专利名称：一种测试单元以及阵列基板的制作方法
技术领域：
本实用新型属于液晶显示器领域，涉及液晶显示器制作过程中对薄膜晶体管进行检测过程中用到的测试单元以及采用该测试单元的阵列基板。
背景技术：
液晶显示器(IXD)是目前主流的显示器。液晶显示器主要由阵列基板、彩膜基板、周边电路及背光组件等部分构成。其中，阵列基板是采用特定规格的玻璃基板(例如:
2.2m*2.5m),在该玻璃基板上经过镀膜、曝光、刻蚀等一系列工艺制成一定数量的薄膜晶体管(TFT)，该TFT是液晶显示器中控制液晶偏转方向的控制开关。液晶显示器的生产工艺，尤其是阵列基板的制造工艺非常复杂，所以在制造过程中，不可避免的会因为工艺误差而发生各种缺陷。为了尽可能的降低缺陷发生率从而提高产品良率，在制造过程中的关键工艺后通常会设置相应的检测工序，以便能及时地发现缺陷并采取相应措施杜绝缺陷大范围扩散或将缺陷带入下一工艺步骤。其中，阵列基板工艺完成后，在继续进行后续工艺之前一般需要进行阵列检测，即对按矩阵规则排列的多个薄膜晶体管的性能进行检测。检测方式之一是通过设置测试单元，为阵列中的TFT加入电信号，从而检测玻璃基板上的所有TFT是否都有效。如图1所示，为了提高生产效率，在一张玻璃基板7上，通常会根据不同尺寸要求形成一定数量的单元阵列基板1，不同单元阵列基板I之间预留有一定间隙区域，在该间隙区域中测试单元对阵列基板进行测试，例如:引入测试信号线对TFT的性能进行检测。如图2所示为现有技术中通过探针为TFT加载测试信号的测试单元的局部放大示意图。所述测试单元包括有接收电信号的衬底6与测试信号线5，所述衬底6与测试信号线5连接，所述测试信号线5与TFT的信号输入端连接，所述测试电信号经由衬底6、测试信号线5加载到TFT相应的管脚上，从而进行TFT性能的测试。目前，为TFT加入测试电信号一般采用点接触的方式，即，通过探针将测试电信号经测试信号线加载到衬底6上。在通常情况下，衬底6的面积仅为l_2mm2，相比整块玻璃基板的大小使得对衬底6的识别并非易事，因此在实际检测过程中采用具有相同测试电信号的两根探针同时接触同一衬底，以确保探针能准确地定位到衬底6上，保证测试电信号能有效输入，图2中还同时示出了所述测试信号线和衬底与探针4的位置关系。在检测过程中，所需的测试信号通过探针4先传输至所述衬底6，继而通过所述测试信号线5将测试电信号输入到数据信号线2及扫描信号线3，实现对TFT性能的测试。一般的，阵列基板在组装成液晶面板之前一般还需通过摩擦工艺形成配向膜，以使组装后的液晶面板中液晶的排列规则有序。但是，为了保证探针4与作为测试信号输入端的衬底6之间点接触的成功率，要求衬底6具有足够大的面积，且面积越大越好。由于衬底6是由金属薄膜制成的，衬底6的面积越大，在后续摩擦工艺中测试单元与摩擦绒毛接触面积越大，引起静电放电几率也就越高，尤其是在阵列基板的配向膜(PI)的摩擦工艺中，一旦发生静电放电现象，大面积的金属薄膜引起的静电会导致摩擦用的绒毛排布发生异常，最终使阵列基板出现严重的摩擦工艺缺陷。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种测试单元，能在保证测试信号有效输入的同时，有效地减小静电放电的产生。解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是该测试单元，该测试单元包括用于与探针相接触的末端�？椋瞿┒四？槲植娼峁�。其中，所述末端�？榘ㄓ胨鎏秸虢哟サ某牡滓约安馐孕藕畔撸霾馐孕藕畔叩囊欢擞胨龀牡琢樱硪欢擞氪馐远韵罅印Ｒ恢钟叛》桨甘牵龀牡孜啥喔鎏踝醋映牡坠钩傻恼ぷ唇峁梗霾馐孕藕畔叩乃鲆欢擞敫枚喔鲎映牡椎囊欢肆�。一种优选方案是，所述衬底为由多个条状子衬底构成的树状结构，所述测试信号线的所述一端与该树状结构的根节点连接。一种优选方案是，所述测试信号线为单条线，该单条线的一端与所述衬底连接，另一端与待测试对象连接。一种优选方案是，所述测试信号线为多条子测试信号线，该多条子测试信号线的一端与所述衬底连接，另一端联结在一起并与待测试对象连接；其中，当所述衬底为由多个条状子衬底构成的栅状结构时，所述多条线的一端与所述多个子衬底一一连接。优选的是，相邻所述子衬底之间的间隔距离设置为:使得任意相邻的两个子衬底均能够同时与所述探针相接触。进一步优选的是，相邻所述子衬底之间的间隔距离相同。一种阵列基板，包括多个薄膜晶体管以及用于对所述多个薄膜晶体管进行测试的测试单元，所述测试单元采用上述的测试单元。本实用新型的有益效果是:采用这种测试单元，既能保证探针与测试单元点接触成功率，又能避免在后续摩擦工艺中该测试单元与摩擦绒毛接触面积过大而产生静电放电，提闻了广品良率。
图1为现有技术中多个单元阵列基板与测试单元的示意图；图2为图1中测试单元的局部放大示意图；图3为本实用新型实施例1的测试单元的示意图；图4为本实用新型实施例2的测试单元的示意图；图5为本实用新型实施例3的测试单元的示意图。图中:1 一单兀阵列基板；2 —数据信号线；3 —扫描信号线；4 一探针；5 —测试信号线；6 —衬底；7 —玻璃基板；8 —子衬底；9_子测试信号线。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型测试单元以及阵列基板作进一步详细描述。[0025]一种测试单元，该测试单元包括与探针相接触的末端�？椋瞿┒四？槲植娼峁�。一种阵列基板，包括多个薄膜晶体管以及用于对所述多个薄膜晶体管进行测试的测试单元，所述测试单元采用上述的测试单元。本实施例中所述的阵列基板是形成有所述测试单元以待测试的阵列基板。实施例1:本实施例中，测试单元中的末端�？槲植娼峁梗瞿┒四？榘ㄓ胨鎏秸虢哟サ某牡缀筒馐孕藕畔撸霾馐孕藕诺囊欢擞胨龀牡琢樱硪欢擞氪馐远韵罅�。如图3所示，所述衬底为由多个条状子衬底8构成的栅状结构，所述测试信号线的所述一端与该多个子衬底8的一端连接。其中，所述测试信号线为一条，各所述子衬底8的栅状结构与测试信号线5成垂直角度连接。即，各所述子衬底8的排列方向与所述测试信号线5的延伸方向垂直。应该理解的是，这里子衬底8的栅状结构与测试信号线5成垂直角度连接不是必须的。事实上，子衬底8的延伸方向与测试信号线5的延伸方向相同是最优的，即图3中所示的夹角a越大越利于信号的传输(当a=180°时即为二者延伸方向相同，最有利于信号传输)。图3所示的使所述子衬底8的栅状结构与测试信号线5成垂直角度连接是从工艺方便考量的。当然，本实施例所述的分叉结构，除了图3所示的衬底为由多个条状子衬底8构成的栅状结构，还可以采用衬底为由多个条状子衬底构成的树状结构，所述测试信号线的所述一端与该树状结构的根节点连接。优选所述子衬底之间的间隔距离设置为:使得任意相邻的两个子衬底均能够同时与所述探针4相接触，一种方法可以是使相邻子衬底8之间的间隔距离小于等于探针的探测面的最大尺寸。这样，即使当探针4误探入相邻子衬底之间的间隙时，也不会因接触不到子衬底8而导致信号无法输入，能有效保证探针接入信号的可靠性。当然，所述子衬底之间的间隔距离可同时参考阵列基板的工艺精度来做适当调整。为简化工艺，相邻的所述子衬底8之间的间隔距离相同。所述子衬底可以采用现有技术中制作衬底的金属薄膜制成。一种阵列基板，包括按矩阵规则排列的多个薄膜晶体管以及用于对所述多个薄膜晶体管进行电性能测试的测试单元，所述测试单元采用上述的测试单元。其中，在一张玻璃基板7上设置有多个单元阵列基板1，多个单元阵列基板I之间预留有一定间隙区域，测试单元设置在该间隙区域中。该阵列基板在分割之前还需通过摩擦工艺形成配向膜，优选所述测试单元中子衬底的排列方向与所述配向膜的配向方向相同，以减小摩擦工艺中因摩擦产生的静电放电。这里应该理解的是，其中所述子衬底的栅状结构或树状结构在玻璃基板上的方向可以任意变化，例如，本实施例图3所示为横向排列，但并非限制为横向排列，栅状结构或树状结构的排列方向也可以设置为纵向排列，甚至可以设置为斜向排列。该子衬底的栅状结构或树状结构的排列方向可以根据阵列基板形成配向膜的摩擦方向进行调整，优选以使静电放电发生情况降为最低为最佳方向。实施例2:本实施例与实施例1的区别在于，本实施例中测试单元中的测试信号线和衬底均为栅状结构。本实施例中所述测试信号线为多条子测试信号线，该多条子测试信号线的一端与所述衬底连接，另一端联结在一起并与待测试对象连接。其中，当所述衬底为由多个条状子衬底构成的栅状结构时，所述多条线的一端与所述多个子衬底一一连接。如图4所示，该所述测试信号线为多个条状子测试信号线9，各子测试信号线9的一端联结在一起并与待测试对象连接，另一端分别与一个以上所述子衬底8连接。与实施例1相同，出于工艺方便考量，多条所述子测试信号线沿其延伸方向平行间隔排列，各所述子衬底的排列方向与所述子测试信号线的排列方向垂直。本实施例中测试单元的其他结构与实施例1相同，这里不再赘述。一种阵列基板，包括按矩阵规则排列的多个薄膜晶体管以及用于对所述多个薄膜晶体管进行电性能测试的测试单元，所述测试单元采用上述的测试单元。实施例3:本实施例与实施例1的区别在于，本实施例中测试单元中仅测试信号线为栅状结构。如图5所示，所述测试信号线为单条线，该单条线的一端与所述衬底连接。即本实施例中所述测试信号线在与所述子衬底连接的一端的多个条状子测试信号线9，各子测试信号线9的一端联结在一起并与待测试对象连接，另一端分别与所述衬底6连接。一种阵列基板，包括按矩阵规则排列的多个薄膜晶体管以及用于对所述多个薄膜晶体管进行电性能测试的测试单元，所述测试单元采用上述的测试单元。本实用新型中的测试单元，相比现有技术而言，将末端�？橹谐牡缀�/或测试信号线设置为分叉结构，在不影响测试信号输入的前提下，有效减小测试单元金属薄膜的面积，既保证了探针与测试单元点接触的成功率，又避免了在后续摩擦工艺中因该测试单元与摩擦绒毛接触面积过大而产生静电放电，有效地降低了摩擦工艺缺陷的发生，提高了产品良率。本实用新型实施例中所述的测试单元尤其适用于在液晶显示器制作工艺中，阵列基板中的TFT制作完成后、进行后续摩擦工艺之前，作为引入检测TFT所需的测试信号使用，也适用于在液晶显示装置中作为阵列基板的电信号引入使用。可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种测试单元，该测试单元包括用于与探针相接触的末端模块，其特征在于，所述末端�？槲植娼峁�。
2.根据权利要求1所述的测试单元，其特征在于，所述末端模块包括与所述探针接触的衬底以及测试信号线，所述测试信号线的一端与所述衬底连接，另一端与待测试对象连接。
3.根据权利要求2所述的测试单元，其特征在于，所述衬底为由多个条状子衬底构成的栅状结构，所述测试信号线的所述一端与该多个子衬底的一端连接。
4.根据权利要求2所述的测试单元，其特征在于，所述衬底为由多个条状子衬底构成的树状结构，所述测试信号线的所述一端与该树状结构的根节点连接。
5.根据权利要求2所述的测试单元，其特征在于，所述测试信号线为单条线，该单条线的一端与所述衬底连接，另一端与待测试对象连接。
6.根据权利要求2所述的测试单元，其特征在于，所述测试信号线为多条子测试信号线，该多条子测试信号线的一端与所述衬底连接，另一端联结在一起并与待测试对象连接；其中，当所述衬底为由多个条状子衬底构成的栅状结构时，所述多条线的一端与所述多个子衬底 连接。
7.根据权利要求1-6任一所述的测试单元，其特征在于，相邻所述子衬底之间的间隔距离设置为:使得任意相邻的两个子衬底均能够同时与所述探针相接触。
8.根据权利要求7所述的测试单元，其特征在于，相邻所述子衬底之间的间隔距离相同。
9.一种阵列基板，包括多个薄膜晶体管以及用于对所述多个薄膜晶体管进行测试的测试单元，其特征在于，所述测试单元采用权利要求1-8任一所述的测试单元。
专利摘要本实用新型提供一种测试单元，该测试单元包括用于与探针相接触的末端�？椋瞿┒四？槲植娼峁�。其中，所述末端�？榘ㄓ胨鎏秸虢哟サ某牡滓约安馐孕藕畔撸霾馐孕藕畔叩囊欢擞胨龀牡琢樱硪欢擞氪馐远韵罅�。还包括一种采用该测试单元的阵列基板。采用该测试单元，既能保证探针与测试单元点接触成功率，又能避免在后续摩擦工艺中该测试单元与摩擦绒毛接触面积过大而产生静电放电，提高了产品良率。
文档编号G01R1/06GK202975527SQ20122066162
公开日2013年6月5日 申请日期2012年12月4日 优先权日2012年12月4日
发明者范延江 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司
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