专利名称：一种荧光示踪检漏仪的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种检测装置，尤其涉及一种通过荧光示踪剂来检测密闭系统的泄漏的装置，特别是一种荧光示踪检漏仪。
权利要求1，一种荧光示踪检漏仪，包括壳体和光源，其特征在于所述的光源设置在所述的壳体中，在所述的光源的前面设置有滤波片，所述的光源、滤波片与所述的壳体固定，所述的滤波片的可通过的光线波长在340-480nm之间。
2，如权利要求1所述的一种荧光示踪检漏仪，其特征在于在所述的壳体中、所述的光源的后面设置有一个已有技术中的风扇。
3，如权利要求1所述的一种荧光示踪检漏仪，其特征在于在所述的壳体上设置有散热孔。
4，如权利要求1所述的一种荧光示踪检漏仪，其特征在于在所述的壳体上设置有电源插座。
5，如权利要求1所述的一种荧光示踪检漏仪，其特征在于在所述的壳体上设置有弹性复位开关。
专利摘要一种荧光示踪检漏仪，包括壳体、光源和滤波片，其中所述的光源和滤波片设置在所述的壳体中，所述的滤波片设置在所述的光源的前面，所述的光源采用已有技术中的点状或管状光源，所述的滤波片可通过的光线波长在340－480nm之间，在所述的光源的后部还设置有一个已有技术中的风扇，将荧光示踪剂加入到密闭系统中，系统运行后如有泄漏点即有示踪剂泄露，开启本实用新型中的光源照射密封系统，若观察到明亮的荧光，即说明此处有泄漏源。本实用新型因为光源采用已有技术中的点状或管状光源，所以可以避免使用特制的紫外光源，节约了成本，同时采用了滤波片来控制光源发射的波长在340－480nm之间，所以可以很容易地检测到泄漏处的荧光物质。
文档编号G01M3/20GK2541836SQ0221734
公开日2003年3月26日 申请日期2002年5月14日 优先权日2002年5月14日
发明者许正意, 沈卫平, 金红梅 申请人:上海亿邦工贸有限公司
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