1周旋转内的大致的绝对位置χ的1周旋转检测机构的 一例的一部分。磁铁MG被配置为两个磁极(N极以及S极)在与转盘面平行的方向 上隔着转盘中心0(旋转轴线AX)处于对称的位置。在使用与本实施方式不同的1周旋 转检测机构的情况下，该磁铁MG也可以变更为与该机构对应的结构(例如第3实施方式等)。
该1周旋转检测机构也称为“IX检测机构”等。
另一方面，在本实施方式中，如上所述，轨道TA TC的狭缝个数nA ne被 设定为nA < nB < nc。并且，从各轨道TA TC得到的周期信号的周期数mA mB表 示各轨道TA TC的位置检测精度，分别与狭缝个数nA ne对应。
换言之，如上所述，IX检测机构检测在1周旋转内的大致的绝对位置X。
另一方面，轨道TA的检测机构能够以比IX检测机构高的精度来检测比1周旋 转小的范围内的绝对位置χ。这里，该轨道TA的检测机构也称为“中间L(10W 低)检 测机构”。
并且，轨道TB的检测机构能够以比中间L检测机构更高的精度来检测比中间 L检测机构更小的范围内的绝对位置χ。这里，该轨道TB的检测机构也称为“中间 H(high高)检测机构”。
并且，轨道TC的检测机构能够以比中间H检测机构更高的精度来检测比中间H 检测机构更小的范围内的绝对位置X。这里，该轨道TC的检测机构也称为“增量检测机 构”。
S卩，本实施方式的绝对型的编码器100通过对IX、中间L、中间H、增量这各 个检测机构的检测位置χ进行处理，来检测与增量检测机构的检测精度大致相同的绝对位置Xo
另外，中间L检测机构、中间H检测机构以及增量检测机构分别在狭缝个数 & 1^和狭缝形状等方面存在差异，但在以下方面是相同的，即每个机构分别具有 1个独立的衍射干涉光学系统，从而作为检测原理，均使用了光学式的衍射干涉光学系 统。因此，以下，也将中间L检测机构、中间H检测机构以及增量检测机构统称为“光 学检测机构”。
(1-2-2.检测部 MX,检测部 130A 130C)
接着，参照图2 图5，对检测部MX以及检测部130A 130C进行说明，并对 这些检测机构进行更具体的说明。图4以及图5是用于对本实施方式的旋转编码器所具 有的光学检测机构进行说明的说明图。
(IX检测机构)
检测部MX被配置为与磁铁MG相对，与磁铁MG共同构成IX检测机构。如 图2所示，检测部MX与磁铁MG之间的间隙g被设定为和其他检测部130A 130C与转 盘110之间的间隙g相同。其结果，能够同时调整检测器MX、130A 130C的间隙g， 使制造等变得容易。不过，也可以将该检测部MX的间隙g设为与检测器130A 130C 的间隙g不同的值。
并且，检测部MX检测与转盘110的旋转对应的磁铁MG的磁场方向的旋转。检 测部MX只要是能够这样地检测磁场方向的结构即可，而没有特别限定。这里，作为检 测部MX的一例，例如可使用MR(磁阻效应Magnetro Resistive effect)元件、GMR(巨 磁阻效应GiantMagnetroResistive effect)元件等的磁角度传感器。并且，作为检测部MX,例如还可以使用霍尔元件等磁场检测元件，检测与旋转轴线AX垂直的2轴方向的 磁场强度，根据来自磁场检测元件的检测信号，算出磁铁MG的磁场方向，由此来检测 转盘110的旋转。
检测部MX的检测信号是在转盘110的旋转角度θ (位置χ)旋转360°的期间 中以电气角旋转360°的正弦波状的电信号。并且，该检测信号表示转盘110的每1 周旋转的大致的绝对位置X。这里，将检测部MX检测的电信号称为“IX信号”。该 IX信号被输出到位置数据生成部140。
(光学检测机构)
检测部130Α被配置为与轨道TA相对，与轨道TA共同构成中间L检测机构。 检测部130Β被配置为与轨道TB相对，与轨道TB共同构成中间H检测机构。检测部 130C被配置为与轨道TC相对，与轨道TC共同构成增量检测机构。
如上所述，检测部130Α 130C的各光学检测机构在分别具有独立的衍射干涉 光学系统的方面等是相同的。因此，这里，参照图4，以一个光学检测机构为例进行说 明，并针对各个光学检测机构的不同之处，个别地进行补充叙述。
伴随于此，在以一个光学检测机构为例进行说明的情况下，以下，如图4所 示，将与该光学检测机构对应的检测部(检测部130Α 130C)、轨道(轨道TA TC) 以及旋转光栅(旋转光栅LA LC)简称为“检测部130”、“轨道Τ”以及“旋转光 栅L”，将该旋转光栅L中包含的狭缝(狭缝SLA SLC)简称为“狭缝SL”。并且， 将该狭缝SL的间距(间距Pla ρ;简称为“间距巩”，将狭缝个数(狭缝个数ηΑ ne)简称为“狭缝个数η”，将从该光学检测机构得到的周期信号的周期数(周期数mA mc)简称为“周期数m”。
如图4所示，检测部130具有掩模120、发光部131和受光部132。
掩模120以隔开间隙g与转盘110相对的方式被固定地配置。另外，掩模120 由遮光的材料形成，另一方面，具有2个光学的固定光栅Gl、G2(固定的衍射光栅)， 这2个固定光栅Gl、G2分别具有透光的多个狭缝SGI、SG2。S卩，在掩模120中，固 定光栅Gl、G2的狭缝SGI、SG2可使光透过，该固定光栅Gl、G2与旋转光栅L共同 构成三光栅的衍射干涉光学系统。
在本实施方式中，固定光栅Gl与固定光栅G2形成在同一掩模120上。这里， 固定光栅Gl与固定光栅G2也可以形成在分体的掩模120上。在固定光栅Gl与固定光 栅G2形成在分体的掩模120上的情况下，优选配置成在转盘110的同一面侧，固定光 栅Gl与旋转光栅L之间的距离(间隙g)和旋转光栅L与固定光栅G2之间的距离(间隙 g)相等。当使用了这种与旋转光栅L之间的距离相等的2个固定光栅Gl、G2且使用反 射型狭缝作为旋转光栅L的狭缝SL时，即使转盘110与检测部130之间的位置关系发生 变动，两个固定光栅Gl、G2各自的间隙g也始终是恒定的。因此，能够降低间隙g的 变动对衍射干涉光学系统带来的影响。
这里，对各光学检测机构的检测部130A 130C各自的间隙g的关系进行说明。
在本实施方式中，各轨道TA TC的狭缝SLA SLC的间距Pla P^被设 定为彼此大致相等，即被设定为间距巩，因此，可将检测部130A 130C与轨道TA TC(即转盘110)之间的间隙g设定为彼此大致相等。S卩，在本实施方式中，可如图2所 示那样，将旋转光栅LA和与其对应的固定光栅Gl、G2之间的间隙g、旋转光栅LB和与 其对应的固定光栅Gl、G2之间的间隙g、以及旋转光栅LC和与其对应的固定光栅Gl、 G2之间的间隙g均设定为大致相等。
在这样地进行设定的情况下，可分别针对检测部130A 130C相同地设计开发 与间隙g对应的衍射干涉光学系统，且能够针对各检测部130A 130C同时进行制造时 的间隙g的调整。因此，能够使制造等变得容易。并且，由于这样地将检测部130A 130C的间隙g设定为相等，因此，通过将图4所示的检测部130A 130C各自的掩模120 形成为一体、或将检测部130A 130C构成为一体，能够使制造等更加容易。
另外，即使仅使任意2个旋转光栅LA LC(1个轨道以及其他轨道的一例)与 和其对应的固定光栅Gl、G2之间的间隙g—致，显然也能取得这样的作用效果。不过， 优选的是，间隙g—致的光学检测机构是轨道T的间距R被设定为相等的光学检测机构。
接着，对发光部131以及受光部132进行说明，并且分别对固定光栅Gl、G2进 行说明。
发光部131具有光源，向掩模120的固定光栅Gl照射光。发光部131照射的 光的波长和强度没有特别限定，可根据衍射干涉光学系统的特性和所需的位置分辨率等 来适当决定。另外，在本实施方式中，该照射光使用漫射光。通过使用漫射光，可将后 述的固定光栅Gl的各狭缝SGl大致视为线光源，可提高衍射干涉效果。并且，在可这 样地大致将狭缝SGl视为线光源时，还可使用平行光、激光、会聚光等作为照射光。显 然，发光部131可根据平行光/激光/会聚光/散射光等所要使用的光的特性等，而具有 漫射透镜等规定的光学元件。
固定光栅Gl形成在发光部131照射的光所入射的位置。该固定光栅Gl具有 透射型的多个狭缝SG1，并通过该多个狭缝SGl使入射的光发生衍射。其结果，各狭缝 SGl能够将分别照射到转盘110的光转换成将各狭缝SGl作为大致的线光源的光。
固定光栅Gl的多个狭缝SGl之间的间距pei形成为该间距pei与旋转光栅L 的多个狭缝SL之间的间距JDl成“Pei = iX]DL(i= 1，2，3...)”的关系。其中，特别是 在“i=l，2”的情况下，所得到的周期信号的强度增强的情况居多，更进一步地讲， 在“i = 2”的情况下，周期信号的强度比“i=l”更强的情况居多。另一方面，周期 信号的周期数m不仅根据狭缝个数η而变化，还根据该i而变化。具体而言，至少在“i =1，2”的情况下，周期数m为“m=2Xn/i”。以下，为了便于说明，对“i = 2” 即“ρσι = 2]^”且“m = n”的情况进行说明。
另外，透过固定光栅Gl的光会因入射到固定光栅Gl时的入射角而在固定光栅 Gl的宽度方向上扩展。因此，考虑到该扩展角，为了提高信号强度，优选将旋转光栅L 的狭缝SL的宽度设定为比固定光栅Gl的狭缝SGl的宽度大。此时，通过将旋转光栅L 的狭缝SL的宽度设定为比透过固定光栅Gl的光到达时所预测的宽度大或者�。芄唤� 一步提高信号相对于固定光栅Gl与旋转光栅L之间的安装误差的稳定性。
与此相同，在旋转光栅L上反射的光会因入射到旋转光栅L时的入射角而在旋转 光栅L的宽度方向上扩展。因此，考虑到该扩散角，为了提高信号强度，也是优选将后 述的固定光栅G2的狭缝SG2的宽度设定为大于旋转光栅L的狭缝SL的宽度。此时，同 样，通过将固定光栅G2的狭缝SL的宽度设定为比被旋转光栅L反射的光到达时所预测 的宽度大或者�。芄唤徊教岣咝藕畔喽杂诠潭ü庹2与旋转光栅L之间的安装误差 的稳定性。
不过，显然，在能够确保足够的信号强度、并且还能够充分确保信号相对于安装误差的稳定性的情况下，固定光栅G1、固定光栅G2以及旋转光栅L各自的狭缝宽度 的关系没有特别限定。
为了提高与其他旋转光栅L以及固定光栅G2共同形成的衍射干涉光学系统的衍 射干涉效果来降低噪声，优选将固定光栅Gl所具有的多个狭缝SGl形成为与处于相对的 位置处的狭缝SL大致平行。
S卩，如图3所示，由于旋转光栅LA、LB的狭缝SLA、SLB为弯曲狭缝，因此， 优选的是，检测部130A、130B的固定光栅Gl的多个狭缝SGI、SG2以与相对的弯曲狭 缝平行的方式形成为弯曲狭缝。另一方面，由于旋转光栅LC的狭缝S为放射狭缝，因 此，优选的是，检测部130C的固定光栅Gl的多个狭缝SGI、SG2以与相对的放射狭缝 平行的方式形成为放射狭缝。
但是，关于放射狭缝，如“美国专利第5559600号说明书”所述，放射狭缝的 间距巩远小于轨道T的全周长度，因此在光学上可将放射狭缝视为平行狭缝。因此， 可将与放射狭缝对应的检测部130C的固定光栅Gl的多个狭缝SGl设为彼此平行的“平 行狭缝”。另一方面，与此相同，如图5所示，也可将与弯曲狭缝对应的检测部130A、 130B的固定光栅Gl的多个狭缝SGl设为平行狭缝。在该情况下，优选的是，将与放射 狭缝对应的固定光栅Gl的平行狭缝配置为，与将放射狭缝视为平行狭缝时的该平行狭缝 平行。并且，优选的是，如图5所示地将与弯曲狭缝对应的固定光栅Gl的平行狭缝配置 为，与各弯曲狭缝的至少1点处的切线LINE3大致平行。通过这样地将与放射狭缝及弯 曲狭缝对应的两种固定光栅Gl设为平行狭缝，能够针对两种固定光栅Gl使用同一个固 定光栅G1，不仅能够使制造等更加容易，还能降低制造成本。
如图4所示，被固定光栅Gl衍射的光照射到与固定光栅Gl对应的旋转光栅L。 于是，照射到旋转光栅L的光被旋转光栅L的狭缝SL所反射。此时，反射的光被旋转 光栅L进一步衍射。然后，被该旋转光栅L衍射的光照射到固定光栅G2。
固定光栅G2形成在被旋转光栅L衍射的光所入射的位置。该固定光栅G2的狭 缝SG2的间距pe2被设定为与固定光栅Gl的狭缝SGl的间距pei相同。即，在本实施方 式中，“pei = pG2 = 2XPl"成立。并且，该狭缝SG2的形状及其与固定光栅Gl的狭 缝SGl之间的位置关系等也与上述固定光栅Gl的狭缝SGl相同。因此，省略它们的详 细说明。
另外，与固定光栅Gl不同，该固定光栅G2被划分为2个以上的区域(例如图 5所示的区域G2A、G2B)。并且，各区域中的狭缝SG2在各自的区域内是以间距pe2均 勻地形成的，但在区域之间，是以间隔分别错开“pe2/4”的方式形成的。另外，为了便 于说明，以下，对如图5所示地将固定光栅G2分割为2个区域G2A、G2B的情况进行说明。
另一方面，如图4所示，被旋转光栅L衍射的光照射到固定光栅G2。照射到该 固定光栅G2的光与分别被旋转光栅L的多个狭缝SL衍射的光发生干涉而成为干涉条纹 状。干涉条纹的亮部的位置随着由转盘110的旋转引起的固定光栅Gl与旋转光栅L之间 的位置关系的变化而移动。其结果是，穿过彼此错开“pe2/4”的各区域G2A、G2B各 自的狭缝SG2的光的强度错开90°而呈正弦波状地增减。
受光部132被配置为接收透过固定光栅G2的狭缝SG2的光。并且，受光部132具有例如发光二极管那样的受光元件，将接收到的光的强度转换为电信号。不过，此 时，受光部132例如具有2个受光面，以能够针对各区域G2A、G2B分别生成电信号。
并且，受光部132生成的电信号是规定周期的大致正弦波状的电信号(也称为 “周期信号”)，其每当转盘110移动与间距ρ等对应的量时而重复。另一方面，与穿过区域G2A、G2B各自的狭缝SG2的光的强度相同，与该各个区域G2A、G2B分别对应的 周期信号是相位错开90°的2个周期信号。
分别将这2个周期信号称为“A相周期信号”和“B相周期信号”。并且，这 里，将由中间L检测机构、中间H检测机构和增量检测机构分别得到的2个周期信号统 称为“中间L信号”、“中间H信号”和“增量信号”。
这样，在光学检测机构中构成了三光栅衍射干涉光学系统。因此，只要与间隙 g的大小无关地利用与间距]Dl、pG1 > pe2等之间的关系产生干涉，即可检测期望的周期信 号。
另一方面，在几何光学型编码器中，仅仅是接收透过狭缝&的光，因此，间隙 g越大，则衍射成分和漫射成分的光的影响将越导致噪声增加，因此需要减小间隙g。与 此相对，在本实施方式所述的衍射干涉光学系统中，能够增大固定部件与旋转部件之间 的间隙g，其结果是，能够提高设计开发的自由度，并且，能够降低因冲击等导致固定部 件与旋转部件发生干扰的不良情况。
另外，在本实施方式中，如上所述，以三光栅(旋转光栅L以及固定光栅G1、 G2)的衍射干涉光学系统为例进行了说明，但本发明不限于此。例如，作为固定光栅G2 的替代，可使用在该固定光栅G2的狭缝SG2各自的位置处具有受光面的带状受光元件， 由此，能够模拟地形成三光栅的衍射干涉光学系统。更进一步地讲，作为固定光栅Gl的 替代，也可使用在该固定光栅Gl的狭缝SGl各自的位置处进行发光的带状或线状的发光 元件等，由此，也能够模拟地形成三光栅的衍射干涉光学系统。另外，显然，光栅的数 量没有特别限定，只要能够构成相同的衍射干涉光学系统即可。
(1-2-3.弯曲狭缝的结构)
以上对本发明的第1实施方式的旋转编码器100的结构进行了说明。接着，参 照图5以及图6，对上述旋转光栅LA、LB使用的弯曲狭缝进行详细说明。图6是用于 对本实施方式的旋转编码器所具有的弯曲狭缝进行说明的说明图。
(一个轨道T内的弯曲狭缝)
首先，参照图6，以任意一方的弯曲狭缝即轨道TA的旋转光栅LA的狭缝SLA、 或轨道TB的旋转光栅LB的狭缝SLB为例进行说明。然后，单独说明狭缝SLA与狭缝 SLB的不同之处。
本实施方式的旋转光栅L的狭缝SL被配置在环状的轨道T上，而如上面所述且 如图6中示出的那样，至少1个以上的旋转光栅L的狭缝SL被形成为与放射狭缝不同的弯曲狭缝。
如图6所示，形成为弯曲狭缝的狭缝SL(这里，简称为“狭缝SL”)是沿着弯 曲线LINE2而形成的，该弯曲线LINE2是以规定的弯曲程度C使以转盘中心0(旋转轴 线AX)为中心的放射状线LINEl沿周向弯曲而成的。
关于这样的沿着弯曲线LINE2的狭缝SL，可想到各种形成例，下面，针对该狭缝SL的一个形成例进行说明。
关于与各狭缝SL对应的放射状线LINEl，以如下角度的间隔，设定与狭缝个数 η对应的数量的该放射状线LINEl，所述角度是用要配置在其轨道T中的狭缝个数η对旋 转1周的2 π (360° )进行等角度分割而得到的。然后，使各放射状线LINEl在同一周 方向上以同一弯曲程度C弯曲，由此来设定各狭缝SL的弯曲线LINE2。接着，沿着这 样设定的各弯曲线LINE2，以规定宽度形成各狭缝SL。
使用式子，对狭缝SL的一个形成例进行更具体的说明。
设转盘中心O为原点、与原点的距离为1、相对于通过原点的基准线的角度为 θ、轨道T的内径及外径为h、r(3UT。并且，将轨道T的旋转光栅L包含的狭缝个数设 为η,用j(j = 0，1，2…，n-1)来识别各个狭缝。于是，放射状线LINEl以极坐标的形 式用下式来表示。
权利要求
1.一种旋转编码器，该旋转编码器具有圆板状的转盘，其配置为能够绕旋转轴线旋转，且具有分别形成有光学旋转光栅的 环状的1个或2个以上的轨道；以及1个或2个以上的光学的固定光栅，其以与所述旋转光栅构成衍射干涉光学系统的方 式，与所述转盘相对地固定配置，其中，至少1个所述轨道的旋转光栅中包含的多个狭缝是分别沿着弯曲线而形成 的，该弯曲线是以能够将该狭缝的间距设定为规定值的方式，使以所述旋转轴线为中心 的多个放射状线分别以规定的弯曲程度朝周向弯曲而成的。
2.根据权利要求1所述的旋转编码器，其中，所述至少1个轨道的狭缝的弯曲程度被设定为，使得该轨道中的狭缝的间距与1个以 上的其他的所述轨道的狭缝的间距相等。
3.根据权利要求2所述的旋转编码器，其中，所述至少1个轨道的旋转光栅与该旋转光栅所对应的至少1个所述固定光栅之间的间 隙等于所述其他的轨道的旋转光栅与该旋转光栅所对应的至少1个所述固定光栅之间的 间隙。
4.根据权利要求2所述的旋转编码器，其中，所述至少1个轨道的所述狭缝的弯曲程度与所述其他的轨道的所述狭缝的弯曲程度 不同。
5.根据权利要求1所述的旋转编码器，其中，所述至少1个轨道的狭缝的弯曲方向是与该轨道所邻接的其他轨道的所述狭缝的弯 曲方向相反的周向。
6.根据权利要求1所述的旋转编码器，其中，所述轨道的旋转光栅中包含的多个狭缝是反射狭缝， 与1个该旋转光栅对应的2个所述固定光栅被配置在所述转盘的同一面侧。
7.根据权利要求1所述的旋转编码器，其中，与沿着所述弯曲线形成有所述狭缝的所述轨道对应的所述固定光栅形成为与所述弯 曲线的切线平行。
8.—种旋转电机，该旋转电机具有 使旋转轴旋转的电机部；以及旋转编码器，其与所述旋转轴连接，测定所述旋转轴的位置， 所述旋转编码器具有圆板状的转盘，其配置为能够随着所述旋转轴的旋转而绕旋转轴线旋转，且具有分 别形成有光学旋转光栅的环状的1个或2个以上的轨道；以及1个或2个以上的光学的固定光栅，其以与所述旋转光栅构成衍射干涉光学系统的方 式，与所述转盘相对地固定配置，其中，至少1个所述轨道的旋转光栅中包含的多个狭缝是分别沿着弯曲线而形成 的，该弯曲线是以能够将该狭缝的间距设定为规定值的方式，使以所述旋转轴线为中心 的多个放射状线分别以规定的弯曲程度朝周向弯曲而成的。
9.一种旋转电机系统，该旋转电机系统具有使旋转轴旋转的电机部；旋转编码器，其与所述旋转轴连接，测定所述旋转轴的位置；以及控制部，其根据所述旋转编码器检测出的位置，控制所述电机部的旋转，所述旋转编码器具有圆板状的转盘，其配置为能够随着所述旋转轴的旋转而绕旋转轴线旋转，且具有分 别形成有光学旋转光栅的环状的1个或2个以上的轨道；以及1个或2个以上的光学的固定光栅，其以与所述旋转光栅构成衍射干涉光学系统的方 式，与所述转盘相对地固定配置，其中，至少1个所述轨道的旋转光栅中包含的多个狭缝是分别沿着弯曲线而形成 的，该弯曲线是以能够将该狭缝的间距设定为规定值的方式，使以所述旋转轴线为中心 的多个放射状线分别以规定的弯曲程度朝周向弯曲而成的。
10.—种转盘，其形成为圆板状，被配置为与1个或2个以上的光学的固定光栅相 对，且能够绕旋转轴线旋转，该转盘具有分别形成有光学旋转光栅的环状的1个或2个以 上的轨道，在该转盘被应用于旋转编码器的情况下，所述光学旋转光栅与所述固定光栅 形成衍射干涉光学系统，其中，至少1个所述轨道的旋转光栅中包含的多个狭缝是分别沿着弯曲线而形成 的，该弯曲线是以能够将该狭缝的间距设定为规定值的方式，使以所述旋转轴线为中心 的多个放射状线分别以规定的弯曲程度朝周向弯曲而成的。
11.一种旋转编码器的制造方法，该旋转编码器具有圆板状的转盘，其配置为能够 绕旋转轴线旋转，且具有分别形成有光学旋转光栅的环状的1个或2个以上的轨道；以及 1个或2个以上的光学的固定光栅，其以与所述旋转光栅构成衍射干涉光学系统的方式， 与所述转盘相对地固定配置，该制造方法包括狭缝数量决定步骤，以能够得到期望的周期信号的方式，决定所述1个或2个以上的 轨道各自的旋转光栅中包含的多个狭缝的数量；放射状线设定步骤，针对至少1个所述轨道，以所述旋转轴线为中心等角度地设定 以所述旋转轴线为中心、且与所述狭缝数量决定步骤中决定的狭缝数量相等的多个放射 状线；弯曲线设定步骤，针对至少1个轨道，以使所述多个狭缝的间距成为规定值的方 式，使所述多个放射状线分别以规定的弯曲程度向周向弯曲，设定多个弯曲线；以及狭缝形成步骤，沿着所述多个弯曲线，形成所述至少1个轨道的所述多个狭缝。
12.根据权利要求11所述的旋转编码器的制造方法，其中，在所述弯曲线设定步骤中，将所述至少1个轨道的狭缝的弯曲程度设定为，使得该 轨道中的狭缝的间距与1个以上的其他的所述轨道的狭缝的间距相等。
13.根据权利要求12所述的旋转编码器的制造方法，其中，该制造方法还具有掩模配置步骤，在该掩模配置步骤中，将形成有所述固定光栅的 掩模配置成，使得所述至少1个轨道的旋转光栅与该旋转光栅所对应的至少1个所述固定 光栅之间的间隙等于所述其他的轨道的旋转光栅与该旋转光栅所对应的至少1个所述固 定光栅之间的间隙。
全文摘要
本发明提供旋转编码器及其制造方法、旋转电机、旋转电机系统和转盘。旋转编码器具有圆板状的转盘，其配置为能够绕旋转轴线旋转，且具有分别形成有光学的旋转光栅的环状的1个以上的轨道；以及光学的1个以上的固定光栅，其以与旋转光栅构成衍射干涉光学系统的方式，与转盘相对地固定配置，其中，至少1个旋转光栅中包含的多个狭缝是沿着弯曲线而形成的，该弯曲线是以能够将该狭缝的间距设定为规定值的方式，使以旋转轴线为中心的多个放射状线分别以规定的弯曲程度朝周向弯曲而成的。
文档编号G01D5/26GK102023028SQ20101028710
公开日2011年4月20日 申请日期2010年9月16日 优先权日2009年9月18日
发明者吉冨史朗, 吉田康, 山口阳介, 有永雄司, 村冈次郎 申请人:株式会社安川电机
专业数控铣床产品供应商
20年生产经验，实力工厂，精工品质，质量有保障
