专利名称：横向剪切干涉仪的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种横向剪切干涉仪。
背景技术：
自90年代以来，空间调制干涉光谱成像仪得到了飞速发展。由于这种光谱成像仪具有可靠性好、稳定性好、体积小、光谱线性度高、光谱范围宽，适合在飞机和卫星等飞行器上搭载等优点，引起了国际上广泛的重视在空间调制干涉成像光谱仪中，横向剪切干涉仪是一个决定系统光谱分辨率的关键部件之一。在各种形式的横向剪切干涉仪中，Sagnac干涉仪由于具有共光路、对环境的适应能力很强、性能稳定等优点，因而在空间调制干涉成像光谱仪中获得了工程应用。该干涉仪对分光膜的要求很高。分光膜对相干光的能量利用率、干涉条纹的调制度有很大影响。对该干涉仪分光膜的技术要求，国外文献仅有提出分光比为1∶1这一最基本要求的。现有技术中相干光的能量利用率低；分光膜膜层吸收大，因而能量损耗大；膜层偏振度大，这不仅降低了能量利用率，而且降低了干涉条纹的信噪比；未考虑相干光的位相差，易造成相干光经聚焦镜会聚后得到的零光程差能量下降、干涉条纹对比度下降。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种横向剪切干涉仪，其解决了背景技术中能量利用率低，干涉条纹的信噪比低，易造成相干光经聚焦镜会聚后得到的零光程差能量下降、干涉条纹对比度下降的技术问题。
本实用新型的技术解决方案是一种横向剪切干涉仪，包括两个相同的、相胶合的半五棱镜1、2，其特殊之处在于所述两个相胶合的半五棱镜1、2之一的胶合面上镀有分光膜3；在所述两个半五棱镜1、2的透光面上镀有增透膜5，在半五棱镜1、2的反光面上镀有内反膜4。
上述分光膜3的分光比相等。
上述分光膜3的膜层吸收＜10％。
上述分光膜3膜层偏振度＜10％，且RS＝TS，RP＝TP。
上述分光膜3膜层透射光与反射光的位相差随波长的变化量＜20°。
上述分光膜3是由金属膜与介质膜组成的多层分光膜。
本实用新型具有以下优点1.分光膜膜层吸收�。芰克鹗。�2.分光膜偏振度�。芰坷寐矢撸商岣吒缮嫣跷频牡髦贫龋�3.透射光与反射光的位相差随波长的变化量�。岣吡肆慵陡缮嫣跷频墓馇慷龋�4.对环境的适应能力很强、性能稳定。
附图为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
参见附图，本实用新型包括两个相同的、相胶合的半五棱镜1、2，两半五棱镜1、2之一的胶合面上镀有分光膜3；在两个半五棱镜1、2的透光面上镀有增透膜5，在半五棱镜1、2的反光面上镀有内反膜4。首先为了保证相干光有尽可能高的能量利用率，在分光膜3的分光比必须相等，即R∶T＝1∶1。其中，R为反射，T为透射。为了减少能量损失，提高能量利用率，分光膜3的膜层吸收应＜10％。为提高能量利用率和干涉条纹的信噪比，分光膜3膜层的偏振度应＜10％，且RS＝TS，RP＝TP。透射光与反射光的位相差随波长的变化量小。即透射的P光与反射的P光的位相差随波长的变化量＜20°；透射的S光与反射的S光的位相差随波长的变化量＜20°；透射的P光与透射的S光的位相差随波长的变化量＜20°。本实用新型分光膜3可由金属膜与介质膜组成多层分光膜。使用时，入射光在分光膜面的入射角一般取45°；入射光波长范围400～1050nm。
权利要求1.一种横向剪切干涉仪，包括两个相同的、相胶合的半五棱镜(1、2)，其特征在于所述两个相胶合的半五棱镜(1、2)之一的胶合面上镀有分光膜(3)；在两个半五棱镜(1、2)的透光面上镀有增透膜(5)，在半五棱镜(1、2)的反光面上镀有内反膜(4)。
2.如权利要求1所述的横向剪切干涉仪，其特征在于所述分光膜(3)表面的分光比相等。
3.如权利要求1或2所述的横向剪切干涉仪，其特征在于所述分光膜(3)的膜层吸收＜10％。
4.如权利要求3所述的横向剪切干涉仪，其特征在于所述分光膜(3)膜层偏振度＜10％，且RS＝Ts，RP＝TP。
5.如权利要求4所述的横向剪切干涉仪，其特征在于所述分光膜(3)膜层透射光与反射光的位相差随波长的变化量＜20°。
6.如权利要求5所述的横向剪切干涉仪，其特征在于所述分光膜(3)是由金属膜与介质膜组成的多层分光膜。
专利摘要一种横向剪切干涉仪，包括两个相同的、相胶合的半五棱镜，两个相胶合的半五棱镜之一的胶合面上镀有分光膜；在两个半五棱镜的透光面上镀有增透膜，在两个半五棱镜的反光面上镀有内反膜。本实用新型解决了背景技术中能量利用率低，干涉条纹的信噪比低的技术问题。其能量利用率高，提高了干涉条纹的调制度及零级干涉条纹的光强度。
文档编号G01J3/45GK2704831SQ200320109868
公开日2005年6月15日 申请日期2003年12月25日 优先权日2003年12月25日
发明者相里斌, 白加光, 王忠厚, 郑卫, 白清兰 申请人:中国科学院西安光学精密机械研究所
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