专利名称：一种漫反射装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种漫反射装置，可以用于漫反射光的发生和测量。
背景技术：
理想的漫反射装置为积分球。利用积分球可以构建漫反射光源，也可以收集测量物体 表面的漫反射光。
CIE 15:2004中，规定了积分球的开孔的总面积，不超过积分球内壁总面积的10%。 同时，没有对积分球的大小作出规定。并假定，积分球的内壁为球形。
相关的技术细节可以参考国际照明委员会(Commission International d' Eclairage， 简称CIE)的各种颜色测量标准。
积分球可以实现光漫反射比的绝对测量，也可以实现光漫反射比的比较测量(或者称 相对测量)。所有非积分球结构的漫反射装置只能实现光漫反射比的比较测量，需要借助 参比标准和数学方法，将相对漫反射比数值转化为漫反射比的绝对数值。比较测量和校正 方法，都是非常成熟完善的技术，并且己经常规化(参考文献《现代颜色技术原理及应 用》，p317， p321-17，胡威捷等，北京理工大学出版社，北京，2007.)。
在实际应用中，积分球的内部往往会有光线挡板结构，其壁上会使用光阱结构。这些 结构在标准测量条件下无法避免的。并且，为了达到良好的光照和测量效果，积分球的直 径也需要足够大。
以上因素，使得积分球的制造工艺比较复杂。同时，体积也难以做�。苣咽视ξ⑿� 区域的漫反射照明和测量。
有鉴于此，需要一种性能与积分球相同或者相似的漫反射装置。
实用新型内容
本实用新型提供了一种性能与积分球相似，体积更小、可以适应微小区域的漫反射照 明和测量的漫反射装置。本实用新型所涉及的装置，可以实现对漫反射光的比较测量，如 果利用相应的校正方法，可以得到与积分球绝对测量相同或者接近的测量数据。
本实用新型的技术方案概述如下
3一种漫反射装置，其特征在于，包括一个中空的腔体，所述腔体上带有若干通过腔体 的开孔。
所述腔体中的空间为圆柱体或者圆椎体或者多面体。所述腔体的制作材料为聚四氟乙 烯，或者金属，或者陶瓷，或者其它材料；所述腔体的内壁，可以涂有光漫反射材料，也 可以没有光漫反射材料；所述腔体的内壁，如果没有涂有光漫反射材料，则应该经过处理， 具有光漫反射能力；所述腔体有若干个开孔；所述开孔可以是圆形，也可以是其他任何形 状；所述漫反射装置的开孔通过光传导装置连接光源或测量装置；所述光源可以是任何照 明体，或者任何与照明体连接的光传导装置；所述光传导装置，可以是光纤或者是能够传 导光的任何光路。所述光，可以是可见光、紫外线、红外线，可以是其中的一种或多种。
本实用新型的有益效果是在具有与积分球相同或者相似的漫反射性能的同时，可以 达到比积分球小的体积，适应微小区域的漫反射照明和测量，并且具有更低的制造难度。
图l是构建漫反射光照明装置的示意图； 图2是构建漫反射光收集测量装置的示意图； 其中
l.腔体空间2.腔体内壁3.腔体4.圆形开孔5.开孔6.直型光纤7.Y型光纤8.照明 体(光源)9.光谱仪IO.被照物体。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型作进一步详细描述 实施方案l，本方案构建了漫反射光照明装置。 1.1结构描述。
如图1所示。腔体3是由聚四氟乙烯制作而成。腔体空间l是圆柱形，直径4毫米， 高5毫米。腔体内壁2具有漫反射特性。有3个圆形开孔5，开孔5的直径为1.5毫米。 有1条Y型光纤7，其双臂端连接2个开孔5，单臂端连接光源8。直型光纤6， 一端连接 开孔5，另一端连接测量装置光谱仪9。被照物体10置于腔体圆形开孔4的位置，开孔4 的直径是4毫米。
1.2工作描述。
光线由光源8发出，经由Y型光纤7，进入腔体，在腔体内壁2经过多次反射，形成近似漫反射的照明条件，照射在被照物体10上面。被照物体10表面反射的光，经由直型 光纤6，传导至光谱仪9。
实施方案2，构建漫反射光收集测量装置。 2. 1结构描述。
如图1所示。腔体3是由聚四氟乙烯制作而成。腔体空间l是圆柱形，直径4亳米， 高5毫米。腔体内壁2具有漫反射特性。有2个圆形开孔5，开孔5的直径为1.5毫米。 有2条直型光纤6。其中一条，两端分别连接开孔5和光源8。另一条，两端分别连接开 孔5和光谱仪9。被照物体10置于腔体圆形开孔4的位置，开孔4的直径是2毫米。
2.2工作描述。
光线由光源8发出，经由直型光纤6，直接照在被照物体10表面。被照物体10表面 反射的光，经过腔体内壁2反射，形成近似漫反射光，进入另一条直型光纤6，传导至光 谱仪9。测量数据的校正方法，可以在教科书和参考文献中找到，在此不赘述。
以上各个方案中，腔体的空间可以具有其他的易于加工的合理几何尺寸、几何形状， 且保证可以做到比积分球的体积小。腔体的材料也可以自由选择；也可以选择不同于光纤 的其他光路传导方式。
此处叙述的示例方案仅仅是对本实用新型原理的解释。不应以任何方式，利用上面的 叙述限制本实用新型的范围。本领域的专业人士，可以利用本实用新型的原理，设计各种 不同的实施方案，而不超出本实用新型的范围。
权利要求1、一种漫反射装置，其特征在于，包括一个中空的腔体，所述腔体上带有若干贯穿腔体的开孔。
2、 如权利要求1所述的漫反射装置，其特征在于，所述腔体中的空间为圆柱体。
3、 如权利要求1所述的漫反射装置，其特征在于，所述腔体中的空间为圆椎体。
4、 如权利要求1所述的漫反射装置，其特征在于，所述腔体中的空间为多面体。
5、 如权利要求1所述的漫反射装置，其特征在于，所述腔体上开孔的横截面形状为 圆形。
6、 如权利要求1所述的漫反射装置，其特征在于，所述腔体上开孔的横截面形状为 多边形。
7、 如权利要求1所述的漫反射装置，其特征在于，所述腔体的材料为聚四氟乙烯， 或者金属，或者陶瓷。
8、 如权利要求1所述的漫反射装置，其特征在于，所述腔体的内面为可以反射光的 材料或者涂有漫反射光的材料。
9、 如权利要求1所述的漫反射装置，其特征在于，所述开孔通过光传导装置连接光 源或者测量装置。
10、 如权利要求9所述的漫反射装置，其特征在于，所述光传导装置为光纤或者可以 传导光的光路。
专利摘要本实用新型公开了一种漫反射装置，其特征在于，包括一个中空的腔体，所述腔体上带有若干贯穿腔体的开孔；所述腔体中的空间为圆柱体或者圆椎体或者多面体。该装置在具有与积分球相同或者相似的漫反射性能的同时，可以达到比积分球小的体积，适应微小区域的漫反射照明和测量，并且具有更低的制造难度。
文档编号G01J3/02GK201373923SQ200820233698
公开日2009年12月30日 申请日期2008年12月30日 优先权日2008年12月30日
发明者伟 刘 申请人:北京大学
专业数控铣床产品供应商
20年生产经验，实力工厂，精工品质，质量有保障
